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光学薄膜镀制技术的对比研究
1
作者
F.弗洛里
C.昂拉
+4 位作者
M.
科
芒德
烈
E.佩尔蒂埃
G.阿尔布朗
李东光
周鹏飞
《上海机械学院学报》
1990年第1期35-38,64,共5页
本文介绍了两种光学镀膜真空淀积技术——离子辅助淀积和反应离子镀,并详述了近年来的应用及进一步的发展。
关键词
光学薄膜
镀制
离子镀
淀积技术
下载PDF
职称材料
题名
光学薄膜镀制技术的对比研究
1
作者
F.弗洛里
C.昂拉
M.
科
芒德
烈
E.佩尔蒂埃
G.阿尔布朗
李东光
周鹏飞
机构
法国马赛国家高等物理学院
上海机械学院
出处
《上海机械学院学报》
1990年第1期35-38,64,共5页
文摘
本文介绍了两种光学镀膜真空淀积技术——离子辅助淀积和反应离子镀,并详述了近年来的应用及进一步的发展。
关键词
光学薄膜
镀制
离子镀
淀积技术
Keywords
Optical coatings
Optical thin films
Ion assisted deposition
Ion plating
分类号
TB43 [一般工业技术]
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作者
出处
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1
光学薄膜镀制技术的对比研究
F.弗洛里
C.昂拉
M.
科
芒德
烈
E.佩尔蒂埃
G.阿尔布朗
李东光
周鹏飞
《上海机械学院学报》
1990
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参考文献
引证文献
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