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真空镀膜技术的现状及发展 被引量:23
1
作者 王银川 《现代仪器》 2000年第6期1-4,共4页
本文介绍了真空下各种镀膜技术的基本概念,讨论了各种镀膜装置的镀膜方式、特点和应用及真空镀膜技术的发展现状及趋势。
关键词 真空镀膜技术 真空蒸发 溅射镀膜 离子镀膜
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磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响 被引量:16
2
作者 王璘 余欧明 +2 位作者 杭凌侠 赵保平 王忠厚 《真空》 CAS 北大核心 2004年第1期9-12,共4页
沉积速率是磁控溅射镀膜技术中的一项重要指标 ,它由许多因素决定。为了定性地了解沉积速率与工作气压之间的关系 ,通过实验测定了不同工作气压下的沉积速率 ,发现存在一个最大值 ,并对应有一个最佳工作气压。运用气体放电理论对这一现... 沉积速率是磁控溅射镀膜技术中的一项重要指标 ,它由许多因素决定。为了定性地了解沉积速率与工作气压之间的关系 ,通过实验测定了不同工作气压下的沉积速率 ,发现存在一个最大值 ,并对应有一个最佳工作气压。运用气体放电理论对这一现象进行了分析。这个结论为提高薄膜制备效率指明了方向 。 展开更多
关键词 磁控溅射镀膜 沉积速率 工作气压 磁场
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溅射靶材的制备及应用研究 被引量:27
3
作者 金永中 刘东亮 陈建 《四川理工学院学报(自然科学版)》 CAS 2005年第3期22-24,共3页
随着电子及信息产业迅猛发展,全球溅射靶材的需求量越来越多。文章介绍了靶材的分类、制备方法和应用情况,并指出了目前溅射靶材急需解决的几个重大问题。
关键词 溅射 靶材制备 集成电路 平面显示器 光学镀膜
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直流磁控溅射镀膜在玻璃涂层技术中的应用 被引量:6
4
作者 侯鹤岚 《真空》 CAS 北大核心 2001年第1期18-22,共5页
本文在探讨镀膜玻璃一些基本问题的基础上 ,阐述了磁控溅射在玻璃涂层技术中的应用机理、靶的结构、靶材的选取、提高膜层质量以及镀膜玻璃的应用及发展前景等问题。
关键词 镀膜玻璃 直流磁控溅射 玻璃涂层 镀膜技术
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溅射Ni-8Cr-3.5Al纳米晶涂层的抗高温氧化行为 被引量:10
5
作者 陈国锋 楼翰一 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期59-61,共3页
对Ni-8Cr-3.5Al(质量分数,%)合金及其纳米晶涂层进行了1000℃空气中高温氧化研究结果表明:Ni-8Cr-3.5Al纳米晶涂层的抗高温氧化性能优于 Ni-8Cr—3.5Al合金.这主要在于 Ni--8Cr—... 对Ni-8Cr-3.5Al(质量分数,%)合金及其纳米晶涂层进行了1000℃空气中高温氧化研究结果表明:Ni-8Cr-3.5Al纳米晶涂层的抗高温氧化性能优于 Ni-8Cr—3.5Al合金.这主要在于 Ni--8Cr—3.5Al纳米晶涂层表面生成了具有分层结构含一连续a-Al2O3内层的氧化膜、而 Ni-8Cr—3.5Al合金则生成了由 Cr2O3外层和 Al2O3内氧化物组成的氧化膜. 展开更多
关键词 溅射 纳米晶涂层 高温氧化 镍基 高温合金
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工作参数对平面磁控溅射系统沉积速率的影响 被引量:13
6
作者 邱清泉 励庆孚 +2 位作者 苏静静 Jiao Yu Finley Jim 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期46-51,共6页
