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双层外延材料参数的选择
1
作者
金德霖
《微电子技术》
1997年第4期50-53,共4页
关键词
双极型
双极晶体管
双层外延材料
下载PDF
职称材料
用于HBT的SiGe合金材料层的腐蚀工艺研究
被引量:
1
2
作者
欧益宏
刘道广
李开成
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第2期76-78,共3页
探索利用反应离子刻蚀 ( RIE)和湿法腐蚀 Si1-x Gex 合金材料的工艺条件。对两种腐蚀方法的利弊进行了对比 ,找出腐蚀 Si1-x Gex 合金材料的实用化途径 ,并且解决了不同 Ge含量的 Si1-x Gex
关键词
硅-锗合金
反应离子刻蚀
异质结
双极晶体管
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职称材料
用AES/XPS对异质结材料的研究
被引量:
1
3
作者
任殿胜
严如岳
+1 位作者
华庆恒
刘咏梅
《半导体情报》
1997年第6期42-45,共4页
用俄歇电子能谱(AES)和x射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As...
用俄歇电子能谱(AES)和x射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As和Al的择优溅射问题,并对此进行了讨论。同时用XPS法进行了Al的定量分析,并与光致发光法(PL)测得的x值进行了对比。
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关键词
异质结
X射线
光电子能谱
双极晶体管
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职称材料
题名
双层外延材料参数的选择
1
作者
金德霖
机构
中国华晶电子集团公司分立器件总厂
出处
《微电子技术》
1997年第4期50-53,共4页
关键词
双极型
双极晶体管
双层外延材料
分类号
TN322.804 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
用于HBT的SiGe合金材料层的腐蚀工艺研究
被引量:
1
2
作者
欧益宏
刘道广
李开成
机构
信息产业部电子第二十四研究所
模拟集成电路国家重点实验室
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第2期76-78,共3页
文摘
探索利用反应离子刻蚀 ( RIE)和湿法腐蚀 Si1-x Gex 合金材料的工艺条件。对两种腐蚀方法的利弊进行了对比 ,找出腐蚀 Si1-x Gex 合金材料的实用化途径 ,并且解决了不同 Ge含量的 Si1-x Gex
关键词
硅-锗合金
反应离子刻蚀
异质结
双极晶体管
Keywords
SiGe alloy
HBT
Reactive ion etching
Molecular beam epitaxy
分类号
TN322.804 [电子电信—物理电子学]
TN304.2
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职称材料
题名
用AES/XPS对异质结材料的研究
被引量:
1
3
作者
任殿胜
严如岳
华庆恒
刘咏梅
机构
电子工业部第四十六研究所
出处
《半导体情报》
1997年第6期42-45,共4页
文摘
用俄歇电子能谱(AES)和x射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As和Al的择优溅射问题,并对此进行了讨论。同时用XPS法进行了Al的定量分析,并与光致发光法(PL)测得的x值进行了对比。
关键词
异质结
X射线
光电子能谱
双极晶体管
Keywords
Heterojunction XPS
分类号
TN322.804 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双层外延材料参数的选择
金德霖
《微电子技术》
1997
0
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职称材料
2
用于HBT的SiGe合金材料层的腐蚀工艺研究
欧益宏
刘道广
李开成
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2000
1
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职称材料
3
用AES/XPS对异质结材料的研究
任殿胜
严如岳
华庆恒
刘咏梅
《半导体情报》
1997
1
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职称材料
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