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Al/U固相界面反应的原位高温X射线衍射研究 被引量：1
1
作者 张延志 谢卫华 +2 位作者 管卫军 陈林 汪小琳 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第9期2465-2469,共5页
采用磁控溅射沉积技术在贫铀上镀铝膜,利用X射线衍射原位研究了铝镀层与贫铀基体的界面反应,分析了界面反应产物随温度和时间的变化规律。实验结果显示,镀膜过程Al/U界面没有化合物形成,而在较高温度下(≥335℃)两相界面会发生反应并形... 采用磁控溅射沉积技术在贫铀上镀铝膜,利用X射线衍射原位研究了铝镀层与贫铀基体的界面反应,分析了界面反应产物随温度和时间的变化规律。实验结果显示,镀膜过程Al/U界面没有化合物形成,而在较高温度下(≥335℃)两相界面会发生反应并形成金属间化合物UAl_3相,反应动力学符合形核-生长机制。形成的UAl_3相为疏松的层状结构,且相应的衍射峰强度随温度的升高而逐渐降低,直至消失,文中对该现象的原因进行了分析和讨论。 展开更多
关键词 Al/U 界面反应 金属间化合物 X射线衍射
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