为了分析磁场、阴极电压、气压和靶基板间距等工作参数对沉积速率的影响,本文对磁控放电过程和沉积过程进行了讨论,并着重对沉积速率计算的无碰撞模型和碰撞模型进行了研究。靶功率是影响沉积速率的关键因素,通过对磁控放电特性分析发现... 为了分析磁场、阴极电压、气压和靶基板间距等工作参数对沉积速率的影响,本文对磁控放电过程和沉积过程进行了讨论,并着重对沉积速率计算的无碰撞模型和碰撞模型进行了研究。靶功率是影响沉积速率的关键因素,通过对磁控放电特性分析发现,随着磁场、电压的增大,等离子体阻抗降低,放电电流和靶功率增大,随着气压的增大,放电电流和靶功率先增大后减小;采用碰撞模型对沉积速率进行模拟发现,在靶功率恒定的情况下,沉积速率随着气压和靶基板间距的增大而减小。因此,在气压和靶基板间距保持恒定的情况下,沉积速率会随着磁场和电压的增大而增大;而在磁场、电压和靶基板间距保持恒定的情况下,沉积速率随着气压的增大,先增大后减小。上述结论对于薄膜制备效率和质量的提高具有一定的理论指导意义。 展开更多
关键词 磁控溅射 镀膜 沉积速率 仿真
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刀具表面磁控溅射CrN涂层及其耐磨性能研究 被引量:15
7
作者 钟厉 龙永杰 韩西 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第10期151-156,共6页
目的提高刀具耐磨性能,延长刀具材料的使用寿命,减小刀具在加工过程中的磨损。方法采用射频磁控溅射法在高速钢刀具表面沉积Cr N涂层,用XRD、FESEM等分析涂层的组织结构与微观形貌,用X射线谱仪(EDS)测量涂层成分含量及其分布,用划痕仪... 目的提高刀具耐磨性能,延长刀具材料的使用寿命,减小刀具在加工过程中的磨损。方法采用射频磁控溅射法在高速钢刀具表面沉积Cr N涂层,用XRD、FESEM等分析涂层的组织结构与微观形貌,用X射线谱仪(EDS)测量涂层成分含量及其分布,用划痕仪测定膜基结合力,用球-盘磨损仪进行磨损实验。探讨不同摩擦条件下涂层的耐磨性能,探究不同摩擦条件对未镀膜刀具与镀膜刀具摩擦学性能的影响,对比分析摩擦系数、磨痕深度、磨痕宽度随参数变化的规律。结果磁控溅射制备出结构致密、轮廓清晰、表面平整度趋于光滑的Cr N涂层,涂层呈现三角锥形貌,具有明显的Cr N(111)择优取向,膜基结合力为31.6 N。磨损试验表明,高载荷条件下(载荷5N),未镀膜刀具磨损较严重,磨痕颜色较深,磨痕深度与宽度分别为27.6、980.2μm,摩擦系数为0.498。镀膜刀具磨痕两侧只有轻微的犁沟和较少的磨屑堆积,表面磨痕颜色较浅,磨损轻微,磨痕深度与宽度分别为2.25、570.8μm,摩擦系数为0.314。结论在高速钢刀具表面沉积CrN涂层能显著提高刀具的耐磨性能,刀具在磨损试验中磨痕深度、磨痕宽度和摩擦系数均较小。 展开更多
关键词 高速钢刀具 磁控溅射 CRN涂层 耐磨性能 微观形貌
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磁控溅射技术制备CrAlN涂层的研究进展 被引量:14
8
作者 金浩 张莹莹 +1 位作者 时卓 张罡 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期54-59,共6页
概述了采用不同磁控溅射技术制备CrAlN涂层的国内外研究现状与发展趋势,重点分析了CrAlN涂层的结构、力学性能、涂层氧化行为与耐腐蚀性能。提出了不同磁控溅射制备工艺的进一步优化结合和新型磁控溅射制备工艺的研究是未来磁控溅射技... 概述了采用不同磁控溅射技术制备CrAlN涂层的国内外研究现状与发展趋势,重点分析了CrAlN涂层的结构、力学性能、涂层氧化行为与耐腐蚀性能。提出了不同磁控溅射制备工艺的进一步优化结合和新型磁控溅射制备工艺的研究是未来磁控溅射技术制备CrAlN涂层的新趋势,在进一步提高CrAlN涂层性能的基础上,需深入探究该类硬度涂层的工业新应用潜力。 展开更多
关键词 磁控溅射 CRALN 涂层
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真空热处理对镍基单晶高温合金溅射NiCrAlY涂层抗氧化性能的影响 被引量:13
9
作者 李美姮 张重远 +4 位作者 孙晓峰 胡望宇 金涛 管恒荣 胡壮麒 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 2002年第3期153-157,共5页
