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新型复合显影金属剥离工艺的研究 被引量:2
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作者 刘浩 高鹏飞 +2 位作者 郝腾 张立影 赵雪娟 《中国标准化》 2020年第S01期362-366,共5页
金属剥离工艺因其精确的线宽控制,低晶体损伤等优点,广泛应用于半导体光电器件电极制作工艺中。表面异物残留是影响金属剥离工艺质量的主要因素。本文分析了残留物形成的原因和机理,开发了复合显影金属剥离工艺,通过改进顶层光刻胶胶型... 金属剥离工艺因其精确的线宽控制,低晶体损伤等优点,广泛应用于半导体光电器件电极制作工艺中。表面异物残留是影响金属剥离工艺质量的主要因素。本文分析了残留物形成的原因和机理,开发了复合显影金属剥离工艺,通过改进顶层光刻胶胶型,改善了顶层光刻胶侧壁金属膜致密性。显著降低了>5μm尺寸的缺陷数量,总缺陷数量较常规金属剥离工艺降低了87.5%,提高了金属剥离工艺质量。 展开更多
关键词 金属剥离 复合显影 接触角 表面洁净度
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3D Micro-LED显示研究
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作者 徐意 黄锦鹏 汪炼成 《微纳电子与智能制造》 2021年第3期111-119,共9页
3D显示代表着显示技术和产品发展前沿,Micro-LED被认为是最具潜力的显示技术,3D Micro-LED则同时具有3D显示的特征和Micro-LED的优势。本文介绍了3D显示技术及3D Micro-LED显示相关的像素器件设计等研究,希望促进3D Micro-LED显示的发... 3D显示代表着显示技术和产品发展前沿,Micro-LED被认为是最具潜力的显示技术,3D Micro-LED则同时具有3D显示的特征和Micro-LED的优势。本文介绍了3D显示技术及3D Micro-LED显示相关的像素器件设计等研究,希望促进3D Micro-LED显示的发展和技术进步。 展开更多
关键词 3D显示 Micro-LED 3D Micro-LED
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NDRHBT及其构成的单-双稳转换逻辑单元 被引量:1
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作者 郭维廉 关薇 +4 位作者 牛萍娟 张世林 齐海涛 陈乃金 王伟 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期154-158,共5页
设计并研制了InGaP/GaAs/InGaP超薄基区(8nm)负阻异质结晶体管(UTBNDRHBT)。并用它构成一个单-双稳转换逻辑单元(Monostable-bistable transition logic element,简称MOBILE)。经过测试,证实其具有与GRTD、RTD/HEMT构成的MOBILE相类似... 设计并研制了InGaP/GaAs/InGaP超薄基区(8nm)负阻异质结晶体管(UTBNDRHBT)。并用它构成一个单-双稳转换逻辑单元(Monostable-bistable transition logic element,简称MOBILE)。经过测试,证实其具有与GRTD、RTD/HEMT构成的MOBILE相类似的逻辑功能。 展开更多
关键词 异质结晶体管 负阻器件 单-双稳转换逻辑单元
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基于静电键合过程模型的工艺仿真
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作者 陈伟平 张丹 +1 位作者 刘晓为 揣荣岩 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期270-271,共2页
介绍了静电键合工艺仿真模型及其过程仿真,对平板电极、单点电极、多点电极的键合电流和键合进程进行了建模,采用动态工艺数据库方法完成了三种静电键合工艺下的可视化编程,实现了静电键合过程的可视化仿真与工艺CAD.
