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缩小步进投影光刻机在碲镉汞红外探测器芯片工艺中的应用
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作者 赵成城 +1 位作者 雷峥 孟晓兰 《红外》 CAS 2023年第5期1-7,共7页
光刻是制备碲镉汞红外探测器芯片过程中非常关键的工艺。目前绝大部分碲镉汞芯片制备都是使用接触式光刻技术,但是在曝光面型起伏较大的芯片时工艺均匀性较差,并且掩膜在与芯片接触时容易损伤芯片。针对接触式光刻的这些缺点,利用尼康... 光刻是制备碲镉汞红外探测器芯片过程中非常关键的工艺。目前绝大部分碲镉汞芯片制备都是使用接触式光刻技术,但是在曝光面型起伏较大的芯片时工艺均匀性较差,并且掩膜在与芯片接触时容易损伤芯片。针对接触式光刻的这些缺点,利用尼康公司生产的缩小步进投影光刻机开发了用于碲镉汞芯片的步进式投影曝光工艺。对设备的硬件和软件均进行了小幅修改和设置,使其适用于碲镉汞芯片。经过调试后,缩小步进投影光刻机在某些面型起伏较大的芯片上取得了更好的曝光效果,光刻图形的一致性得到了提升。实验结果表明,缩小步进投影光刻技术能够提高碲镉汞芯片的光刻质量,并在一定程度上改善了芯片制备工艺。 展开更多
关键词 碲镉汞 红外探测器 缩小步进投影光刻
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Influence of low-temperature sulfidation on the structure of ZnS thin films 被引量:2
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作者 Shuzhen Chen Ligang Song +5 位作者 Peng Zhang Xingzhong Cao Runsheng Yu Baoyi Wang Long Wei Rengang Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第2期288-293,共6页
ZnS thin films were prepared by sulfuring zinc thin films at different sulfuration temperatures. The crystal structure,surface morphology, defects, and optical properties of the thin films were characterized by x-ray ... ZnS thin films were prepared by sulfuring zinc thin films at different sulfuration temperatures. The crystal structure,surface morphology, defects, and optical properties of the thin films were characterized by x-ray diffraction(XRD), scanning electron microscopy(SEM), positron annihilation Doppler broadening, and UV-Vis spectrophotometer, respectively.It was found that the(200)-plane preferred orientation of the ZnS thin films changed to(111)-plane with increasing sulfidation temperature. Moreover, a number of large holes were generated at 420?C and eliminated at 440?C. The concentration of defects was lowest when the sulfuration temperature was 440?C. The optical transmission of all samples was maintained at 60%–80% in the wavelength range of 400 nm–800 nm, and the band energy of the ZnS thin films was approximately3.5 e V for all treatment temperatures except 430?C. 展开更多
关键词 ZNS THIN films LOW-TEMPERATURE SULFIDATION DOPPLER BROADENING measurements
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材料形貌对碲镉汞红外焦平面器件性能的影响
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作者 祁娇娇 +3 位作者 王丹 程杰 高华 何斌 《红外技术》 CSCD 北大核心 2022年第10期1033-1040,共8页
碲镉汞材料表面的粗糙度对钝化膜层的质量、接触孔的光刻与刻蚀都有着显著的影响,研究其表面的粗糙度对器件性能的影响具有重要意义。在本文中,我们分别研究了碲镉汞的小平面形貌和台阶形貌对器件性能的影响,以及不同表面粗糙度的碲镉... 碲镉汞材料表面的粗糙度对钝化膜层的质量、接触孔的光刻与刻蚀都有着显著的影响,研究其表面的粗糙度对器件性能的影响具有重要意义。在本文中,我们分别研究了碲镉汞的小平面形貌和台阶形貌对器件性能的影响,以及不同表面粗糙度的碲镉汞材料对器件制备工艺和最终性能的影响。研究表明,随着材料表面粗糙度的增加,钝化层的质量下降,接触孔的均匀性下降,且接触孔的形貌变差,I-V性能下降,最终导致器件的响应非均匀性增加,盲元数增加。 展开更多
关键词 碲镉汞 生长台阶 粗糙度 盲元率 零偏阻抗 响应非均匀性
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碲镉汞红外探测器电极接触研究
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作者 何斌 刘明 +2 位作者 宁提 祁娇娇 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2022年第1期71-75,共5页
