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蓝宝石衬底CMP中氧化硅磨粒粒度分布对抛光液体系性能影响研究 被引量：2
1
作者 王晓剑 李薇薇 +3 位作者 钟荣锋 肖银波 许宁徽 孙运乾 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期168-174,200,共8页
目的 化学机械抛光(CMP)包含化学腐蚀和机械磨削两方面,抛光液p H、磨粒粒径和浓度等因素均会不同程度地影响其化学腐蚀和机械磨削能力,从而影响抛光效果。方法 采用30~150 nm连续粒径磨粒抛光液、120 nm均一粒径磨粒抛光液、50 nm和120... 目的 化学机械抛光(CMP)包含化学腐蚀和机械磨削两方面,抛光液p H、磨粒粒径和浓度等因素均会不同程度地影响其化学腐蚀和机械磨削能力,从而影响抛光效果。方法 采用30~150 nm连续粒径磨粒抛光液、120 nm均一粒径磨粒抛光液、50 nm和120 nm配制而成的混合粒径磨粒抛光液,分别对蓝宝石衬底晶圆进行循环CMP实验,研究CMP过程中抛光液体系的变化。结果 连续粒径磨粒抛光液中磨粒大规模团聚,满足高材料去除率的抛光时间仅有4 h,抛光后的晶圆表面粗糙度为0.665 nm;均一粒径磨粒抛光液中磨粒稳定,无团聚现象,抛光9 h内材料去除率较连续粒径磨粒抛光液高94.7%,能至少维持高材料去除率18 h,抛光后的晶圆表面粗糙度为0.204 nm;混合粒径磨粒抛光液初始状态下磨粒稳定性较高,抛光9 h内材料去除率较连续粒径磨粒抛光液高114.8%,之后磨粒出现小规模团聚现象,后9h材料去除率仅为均一粒径磨粒抛光液的59.6%,18 h内材料去除率仅为均一粒径磨粒抛光液的87.7%,但抛光后的晶圆表面粗糙度为0.151 nm。结论 一定时间内追求较高的材料去除率和较好的晶圆表面粗糙度选用混合粒径磨粒抛光液,但需要长时间CMP使用均一粒径磨粒抛光液更适合,因此,在工业生产中需要根据生产要求配合使用混合粒径磨粒抛光液和均一粒径磨粒抛光液。 展开更多
关键词 化学机械抛光 蓝宝石 抛光液 磨粒 微观形貌 材料去除率
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基于数字中心平台的数据治理实践 被引量：2
2
作者 钟荣锋 《数字技术与应用》 2022年第10期140-142,共3页
随着云计算、大数据等技术的发展,数据作为一个公司不可复制的资源,其独特的价值日益显现出来。如何充分利用已有数据,规范公司的管理及运营,降低生产成本,成为多数企业重点关注的问题。下文以中海油服公司为对象,在深入分析该公司数据... 随着云计算、大数据等技术的发展,数据作为一个公司不可复制的资源,其独特的价值日益显现出来。如何充分利用已有数据,规范公司的管理及运营,降低生产成本,成为多数企业重点关注的问题。下文以中海油服公司为对象,在深入分析该公司数据治理面临的问题基础上,针对相关影响因素,提出依托数字中心平台建立数据治理体系,以期为类似研究提供一定的参考。 展开更多
关键词 数据治理 云计算 大数据 相关影响因素 不可复制 数字 平台 公司
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设备状态监测技术在半潜式钻井平台的应用 被引量：2
3
作者 项凯 冼敏元 +2 位作者 蒋爱国 钟荣锋 李飞 《设备管理与维修》 2022年第7期151-154,共4页
应用于半潜式钻井平台关键设备的在线监控系统,采用边云结合分布式监测体系,可对关键设备关键部位的运行状态进行在线监测,实现多源状态参数集成管理与传输;应用基于频谱、包络谱、小波变换等信号处理技术的工况自适应智能诊断方法,辅... 应用于半潜式钻井平台关键设备的在线监控系统,采用边云结合分布式监测体系,可对关键设备关键部位的运行状态进行在线监测,实现多源状态参数集成管理与传输;应用基于频谱、包络谱、小波变换等信号处理技术的工况自适应智能诊断方法,辅助发现关键部位发生故障的预警征兆,为及时进行设备维修提供参考,保障关键设备正常运行,促进现场设备管理由巡回检测、定期检测向长期连续监测、状态和预测性维修过渡。 展开更多
关键词 故障诊断 边云结合 工况自适应 状态监测 钻井平台
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4A技术在企业信息安全方面的应用研究
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作者 刘凡 钟荣锋 《长江信息通信》 2021年第1期168-170,共3页
随着企业信息安全形势的日益严峻,4A安全平台的建设已经进入了很多企业信息化规划当中。文章分析了企业在信息系统安全管理方面存在的不足,并结合4A技术框架,提出了满足实际应用的安全技术框架,为企业实施4A安全平台提供了可行的参考依据。
关键词 4A 信息安全 统一用户管理 授权模型 CA认证
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