关键词 CAD 静电键合 工艺仿真 工艺数据库
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Study on Surface Morphology of GaN Growth by MOCVD on GaN/Si(111)Template
5
作者 Liu Zhe Wang Junxi +6 位作者 Wang Xiaoliang Hu Guoxin Guo Lunchun Liu Hongxin Li Jianping Li Jinmin Zeng Yiping 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期11-13,共3页
The surface morphology of GaN grown by MOCVD on GaN/Si template was studied.Rough morphology and deep pinhole defects on some surface areas of the samples were observed and studied.The formation of rough morphology is... The surface morphology of GaN grown by MOCVD on GaN/Si template was studied.Rough morphology and deep pinhole defects on some surface areas of the samples were observed and studied.The formation of rough morphology is possibly related to Ga-Si alloy produced due to poor thermal stability of template at high temperature.The deep pinhole defects generated are deep down to the surface of MBE-grown GaN/Si template.The stress originated from the large thermal expansion coefficient difference between GaN and Si may be related to the formation of the pinhole defects.The surface morphology of the GaN can be improved by optimizing the GaN/Si template and decreasing the growth temperature. 展开更多
关键词 surface morphology GaN/Si template GAN MOCVD
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Applications of Semiconductor Switches in Pulsed Power Technology 被引量:19
6
作者 孟志鹏 张自成 +1 位作者 杨汉武 钱宝良 《Chinese Physics C》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第z1期277-279,共3页
Pulsed power technology has an important trend in the world,which has high power,long pulse,high operating frequency and miniaturization.Thus all-solid-state pulsed power technologies based on semiconductor devices ha... Pulsed power technology has an important trend in the world,which has high power,long pulse,high operating frequency and miniaturization.Thus all-solid-state pulsed power technologies based on semiconductor devices have drawn more attention and widely used.This article introduces several kinds of semiconductor switches,such as SCR,IGBT,and SOS.The charging system based on SCR,the Marx generator,and pulsed transformer topology using IGBTs,and the system using SOS are described in detail.Some experimental results are also given.The use of semiconductor switches technology in solid state Marx generate can solve the disappointments such as short life time, low operating frequency,low reliability of conventional pulsed power equipments and has extensive perspective. 展开更多
关键词 semiconductor switch ALL-SOLID-STATE pulsed power
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Effects of microwave pulse-width damage on a bipolar transistor 被引量:3
7
作者 马振洋 柴常春 +3 位作者 任兴荣 杨银堂 陈斌 赵颖博 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第5期675-680,共6页