用磁控溅射法在镍基单晶高温合金基体上沉积NiCrAlY涂层 ,研究了真空热处理对涂层组织结构及抗氧化性能的影响 .结果表明 ,溅射NiCrAlY涂层主要由γ -Ni和 β -NiAl两相组成 ,元素分布均匀 ;经真空热处理后 ,涂层主要由γ′-Ni3 Al、β ... 用磁控溅射法在镍基单晶高温合金基体上沉积NiCrAlY涂层 ,研究了真空热处理对涂层组织结构及抗氧化性能的影响 .结果表明 ,溅射NiCrAlY涂层主要由γ -Ni和 β -NiAl两相组成 ,元素分布均匀 ;经真空热处理后 ,涂层主要由γ′-Ni3 Al、β -NiAl相和极少量的α-Al2 O3 相组成 ,元素分布变得不均匀 ,最外层富Al贫Cr .真空热处理可使溅射NiCrAlY涂层表面较早生成保护性能良好的α -Al2 O3 .10 0 0℃氧化 2 0 0h ,溅射涂层氧化膜有较大部分已经剥落 ,但真空热处理涂层的氧化膜仍较好地粘附在涂层基体上 .真空热处理使溅射NiCrAlY涂层表面生成的氧化膜粘附性更好 。 展开更多
关键词 真空热处理 镍基单晶高温合金 溅射 NICRALY涂层 抗氧化性
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电磁波屏蔽织物的溅射/化学复合镀膜技术 被引量:13
10
作者 周菊先 《印染》 北大核心 2008年第5期1-6,共6页
阐述了制备电磁屏蔽织物的溅射/化学复合镀膜的原理及技术,探讨了影响复合镀膜的工艺因素,等离子体前处理对膜层的性能影响,以及吸波材料对膜保护层的性能增效作用。试验表明,等离子体前处理、真空溅射镀膜、化学镀膜等多种技术的... 阐述了制备电磁屏蔽织物的溅射/化学复合镀膜的原理及技术,探讨了影响复合镀膜的工艺因素,等离子体前处理对膜层的性能影响,以及吸波材料对膜保护层的性能增效作用。试验表明,等离子体前处理、真空溅射镀膜、化学镀膜等多种技术的复合,能获得镀膜坚牢、宽频(1~18GHz)和高效能(1〉90dB)的电磁屏蔽织物。 展开更多
关键词 染整 电磁辐射 溅射镀膜 化学镀膜 等离子体 防护织物
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磁控溅射镀膜织物的电磁屏蔽性能研究进展 被引量:13
11
作者 谭学强 刘建勇 +2 位作者 刘佳音 赵笑康 黄烨 《针织工业》 北大核心 2018年第1期37-42,共6页
磁控溅射作为一种低温高速溅射技术,是新型的织物表面改性方法。通过对镀膜织物电磁屏蔽机理,以及镀膜织物电磁屏蔽效能测试方法的介绍,对利用磁控溅射法制备防电磁辐射纺织品的研究现状进行了分析,探讨了靶材材质、织物厚度、等离子体... 磁控溅射作为一种低温高速溅射技术,是新型的织物表面改性方法。通过对镀膜织物电磁屏蔽机理,以及镀膜织物电磁屏蔽效能测试方法的介绍,对利用磁控溅射法制备防电磁辐射纺织品的研究现状进行了分析,探讨了靶材材质、织物厚度、等离子体前处理等因素对电磁屏蔽效能的影响。最后对磁控溅射技术用于制备电磁屏蔽织物存在的问题和发展趋势进行总结,指出多功能化、高效性以及复合化技术是磁控溅射镀膜电磁屏蔽织物未来研究的重点。 展开更多
关键词 磁控溅射 镀膜 织物 电磁屏蔽
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Preparation of Ti_2AlC MAX Phase Coating by DC Magnetron Sputtering Deposition and Vacuum Heat Treatment 被引量:11
12
作者 Zongjian Feng Peiling Ke Aiying Wang 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第12期1193-1197,共5页
Due to the excellent corrosion resistance and high irradiation damage resistance,Ti 2AlC MAX phase is considered as a candidate for applications as corrosion resistant and irradiation resistant protective coating.MAX ... Due to the excellent corrosion resistance and high irradiation damage resistance,Ti 2AlC MAX phase is considered as a candidate for applications as corrosion resistant and irradiation resistant