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胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素分析
被引量:
7
1
作者
巩玉亮
牛小康
郭勇
《癌症进展》
2021年第21期2218-2220,共3页
目的分析胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素。方法收集180例胃癌根治术患者的病历资料,胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素采用多因素Logistic回归分析。结果 180例胃癌根治术患者术后发生手术部位感染90例,手术部位未感染90例...
目的分析胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素。方法收集180例胃癌根治术患者的病历资料,胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素采用多因素Logistic回归分析。结果 180例胃癌根治术患者术后发生手术部位感染90例,手术部位未感染90例。单因素分析结果显示,年龄﹥60岁、NRS 2002评分﹥3分、合并糖尿病、合并术前梗阻、手术时间﹥210 min胃癌根治术患者术后手术部位感染率均明显高于年龄≤60岁、NRS 2002评分≤3分、未合并糖尿病、未合并术前梗阻、手术时间≤210 min的患者,差异均有统计学意义(P﹤0.01)。多因素Logistic回归分析结果显示,NRS 2002评分﹥3分、年龄﹥60岁、手术时间﹥210 min、术前梗阻、合并糖尿病均是胃癌根治术患者术后手术部位感染的独立危险因素(P﹤0.05)。结论胃癌根治术术后手术部位感染的危险因素包括NRS 2002评分﹥3分、年龄﹥60岁、手术时间﹥210 min、术前梗阻、合并糖尿病,可针对高危因素进行干预,以改善患者的预后。
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关键词
胃癌根治术
手术部位
感染
危险因素
下载PDF
职称材料
C(sp^(3))—H键直接催化硅基化反应研究进展
被引量:
1
2
作者
程异
胡荣静
+3 位作者
陈晓琪
杨浩
牛晓康
杨磊
《有机化学》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2022年第2期323-343,共21页
含C(sp^(3))—Si键的有机硅化合物在材料科学、药物化学和精细化学品合成等研究领域有着广泛的应用.通过C(sp^(3))—H的直接催化硅基化形成C(sp^(3))—Si键具有高的原子经济性和步骤经济性特点,近些年已成为含C(sp^(3))—Si键的新型有...
含C(sp^(3))—Si键的有机硅化合物在材料科学、药物化学和精细化学品合成等研究领域有着广泛的应用.通过C(sp^(3))—H的直接催化硅基化形成C(sp^(3))—Si键具有高的原子经济性和步骤经济性特点,近些年已成为含C(sp^(3))—Si键的新型有机硅分子合成领域的一个研究热点.详细总结了C(sp^(3))—H键直接催化硅基化反应的研究进展,并探讨了相关反应的机理和应用范围.
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关键词
过渡金属
C(sp^(3))-H硅基化
C(sp^(3))-Si键
有机硅
非过渡金属
原文传递
题名
胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素分析
被引量:
7
1
作者
巩玉亮
牛小康
郭勇
机构
商洛市中心医院胃肠外科
出处
《癌症进展》
2021年第21期2218-2220,共3页
文摘
目的分析胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素。方法收集180例胃癌根治术患者的病历资料,胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素采用多因素Logistic回归分析。结果 180例胃癌根治术患者术后发生手术部位感染90例,手术部位未感染90例。单因素分析结果显示,年龄﹥60岁、NRS 2002评分﹥3分、合并糖尿病、合并术前梗阻、手术时间﹥210 min胃癌根治术患者术后手术部位感染率均明显高于年龄≤60岁、NRS 2002评分≤3分、未合并糖尿病、未合并术前梗阻、手术时间≤210 min的患者,差异均有统计学意义(P﹤0.01)。多因素Logistic回归分析结果显示,NRS 2002评分﹥3分、年龄﹥60岁、手术时间﹥210 min、术前梗阻、合并糖尿病均是胃癌根治术患者术后手术部位感染的独立危险因素(P﹤0.05)。结论胃癌根治术术后手术部位感染的危险因素包括NRS 2002评分﹥3分、年龄﹥60岁、手术时间﹥210 min、术前梗阻、合并糖尿病,可针对高危因素进行干预,以改善患者的预后。
关键词
胃癌根治术
手术部位
感染
危险因素
Keywords
radical gastrectomy
surgical site
infection
risk factor
分类号
R735.2 [医药卫生—肿瘤]
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职称材料
题名
C(sp^(3))—H键直接催化硅基化反应研究进展
被引量:
1
2
作者
程异
胡荣静
陈晓琪
杨浩
牛晓康
杨磊
机构
杭州师范大学材料与化学化工学院有机硅化学及材料技术教育部重点实验室
出处
《有机化学》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2022年第2期323-343,共21页
基金
杭州市西湖学者计划
杭州师范大学科研启动经费(No.2019DL018)资助项目
文摘
含C(sp^(3))—Si键的有机硅化合物在材料科学、药物化学和精细化学品合成等研究领域有着广泛的应用.通过C(sp^(3))—H的直接催化硅基化形成C(sp^(3))—Si键具有高的原子经济性和步骤经济性特点,近些年已成为含C(sp^(3))—Si键的新型有机硅分子合成领域的一个研究热点.详细总结了C(sp^(3))—H键直接催化硅基化反应的研究进展,并探讨了相关反应的机理和应用范围.
关键词
过渡金属
C(sp^(3))-H硅基化
C(sp^(3))-Si键
有机硅
非过渡金属
Keywords
transition-metal
C(sp^(3))-H silylation
C(sp^(3))-Si bond
organosilicone
non-transition metal
分类号
O621.251 [理学—有机化学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
胃癌根治术术后手术部位感染的影响因素分析
巩玉亮
牛小康
郭勇
《癌症进展》
2021
7
下载PDF
职称材料
2
C(sp^(3))—H键直接催化硅基化反应研究进展
程异
胡荣静
陈晓琪
杨浩
牛晓康
杨磊
《有机化学》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2022
1
原文传递
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引证文献
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