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提高平板显示屏镀膜应用中的靶材利用率
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作者 Jutta Trube +2 位作者 HeikoStrunk ChristophDaube helmutfrankenberger 《液晶与显示》 CAS CSCD 1998年第2期128-131,共4页
平板显示屏的经济生产，不仅要求可靠的工艺技术，而且绝对要求较高的靶利用率。本文介绍了在保持ＩＴＯ工艺的标准阴极法所获得的膜特性基础上，用移动磁场的方法可以获得＞５０％的靶利用率。
关键词 靶材利用率 大尺寸基片 平板显示屏 薄膜溅射 镀膜 移动磁场 ITO靶
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