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电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量杂质 被引量：8
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作者 岳晓云 蔡绍勤 +2 位作者 邵荣珍 刘玉龙 鲁亦强 《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1307-1310,共4页
采用电感耦合等离子体质谱 (ICP MS)测定高纯镓中痕量杂质元素 ,以Rh作为内标补偿校正镓基体的抑制效应 ,采用异丙醚萃取分离镓与ICP MS技术联用 ,拓展分析方法应用范围 ,可满足99 9999%～ 99.99999%超高纯镓分析方法要求。方法检出限为... 采用电感耦合等离子体质谱 (ICP MS)测定高纯镓中痕量杂质元素 ,以Rh作为内标补偿校正镓基体的抑制效应 ,采用异丙醚萃取分离镓与ICP MS技术联用 ,拓展分析方法应用范围 ,可满足99 9999%～ 99.99999%超高纯镓分析方法要求。方法检出限为 0 .0 0 6～ 0 .0 6 2 μg L ;加标回收率为86 8%～ 12 1.4%之间 ;RSD为 1.1%～ 8.6 % 展开更多
关键词 电感耦合等离子体质谱 高纯镓 杂质 基体效应 内标 溶剂萃取 痕量分析 半导体材料
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