This paper presents a theoretical study of the pulse-width effects on the damage process of a typical bipolar transistor caused by high power microwaves(HPMs) through the injection approach.The dependences of the mi... This paper presents a theoretical study of the pulse-width effects on the damage process of a typical bipolar transistor caused by high power microwaves(HPMs) through the injection approach.The dependences of the microwave damage power,P,and the absorbed energy,E,required to cause the device failure on the pulse width τ are obtained in the nanosecond region by utilizing the curve fitting method.A comparison of the microwave pulse damage data and the existing dc pulse damage data for the same transistor is carried out.By means of a two-dimensional simulator,ISE-TCAD,the internal damage processes of the device caused by microwave voltage signals and dc pulse voltage signals are analyzed comparatively.The simulation results suggest that the temperature-rising positions of the device induced by the microwaves in the negative and positive half periods are different,while only one hot spot exists under the injection of dc pulses.The results demonstrate that the microwave damage power threshold and the absorbed energy must exceed the dc pulse power threshold and the absorbed energy,respectively.The dc pulse damage data may be useful as a lower bound for microwave pulse damage data. 展开更多
关键词 bipolar transistor high power microwave pulse width effects
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Substrate-bias effect on the breakdown characteristic in a new silicon high-voltage device structure
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作者 李琦 王卫东 +1 位作者 赵秋明 韦雪明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2012年第5期48-52,共5页
A novel silicon double-RESURF LDMOS structure with an improved breakdown characteristic by substrate bias technology(SB) is reported.The P-type epitaxial layer is embedded between an N-type drift region and an N-typ... A novel silicon double-RESURF LDMOS structure with an improved breakdown characteristic by substrate bias technology(SB) is reported.The P-type epitaxial layer is embedded between an N-type drift region and an N-type substrate to block the conduction path in the off-state and change the distributions of the bulk electric field.The substrate bias strengthens the charge share effect of the drift region near the source,and the vertical electric field peak under the drain is decreased,which is especially helpful in improving the vertical breakdown voltage in a lateral power device with a thin drift region.The numerical results by MEDICI indicate that the breakdown voltage of the proposed device is increased by 97%compared with a conventional LDMOS,while maintaining a low on-resistance. 展开更多
关键词 substrate bias breakdown voltage diode on-resistance
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高k介质在新型半导体器件中的应用 被引量:4
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作者 黄力 黄安平 +2 位作者 郑晓虎 肖志松 王玫 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第13期473-480,共8页
当CMOS器件特征尺寸缩小到45 nm以下,SiO_2作为栅介质材料已经无法满足性能和功耗的需要,用高k材料替代SiO_2是必然选择.然而,由于高k材料自身存在局限性,且与器件其他部分的兼容性差,产生了很多新的问题如界面特性差、阈值电压增大、... 当CMOS器件特征尺寸缩小到45 nm以下,SiO_2作为栅介质材料已经无法满足性能和功耗的需要,用高k材料替代SiO_2是必然选择.然而,由于高k材料自身存在局限性,且与器件其他部分的兼容性差,产生了很多新的问题如界面特性差、阈值电压增大、迁移率降低等.本文简要回顾了高k栅介质在平面型硅基器件中应用存在的问题以及从材料、结构和工艺等方面采取的解决措施,重点介绍了高k材料在新型半导体器件中的应用,并展望了未来的发展趋势. 展开更多
关键词 高K材料 FINFET 石墨烯器件 忆阻器
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EBAS-1型电子注分析仪数据采集及控制系统
