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单靶磁控溅射Cu(In,Ga)Se_(2)太阳电池的背接触界面设计
1
作者
田杉杉
高
倩
+3 位作者
高
泽
冉
熊雨晨
丛日东
于威
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第17期294-304,共11页
通过磁控溅射单一四元靶材磁控得到的黄铜矿Cu(In,Ga)Se_(2)(CIGS)太阳电池开发的主要瓶颈是严重的载流子复合,其开路电压非常低.CIGS与钼(Mo)之间不良的缺陷环境是吸收体和界面复合严重的主要原因之一.其中,在背界面处引入的CuGaSe_(2)...
通过磁控溅射单一四元靶材磁控得到的黄铜矿Cu(In,Ga)Se_(2)(CIGS)太阳电池开发的主要瓶颈是严重的载流子复合,其开路电压非常低.CIGS与钼(Mo)之间不良的缺陷环境是吸收体和界面复合严重的主要原因之一.其中,在背界面处引入的CuGaSe_(2)(CGS)低温缓冲层可以有效地抑制吸收体与背电极在高温磁控过程中的不利界面反应,从而获得高质量的晶体.通过这种背界面工程,不仅可以很好地解决吸收体和界面质量不佳的问题,而且有利于在吸收层中形成梯度带隙结构,从而使深能级InGa缺陷转换为较低能级的VCu缺陷,最终CIGS太阳电池的转换效率达到15.04%.这项工作为直接溅射高效率CIGS太阳电池的产业化提供了一种新的方法.
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关键词
Cu(In
Ga)Se_(2)
太阳电池
磁控溅射
V
型带隙
缺陷特性
下载PDF
职称材料
Mo背电极对CIGS吸收层生长特性的影响
被引量:
1
2
作者
张俊敏
高
泽
冉
+1 位作者
赵蔚
于威
《化工设计通讯》
CAS
2020年第2期239-240,共2页
研究了利用单一四元靶材进行一步溅射法制备的CIGS薄膜的特性。研究了工作气压、衬底温度、Mo背电极对CIGS薄膜性能的影响。研究发现,当CIGS直接沉积在玻璃基底上时,一步溅射CIGS薄膜的优先取向和结晶度受工作气压和衬底温度的影响。而...
研究了利用单一四元靶材进行一步溅射法制备的CIGS薄膜的特性。研究了工作气压、衬底温度、Mo背电极对CIGS薄膜性能的影响。研究发现,当CIGS直接沉积在玻璃基底上时,一步溅射CIGS薄膜的优先取向和结晶度受工作气压和衬底温度的影响。而在器件制备方面,Mo背电极主导了CIGS薄膜的生长行为,并诱导其形成了较大的CIGS晶粒尺寸和较好的结晶度。最后,采用一步溅射法在0.07~2.66Pa的工作气压下制备了CIGS器件,最高效率达到8.67%。
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关键词
单一四元靶材
一步溅射法
CIGS
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职称材料
题名
单靶磁控溅射Cu(In,Ga)Se_(2)太阳电池的背接触界面设计
1
作者
田杉杉
高
倩
高
泽
冉
熊雨晨
丛日东
于威
机构
河北大学物理科学与技术学院
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第17期294-304,共11页
文摘
通过磁控溅射单一四元靶材磁控得到的黄铜矿Cu(In,Ga)Se_(2)(CIGS)太阳电池开发的主要瓶颈是严重的载流子复合,其开路电压非常低.CIGS与钼(Mo)之间不良的缺陷环境是吸收体和界面复合严重的主要原因之一.其中,在背界面处引入的CuGaSe_(2)(CGS)低温缓冲层可以有效地抑制吸收体与背电极在高温磁控过程中的不利界面反应,从而获得高质量的晶体.通过这种背界面工程,不仅可以很好地解决吸收体和界面质量不佳的问题,而且有利于在吸收层中形成梯度带隙结构,从而使深能级InGa缺陷转换为较低能级的VCu缺陷,最终CIGS太阳电池的转换效率达到15.04%.这项工作为直接溅射高效率CIGS太阳电池的产业化提供了一种新的方法.
关键词
Cu(In
Ga)Se_(2)
太阳电池
磁控溅射
V
型带隙
缺陷特性
Keywords
Cu(In
Ga)Se_(2)solar cells
magnetron sputtering
V-band gap
defect characteristics
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
Mo背电极对CIGS吸收层生长特性的影响
被引量:
1
2
作者
张俊敏
高
泽
冉
赵蔚
于威
机构
河北大学新能源光电器件国家地方联合工程实验室
河北工程大学数理科学与工程学院
出处
《化工设计通讯》
CAS
2020年第2期239-240,共2页
基金
邯郸科技局项目(1723209055-1)
文摘
研究了利用单一四元靶材进行一步溅射法制备的CIGS薄膜的特性。研究了工作气压、衬底温度、Mo背电极对CIGS薄膜性能的影响。研究发现,当CIGS直接沉积在玻璃基底上时,一步溅射CIGS薄膜的优先取向和结晶度受工作气压和衬底温度的影响。而在器件制备方面,Mo背电极主导了CIGS薄膜的生长行为,并诱导其形成了较大的CIGS晶粒尺寸和较好的结晶度。最后,采用一步溅射法在0.07~2.66Pa的工作气压下制备了CIGS器件,最高效率达到8.67%。
关键词
单一四元靶材
一步溅射法
CIGS
Keywords
single four-element target
one step sputtering
CIGS
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
单靶磁控溅射Cu(In,Ga)Se_(2)太阳电池的背接触界面设计
田杉杉
高
倩
高
泽
冉
熊雨晨
丛日东
于威
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
下载PDF
职称材料
2
Mo背电极对CIGS吸收层生长特性的影响
张俊敏
高
泽
冉
赵蔚
于威
《化工设计通讯》
CAS
2020
1
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职称材料
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