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Si(111)湿法腐蚀后表面形态的FTIR研究
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作者 李静 吴孙桃 +1 位作者 叶建辉 S.f.yli 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期145-148,182,共5页
运用偏振衰减全反射傅立叶变换红外光谱技术 (ATR-FTIR) ,研究了 Si(1 1 1 )在不同比例的 NH4F-HCl溶液中腐蚀后的表面形态。通过分析表面振动模型的偏振波长及红外粗糙因子 ,表明在较低的 PH值的NH4F-HCl溶液中腐蚀的 Si(1 1 1 )表面... 运用偏振衰减全反射傅立叶变换红外光谱技术 (ATR-FTIR) ,研究了 Si(1 1 1 )在不同比例的 NH4F-HCl溶液中腐蚀后的表面形态。通过分析表面振动模型的偏振波长及红外粗糙因子 ,表明在较低的 PH值的NH4F-HCl溶液中腐蚀的 Si(1 1 1 )表面粗糙度较大 ,与通过扫描隧道显微镜 (STM) 展开更多
关键词 扫描隧道显微镜 湿法腐蚀 表面形态 FTIR 偏振衰减全反射傅立叶变换红外光谱技术 硅片表面 111晶面
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