10
作者 张今朝 张福安 《微细加工技术》 EI 2000年第2期8-12,共5页
简要介绍了电子注分析仪数据采集及控制系统的重要性和基本结构 ,然后着重介绍了该系统的软、硬件设置及其工作原理。
关键词 电子注分析仪 数据采集 系统
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SnO_2薄膜元件的制备及其气敏特性研究 被引量:3
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作者 龚炎芳 黄世震 +2 位作者 林伟 许增哲 陈知前 《福州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2000年第1期28-31,共4页
采用溶胶一凝胶法,以氯化锡(SnCl2。)和无水乙醇为反应起始物,经过加热回流、热处理等工艺.制备出了掺硅和锑的氧化锡(SnO2)气敏薄膜,并制成了气敏元件.元件性能测试表明.材料对H2具有较高的灵敏度和选择性、较好... 采用溶胶一凝胶法,以氯化锡(SnCl2。)和无水乙醇为反应起始物,经过加热回流、热处理等工艺.制备出了掺硅和锑的氧化锡(SnO2)气敏薄膜,并制成了气敏元件.元件性能测试表明.材料对H2具有较高的灵敏度和选择性、较好的响应一恢复特性和稳定性. 展开更多
关键词 氧化锡 气敏薄膜 性能测试
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硫化物钝化GaAs表面的研究进展
12
作者 许春芳 卢学坤 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1991年第5期12-14,共3页
叙述用硫钝化GaAs表面的研究动态,包括表面处理工艺,已取得的效果及表面钝化的机理,并指出今后的研究内容。
关键词 GAAS 硫化物 钝化 半导体材料
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N^+缓冲层对PT-IGBT通态压降影响的研究
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作者 关艳霞 凌宇 《电子设计工程》 2013年第7期191-193,共3页
N+缓冲层设计对PT-IGBT器件特性的影响至关重要。文中利用Silvaco软件对PT-IGBT的I-V特性进行仿真。提取相同电流密度下,不同N+缓冲层掺杂浓度PT-IGBT的通态压降,得到了通态压降随N+缓冲层掺杂浓度变化的曲线,该仿真结果与理论分析一致... N+缓冲层设计对PT-IGBT器件特性的影响至关重要。文中利用Silvaco软件对PT-IGBT的I-V特性进行仿真。提取相同电流密度下,不同N+缓冲层掺杂浓度PT-IGBT的通态压降,得到了通态压降随N+缓冲层掺杂浓度变化的曲线,该仿真结果与理论分析一致。对于PT-IGBT结构,N+缓冲层浓度及厚度存在最优值,只要合理的选取可以有效地降低通态压降。 展开更多
关键词 Silvaco PT-IGBT N+缓冲层 通态压降 仿真
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4路长积分时间CCD成像电路的设计与实现
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作者 蔡模琴 程玉兰 孙德新 《红外》 CAS 2013年第4期28-33,共6页
基于CCD47-20和CCD55-30探测器设计了一种4路探测器成像电路。由于积分时间长,该系统可以在弱光条件下实现高灵敏度成像。建立了探测器的驱动电路模型,分析了CCD探测器对驱动的要求,以选择合适的驱动芯片;在分析探测器噪声特性的基础上... 基于CCD47-20和CCD55-30探测器设计了一种4路探测器成像电路。由于积分时间长,该系统可以在弱光条件下实现高灵敏度成像。建立了探测器的驱动电路模型,分析了CCD探测器对驱动的要求,以选择合适的驱动芯片;在分析探测器噪声特性的基础上,通过相关双采样法和合理的滤波器设置抑制了电路噪声。针对4路探测器信号处理电路之间的串扰问题进行了分析和对比,为合理的PCB布局布线提供了参考。该成像电路与商用镜头搭配使用后已成功获取了微光条件下的低噪声外景图像。 展开更多
关键词 CCD驱动 噪声抑制 PCB布线
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DS3840系列可控硅整流装置控制组件的功能分析介绍
15
作者 罗幼安 《船电技术》 1991年第2期21-26,共6页
关键词 可控硅 整流器 功能 分析
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Thermal analysis of remote phosphor in LED modules 被引量:1
16
作者 董明智 韦嘉 +2 位作者 叶怀宇 袁长安 张国旗 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第5期38-40,共3页
Phosphor plays an important role in LED packages by converting the wavelength of light and achieving specific color. The property and degradation of phosphor are strongly affected by the temperature. Some structural f... Phosphor plays an important role in LED packages by converting the wavelength of light and achieving specific color. The property and degradation of phosphor are strongly affected by the temperature. Some structural factors have been investigated in this paper and their effects are evaluated. Remote phosphor is an effective approach to improve the performance and reliability of LED modules and products. It is a trade-off that the final product design depends on both the thermal performance and the cost. 展开更多
关键词 LED module remote phosphor thermal management
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Room temperature ferromagnetism of boron-doped ZnO nanoparticles prepared by solvothermal method 被引量:1
