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纳米二氧化硅致Nrf-2基因缺陷人永生化表皮细胞氧化损伤的研究 被引量:1
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作者 陶功华 肖萍 +6 位作者 孙静秋 娄丹 霍倩 王彦琴 李晨 仲伟鉴 帅怡 《环境与职业医学》 CAS CSCD 北大核心 2017年第6期483-489,共7页
[目的]探讨纳米二氧化硅(nano-SiO_2)致核因子E2相关因子2(Nrf-2)基因缺陷型人永生化表皮细胞的氧化应激损伤效应。[方法]采用RNA干扰技术构建人永生化表皮细胞(HaCaT)Nrf-2基因缺陷细胞模型,以终质量浓度(后称浓度)为2.5、5.0、10.0 m... [目的]探讨纳米二氧化硅(nano-SiO_2)致核因子E2相关因子2(Nrf-2)基因缺陷型人永生化表皮细胞的氧化应激损伤效应。[方法]采用RNA干扰技术构建人永生化表皮细胞(HaCaT)Nrf-2基因缺陷细胞模型,以终质量浓度(后称浓度)为2.5、5.0、10.0 mg/L的nano-SiO(215 nm粒径)分别染毒HaCaT细胞和Nrf-2基因缺陷细胞24 h,检测细胞内活性氧(ROS)、8-羟化脱氧鸟苷(8-oHdG)、丙二醛(MDA)、总超氧化物歧化酶(T-SOD)和谷胱甘肽过氧化物酶(GSH-Px)等氧化应激指标,并对细胞总蛋白和核蛋白中Nrf-2蛋白的表达水平进行分析。[结果]5.0、10.0 mg/L nano-SiO_2可引起HaCaT细胞的活力明显降低(P<0.05),而2.5 mg/L nano-SiO_2开始即可引起Nrf-2基因缺陷细胞活力呈剂量依赖性降低(r=-0.914,P<0.05),Nrf-2基因缺陷细胞的活力均明显低于同浓度组的HaCaT细胞(P<0.05)。各浓度组细胞内ROS、8-oHdG和MDA水平均呈剂量依赖性增高,而T-SOD和GSH-Px的含量则呈剂量依赖性降低;与同浓度组HaCaT细胞相比,Nrf-2基因缺陷细胞中相关指标的变异程度更大,差异有统计学意义(P<0.05)。正常HaCaT细胞中,低剂量组总Nrf-2蛋白和低、中剂量组核Nrf-2蛋白的表达水平增高(P<0.05);而随着nano-SiO_2暴露浓度的进一步增高,两种蛋白的表达水平又呈降低的趋势。与HaCaT细胞的阴性对照比较,Nrf-2基因缺陷细胞中总Nrf-2蛋白表达水平下降,核Nrf-2蛋白表达水平未见差异。[结论]5.0 mg/L nano-SiO_2可体外诱导HaCaT细胞发生氧化应激性损伤,Nrf-2基因缺陷可通过改变细胞的抗氧化防御能力,增加HaCaT细胞对nano-SiO_2的敏感性。 展开更多
关键词 核因子E2相关因子2 纳米二氧化硅 人永生化表皮细胞 氧化应激
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