protective coating.MAX phase coatings can be fabricated through firstly depositing a coating containing the three elements M,A,and X close to stoichiometry of the MAX phases using physical vapor deposition,followed by heat treatment in vacuum.In this work,Ti-Al-C coating was prepared on austenitic stainless steels by reactive DC magnetron sputtering with a compound Ti (50)Al (50) target,and CH4 used as the reactive gas.It was found that the as-deposited coating is mainly composed of Ti 3AlC antiperovskite phase with supersaturated solid solution of Al.Additionally,the ratio of Ti/Al remained the same as that of the target composition.Nevertheless,a thicker thermally grown Ti 2AlC MAX phase coating was obtained after being annealed at 800℃ in vacuum for 1 h.Meanwhile,the ratio of Ti/Al became close to stoichiometry of Ti 2AlC MAX phases.It can be understood that owing to the higher activity of Al,it diffused quickly into the substrate during annealing,and then more stable Ti 2AlC MAX phases transformed from the Ti 3AlC antiperovskite phase. 展开更多
关键词 TI2ALC MAX phase coating Magnetron sputtering Microstructure
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磁控溅射MoS_2薄膜的生长特性研究 被引量:9
13
作者 王吉会 杨静 《润滑与密封》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期12-14,23,共4页
利用非平衡磁控溅射技术制备出二硫化钼薄膜,并通过扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了工作气压和沉积时间对薄膜表面形貌和结构的影响及其演化规律。实验结果表明,在小于0.40 Pa的气压下,沉积MoS2薄膜的(002)面平行于基体表面,而在高于... 利用非平衡磁控溅射技术制备出二硫化钼薄膜,并通过扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了工作气压和沉积时间对薄膜表面形貌和结构的影响及其演化规律。实验结果表明,在小于0.40 Pa的气压下,沉积MoS2薄膜的(002)面平行于基体表面,而在高于0.60 Pa的高气压下,膜层的(002)面垂直于基体表面。在沉积初期,无论工作气压的高低,薄膜均按(002)基面的方式生长;在沉积后期,低气压下形成的薄膜仍按(002)基面方式生长,而在高气压下薄膜将转向以(002)基面与(100)或(110)棱面联合的方式生长。薄膜的表面形貌、微观结构,与薄膜的生长速率和沉积粒子的能量有关。 展开更多
关键词 磁控溅射 二硫化钼 薄膜 生长规律
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不同成分CrMoN涂层对模具钢表面性能的影响 被引量:9
14
作者 陈智勇 施雯 张键 《上海金属》 CAS 2010年第4期9-12,15,共5页