金属/碲镉汞电极接触是红外焦平面探测器的重要组成部分,对器件的性能与稳定性影响较大。然而在碲镉汞金属化过程中,金属离子能量较高将有可能对碲镉汞表面造成损伤。本文采用了离子束沉积系统生长金属电极,探究了束流、束压以及热处理... 金属/碲镉汞电极接触是红外焦平面探测器的重要组成部分,对器件的性能与稳定性影响较大。然而在碲镉汞金属化过程中,金属离子能量较高将有可能对碲镉汞表面造成损伤。本文采用了离子束沉积系统生长金属电极,探究了束流、束压以及热处理等条件对碲镉汞红外探测器接触性能的影响。研究表明,碲镉汞在生长电极后表面会受到一定程度的损伤;随着离子能量的升高,对材料表面损伤加剧。在I-V曲线中,电极沉积损伤较大的器件表现出软击穿现象;在热处理后,在一定程度上可以修复电极沉积时能量过大造成的损伤,提高了电极接触性能。 展开更多
关键词 碲镉汞 离子束沉积 电极接触 热处理
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时标网络图非关键线路结点位置探讨
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作者 王克 《冶金经济与管理》 1989年第2期32-34,25,共4页
网络计划技术是以网络图的形式表现的,为达到实用的目的,必须计算网络时间,找出关键线路和非关键线路,对网络图进行调整和优化,进而对工程实施动态控制管理.但在实践中人们对网络时间的计算感到麻烦和费解,且不易掌握.在目前电算尚未普... 网络计划技术是以网络图的形式表现的,为达到实用的目的,必须计算网络时间,找出关键线路和非关键线路,对网络图进行调整和优化,进而对工程实施动态控制管理.但在实践中人们对网络时间的计算感到麻烦和费解,且不易掌握.在目前电算尚未普及的情况下,迫切需要进一步简化网络时间参数的计算.这关系到时标图上结点位置的探讨. 展开更多
关键词 非关键线路 时标 计算网络 总时差 时间参数 网络计划技术 简化网络 动态控制 坐标平面 计算点
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学邯钢 降成本 挖潜力 增效益──唐钢烧结厂狠抓成本管理的启示
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作者 《经济与管理》 1998年第1期35-37,共3页
学邯钢降成本挖潜力增效益──唐钢烧结厂狠抓成本管理的启示陈书真烧结厂作为唐钢内部二级主体生产厂,积极发挥主观能动性,结合自身实际,大胆探索成本管理的有效途径。成本降低率连续两年超过5.9%。1995年烧结矿吨矿成本3... 学邯钢降成本挖潜力增效益──唐钢烧结厂狠抓成本管理的启示陈书真烧结厂作为唐钢内部二级主体生产厂,积极发挥主观能动性,结合自身实际,大胆探索成本管理的有效途径。成本降低率连续两年超过5.9%。1995年烧结矿吨矿成本339.40元,比1994年降低21... 展开更多
关键词 成本管理 烧结厂 学邯钢 指标分解 成本指标 降成本 成本控制 增效益 经济活动分析 成本管理模式
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硫化反应生长ZnS薄膜的结构和光学性能研究
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作者 李英龙 张仁刚 +2 位作者 宋力刚 卓雯 《武汉科技大学学报》 CAS 北大核心 2016年第5期343-347,共5页
以物理气相沉积中的溅射和蒸发方法,在玻璃衬底上沉积Zn/S/Zn三层膜结构,然后在1atm压力的Ar气氛中退火制备ZnS薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见透射光谱对ZnS薄膜的晶体结构和光学性质及其生长机理进行研究... 以物理气相沉积中的溅射和蒸发方法,在玻璃衬底上沉积Zn/S/Zn三层膜结构,然后在1atm压力的Ar气氛中退火制备ZnS薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见透射光谱对ZnS薄膜的晶体结构和光学性质及其生长机理进行研究。结果表明,在450℃温度下退火时,三层膜结构中高活性Zn和S容易发生硫化反应,形成的ZnS薄膜为立方晶体结构,沿(111)晶面择优生长;其ZnS特征吸收边出现在350nm附近,在可见光波长范围内,ZnS薄膜具有约80%的透光率;在450℃温度下退火后再于550℃温度下退火,所制ZnS薄膜的结晶性得到进一步提高。 展开更多
关键词 ZNS薄膜 溅射 蒸发 退火 透光率 晶体结构 硫化反应
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低温硫化制备ZnS薄膜的物理性质研究
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作者 杨光 张仁刚 +5 位作者 柯进林 曹兴忠 张鹏 于润升 王宝义 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2020年第3期804-808,共5页
采用磁控溅射方法先在玻璃衬底上室温下沉积Zn金属薄膜,接着先后在200和400℃温度下的硫蒸气和氩气流中进行退火,生长出ZnS薄膜。薄膜样品的微观结构、物相结构、表面形貌和光学性质分别采用正电子湮没技术(PAT)、X射线衍射仪(XRD)、扫... 采用磁控溅射方法先在玻璃衬底上室温下沉积Zn金属薄膜,接着先后在200和400℃温度下的硫蒸气和氩气流中进行退火,生长出ZnS薄膜。薄膜样品的微观结构、物相结构、表面形貌和光学性质分别采用正电子湮没技术(PAT)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见分光光度计进行表征。该ZnS薄膜在可见光范围具有约80%的高透光率,随着硫化时间的增加,其带隙由3.55增加到3.57eV,S/Zn原子比从0.54上升至0.89,薄膜质量明显得到改善,相对于以前报道的真空封装硫化所制备的ZnS薄膜,硫过量问题得到了较好解决。此外,慢正电子湮没多普勒展宽谱对硫化前后薄膜样品中膜层结构缺陷研究表明,硫化后薄膜的S参数明显增大,生成的ZnS薄膜结构缺陷浓度高于Zn薄膜。 展开更多
关键词 ZNS薄膜 磁控溅射 低温硫化 正电子湮没谱学
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唐钢烧结厂的成本是怎样降下来的
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作者 《冶金管理》 1997年第10期43-43,共1页
关键词 工业企业 钢铁工业 成本管理
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