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基于PnP-ADMM SOC平台的单像素高分辨成像系统
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作者 黎淼 张玲强 +4 位作者 王玺 王晨燕 郭兆辉 赵雪吟 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第16期133-143,共11页
针对目前单像素成像系统实时成像环境压缩采样重构的噪声鲁棒性需求,实现了基于即插即用的交替方向乘子法(PnP-ADMM)非凸反演框架的单像素成像硬件系统。针对所建立PnP-ADMM反演重构算法采用3种降噪算子完成数值仿真,仿真结果表明,所建... 针对目前单像素成像系统实时成像环境压缩采样重构的噪声鲁棒性需求,实现了基于即插即用的交替方向乘子法(PnP-ADMM)非凸反演框架的单像素成像硬件系统。针对所建立PnP-ADMM反演重构算法采用3种降噪算子完成数值仿真,仿真结果表明,所建立单像素成像PnP-ADMM反演重构算法在采样率为12.50%及25.00%的条件下峰值信噪比可达24.82 dB及29.64 dB,结构相似性分别可达0.75及0.88。硬件系统实验结果表明,在采样率为25.00%的情况下,采用邻近算子、软阈值算子和全变分算子的PnP-ADMM片上系统(SOC)重构分辨率为256 pixel×256 pixel的图像的耗时分别为0.369 s、0.303 s和0.681 s,相比于仅使用ARM处理器分别提高了141.9倍、172.1倍和80.3倍。在采样率为25.00%、成像距离为300 cm条件下,所建立PnP-ADMM SOC单像素成像系统能够实现0.445~0.500 lp/mm的分辨率,具有较好的噪声抑制能力。 展开更多
关键词 成像系统 单像素成像 交替方向乘子法 即插即用 FPGA
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紫外激光辐照RDX含能材料烧蚀特性研究
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作者 晏中华 孟倪冰 +7 位作者 徐灿 崔巍 向霞 祖小涛 袁晓东 谭碧生 黄明 《重庆邮电大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2023年第2期377-382,共6页
为了探究含能材料在紫外激光辐照下的烧蚀特点及规律,采用光学显微镜、扫描电子显微镜以及微粒计数器等表征手段,分别对不同质量、不同厚度的黑索今(research department explosive,RDX)含能材料在紫外激光(波长为355 nm)辐照下的烧蚀... 为了探究含能材料在紫外激光辐照下的烧蚀特点及规律,采用光学显微镜、扫描电子显微镜以及微粒计数器等表征手段,分别对不同质量、不同厚度的黑索今(research department explosive,RDX)含能材料在紫外激光(波长为355 nm)辐照下的烧蚀尺寸、烧蚀形貌以及冲击波引起的材料喷溅等特性进行表征与统计。研究结果表明,随着入射激光能量密度的不断增大,含能材料的横向烧蚀面积和纵向烧蚀深度均先增大后减小,且最终烧蚀面积保持在光斑面积大小,烧蚀深度保持在60μm左右;对于激光烧蚀诱导的含能材料微粒喷溅,中尺寸的微粒数量呈现先增多后减少的趋势,而大尺寸的微粒数量却一直减少。与大光斑激光辐照相比较,在相同能量密度下,小光斑辐照时的横向烧蚀面积更小,烧蚀致微粒喷溅的作用更强。 展开更多
关键词 紫外激光 RDX含能材料 激光烧蚀 微粒特征
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