采用非平衡磁控溅射方法在H13钢和SDC99钢表面制备不同Mo含量的CrMoN涂层,采用HX-1000型显微硬度计、V-LUX1000型原位纳米力学测试系统测定涂层的显微硬度和纳米硬度,并通过划痕和摩擦磨损试验考察了涂层与基体的结合强度及其摩擦磨损... 采用非平衡磁控溅射方法在H13钢和SDC99钢表面制备不同Mo含量的CrMoN涂层,采用HX-1000型显微硬度计、V-LUX1000型原位纳米力学测试系统测定涂层的显微硬度和纳米硬度,并通过划痕和摩擦磨损试验考察了涂层与基体的结合强度及其摩擦磨损性能。结果表明,不同Mo含量的CrMoN涂层均能明显地提高基体的承载能力和耐磨性能,其中Mo含量为20.72at%的涂层承载能力、同基体的结合力以及耐磨损性均最好,基体硬度更高的SDC99钢表面涂层性能比H13钢的更好。 展开更多
关键词 磁控溅射 CrMoN涂层 模具钢 摩擦磨损
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多重空心阴极溅射靶及其应用 被引量:5
15
作者 王从曾 马捷 苏学宽 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期17-19,共3页
研制了一种由多个空心阴极并列组合而成的可直接作为溅射靶的多重空心阴极溅射靶。其溅射输出量可用靶电压、气压及空心阴极的高度和宽度的比值控制。将多重空心阴极溅射靶应用于双辉离子金属渗镀试验。结果表明 ,这种方法可以加速金属... 研制了一种由多个空心阴极并列组合而成的可直接作为溅射靶的多重空心阴极溅射靶。其溅射输出量可用靶电压、气压及空心阴极的高度和宽度的比值控制。将多重空心阴极溅射靶应用于双辉离子金属渗镀试验。结果表明 ,这种方法可以加速金属渗镀层的形成。在靶电流密度较大的条件下 。 展开更多
关键词 多重空心阴极 溅射 镀膜 合金化 溅射靶
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镁合金表面Ni+C涂层的耐腐蚀与耐磨性能研究 被引量:9
16
作者 冯凯 李铸国 张超 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期28-33,共6页
目的提高镁合金表面的耐腐蚀和耐磨损性能。方法采用非平衡磁控溅射离子镀技术与化学镀技术相结合,在GW83镁合金表面制备Ni+C复合膜层。通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析了薄膜的形貌、成分和结构。利用电化学和浸泡后ICP-AES测试,评... 目的提高镁合金表面的耐腐蚀和耐磨损性能。方法采用非平衡磁控溅射离子镀技术与化学镀技术相结合,在GW83镁合金表面制备Ni+C复合膜层。通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析了薄膜的形貌、成分和结构。利用电化学和浸泡后ICP-AES测试,评价了该复合碳膜涂层的耐腐蚀性能。同时采用摩擦磨损试验获得Ni+C复合膜层的磨损寿命。结果 Ni+C复合膜层致密均匀,表面孔隙率极低,表面碳层为典型的类石墨膜并且含有大量的无序结构。相对于GW83镁合金来说,Ni+C复合膜层的存在导致在3.5%Na Cl溶液中的腐蚀电位正移了301 m V,腐蚀电流密度从186μA/cm2降低至11μA/cm2。浸渍后ICP-AES试验显示,Ni+C涂覆的镁合金GW83的金属离子释放量更低。摩擦磨损试验表明,Ni+C涂层的磨损寿命为7000 s,与镁合金基体相比,Ni+C复合涂层极大地提高了其磨损寿命。结论在该Ni+C复合膜层中,表面碳层较致密,与Ni层结合良好,显著提高了基体的耐腐蚀性能。此外由于存在较厚的Ni中间层,对膜层起到了较大的支撑作用,Ni+C复合膜层从而延长了基体镁合金的磨损寿命。 展开更多
关键词 镁合金 磁控溅射 C膜 Ni镀层 耐腐蚀性 耐磨性
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碳掺杂对CrN镀层显微硬度与组织结构的影响 被引量:9
17