17
作者 M. Hassan Farooq Xiao-Guang Xu +4 位作者 Hai-Ling Yang Cong-Jun Ran Jun Miao M. Zubair Iqbal Yong Jiang 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期264-268,共5页
In this study, B-doped ZnO nanoparticles were synthesized by template-free solvothermal method. X-ray diffraction analysis reveals that B-doped ZnO nanoparti- cles have hexagonal wurtzite structure. Field emission sca... In this study, B-doped ZnO nanoparticles were synthesized by template-free solvothermal method. X-ray diffraction analysis reveals that B-doped ZnO nanoparti- cles have hexagonal wurtzite structure. Field emission scanning electron microscopy observations show that the nanoparticles have a diameter of 50 nm. The room tem- perature ferromagnetism increases monotonically with increasing B concentration to the ZnO nanoparticles and reaches the maximum value of saturation magnetization 0.0178 A.ma.kg-1 for 5 % B-doped ZnO nanoparticles. Moreover, photoluminescence spectra reveal that B doping causes to produce Zn vacancies (Vzn). Magnetic moment of oxygen atoms nearest to the B-Vzn vacancy pairs can be considered as a source of ferromagnetism for B-doped ZnO nanoparticles. 展开更多
关键词 RT ferromagnetism Non-TM-doped ZnO Zn vacancies PHOTOLUMINESCENCE
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一种针对MCM互连的10 Gbit·s^(-1)自适应收发器
18
作者 戈勇 莫巍 +1 位作者 宁永成 王增福 《电子科技》 2013年第8期42-45,共4页
均衡和预加重方法是实现MCM高性能收发器的关键。文中采用MCM互连的四端口S参数传输线模型获得了信号衰减分布规律。在此基础上,采用0.13μm CMOS工艺,设计了一种基于MCM互连的高速收发器:发送端采用二阶预加重技术提高了信号高频分量... 均衡和预加重方法是实现MCM高性能收发器的关键。文中采用MCM互连的四端口S参数传输线模型获得了信号衰减分布规律。在此基础上,采用0.13μm CMOS工艺,设计了一种基于MCM互连的高速收发器:发送端采用二阶预加重技术提高了信号高频分量的增益,并通过高速CML驱动电路发送数据;接收端采用连续时间线性均衡器和基于LMS算法的自适应均衡器。仿真结果表明,该结构的MCM收发器完成了对10 Gbit.s-1随机信号的收发,补偿了高达-30 dB的互连损耗,并消除了码间干扰(ISI),总功耗仅为23.3 mW。 展开更多
关键词 MCM 适应 均衡 CML
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化学水浴沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响 被引量:2
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作者 王智平 赵静 王克振 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期1311-1316,共6页
采用化学水浴法,在醋酸镉、硫脲、氨水、醋酸铵的体系中制备CdS薄膜,设计L2556正交实验,研究各沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响。结果表明,温度、醋酸铵浓度、搅拌强度为主要影响因素,醋酸镉、硫脲、氨水的浓度为次要因素,生长速率最小... 采用化学水浴法,在醋酸镉、硫脲、氨水、醋酸铵的体系中制备CdS薄膜,设计L2556正交实验,研究各沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响。结果表明,温度、醋酸铵浓度、搅拌强度为主要影响因素,醋酸镉、硫脲、氨水的浓度为次要因素,生长速率最小为0.68nm/min,最大达到43.12nm/min。各沉积参数对CdS薄膜生长速率的影响规律各不相同,随温度升高而单调增加,随醋酸铵浓度增大而单调下降;随着转速的加快生长速率先增大后减小最后保持稳定;醋酸镉、硫脲和氨水浓度对生长速率的影响规律较为复杂,存在一临界浓度,在临界浓度两侧生长速率变化差异较大,当浓度过大时,生长速率开始下降。 展开更多
关键词 化学水浴沉积(CBD) CDS薄膜 正交实验 生长速率
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探空温度传感器的动态性能分析
20
作者 杨荣康 王月 刘清惓 《科学技术与工程》 北大核心 2014年第4期57-60,共4页
为了研究探空温度传感器的动态性能,提出利用计算流体动力学(CFD)方法分析探空温度传感器从地面到32 km高空不同气压和不同上升速度条件下的热响应时间常数;并利用该方法对不同海拔高度下温度传感器的气流温度阶跃响应特性进行分析。仿... 为了研究探空温度传感器的动态性能,提出利用计算流体动力学(CFD)方法分析探空温度传感器从地面到32 km高空不同气压和不同上升速度条件下的热响应时间常数;并利用该方法对不同海拔高度下温度传感器的气流温度阶跃响应特性进行分析。仿真结果表明,探空温度传感器的热响应时间常数与海拔高度呈正相关,与探空仪上升速度呈反相关。通过拟合获得不同上升速度下,气流温度阶跃变化后的传感器温度变化与海拔高度、时间的函数关系。这种数值方法和分析结果对探空温度传感器的动态性能分析有潜在的指导意义。 展开更多
关键词 探空温度传感器 热响应时间常数 气流温度阶跃响应 计算流体动力学 探空仪
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