作者 胡鹏飞 蒋百灵 李洪涛 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期158-162,共5页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱和透射电镜对镀层进行了分析。结果表明:当C靶电流由0增加到1.5 A时,镀层显... 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱和透射电镜对镀层进行了分析。结果表明:当C靶电流由0增加到1.5 A时,镀层显微硬度由1930 HV增加到2300 HV,提高约19%,并且镀层的颗粒明显变小;X射线衍射和透射电镜分析表明,随着C靶电流增大,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,镀层碳元素主要以sp2键、sp3键和C-Cr键的形式存在。 展开更多
关键词 磁控溅射 CrCN镀层 原子力显微镜 X射线衍射 X射线光电子能谱
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γ-TiAl合金磁控溅射Al涂层的抗高温氧化性能 被引量:9
18
作者 于修水 梁文萍 +3 位作者 缪强 徐一 任蓓蕾 王玲 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2013年第8期21-25,共5页
采用磁控溅射技术在γ-TiAl合金表面制备Al涂层并进行扩散退火处理后,研究涂层对γ-TiAl合金的高温抗氧化性能的影响。利用SEM、EDS和XRD分析涂层氧化前后的显微组织、化学成分及相组成。γ-TiAl合金磁控溅射Al涂层后,表面形成厚度约为1... 采用磁控溅射技术在γ-TiAl合金表面制备Al涂层并进行扩散退火处理后,研究涂层对γ-TiAl合金的高温抗氧化性能的影响。利用SEM、EDS和XRD分析涂层氧化前后的显微组织、化学成分及相组成。γ-TiAl合金磁控溅射Al涂层后,表面形成厚度约为10μm致密均匀、无裂纹的纯铝层。在真空600℃下扩散退火处理24 h,形成厚度约为11μm无裂纹的扩散层。结果表明:900℃空气中氧化110 h后,无涂层γ-TiAl合金表面生成疏松的Al2O3和TiO2混合氧化物,其抗高温氧化性能差;涂层试样表面氧化膜没有翘起和剥落现象,表层由氧化铝组成,次表层为扩散生成的富Al相和少量TiO2,γ-TiAl合金的高温氧化性得到改善。 展开更多
关键词 Γ-TIAL合金 磁控溅射 Al层 高温氧化
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溅射靶的开发与应用 被引量:4
19
作者 侯鹤岚 张世伟 +2 位作者 李云奇 刘革 张振厚 《真空》 CAS 北大核心 2000年第1期37-39,共3页
本文就溅射靶的分类、选用靶材的原则及常用几种靶的制备等问题进行了探讨。
关键词 溅射镀膜 制靶技术 靶材 溅射靶
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AZ91镁合金表面微弧氧化与磁控溅射镀铜复合处理层的微观组织与性能 被引量:8
20
作者 王志虎 白力静 +1 位作者 王爱玲 张国君 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期2561-2566,共6页
采用微弧氧化技术在AZ91镁合金表面制备陶瓷涂层,然后在该涂层表面通过磁控溅射镀铜技术制备复合膜层。研究了微弧氧化陶瓷层和复合膜层的表面物相组成、表面粗糙度、表面及截面形貌、表面润湿性及电化学性能。结果表明:AZ91镁合金经微... 采用微弧氧化技术在AZ91镁合金表面制备陶瓷涂层,然后在该涂层表面通过磁控溅射镀铜技术制备复合膜层。研究了微弧氧化陶瓷层和复合膜层的表面物相组成、表面粗糙度、表面及截面形貌、表面润湿性及电化学性能。结果表明:AZ91镁合金经微弧氧化处理后由于微弧氧化陶瓷层呈微纳粗糙多孔结构,表现为亲水特性,其物相由MgO、Mg及Mg_2SiO_4组成;而微弧氧化陶瓷层经磁控溅射镀铜处理后表面获得较为致密的具有疏水特性的铜层,表面粗糙度降低;四探针测试结果说明复合膜层的方阻为16.2 m?·^(-1),导电性良好;动电位极化曲线测试结果说明复合膜层与基体镁合金相比,其腐蚀电流密度降低10%,腐蚀电位提高了约0.36 V,腐蚀极化电阻提高约80倍;与微弧氧化陶瓷层相比,复合膜层的腐蚀电位提高了约0.24 V,但其腐蚀电流密度和腐蚀极化电阻有所下降。研究结果表明,微弧氧化与磁控溅射镀铜相结合的复合处理技术可在不降低镁合金陶瓷层耐蚀性的基础上显著提高其表面的导电性能。 展开更多
关键词 镁合金 微弧氧化 磁控溅射 复合膜层 耐蚀性
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