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多离子束反应共溅射技术制备(Pb,La)TiO3铁电薄膜及薄膜物化性能表征
1
作者
肖定全
朱建国
+5 位作者
钱正洪
朱居木
郭华聪
谢必正
张文
采
保金
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1994年第4期9-12,共4页
研制了多离子束反应溅射技术并运用该技术在多种衬底上制备晶态(Pb,La)TiO3铁电薄膜。运用多种分析技术对铁电薄膜的物化性能进行了表征。发现在铁电薄膜的近表面有富铅层。测试了铁电薄膜的电滞回线、矫顽场、折射率、吸收...
研制了多离子束反应溅射技术并运用该技术在多种衬底上制备晶态(Pb,La)TiO3铁电薄膜。运用多种分析技术对铁电薄膜的物化性能进行了表征。发现在铁电薄膜的近表面有富铅层。测试了铁电薄膜的电滞回线、矫顽场、折射率、吸收系数等电学和光学参数。利用该技术可在较低衬底温度下在位制备组分可调、附着力强的外延或高度择优取向的铁电薄膜。
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关键词
离子束
反应
溅射
铁电薄膜
薄膜
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题名
多离子束反应共溅射技术制备(Pb,La)TiO3铁电薄膜及薄膜物化性能表征
1
作者
肖定全
朱建国
钱正洪
朱居木
郭华聪
谢必正
张文
采
保金
机构
四川大学材料科学系
四川大学原子核科学与技术研究所
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1994年第4期9-12,共4页
基金
863计划资助项目
文摘
研制了多离子束反应溅射技术并运用该技术在多种衬底上制备晶态(Pb,La)TiO3铁电薄膜。运用多种分析技术对铁电薄膜的物化性能进行了表征。发现在铁电薄膜的近表面有富铅层。测试了铁电薄膜的电滞回线、矫顽场、折射率、吸收系数等电学和光学参数。利用该技术可在较低衬底温度下在位制备组分可调、附着力强的外延或高度择优取向的铁电薄膜。
关键词
离子束
反应
溅射
铁电薄膜
薄膜
Keywords
Multiuion-beam reactive cosputtering, Ferroelectric thin film,PLT
分类号
TN305.92 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多离子束反应共溅射技术制备(Pb,La)TiO3铁电薄膜及薄膜物化性能表征
肖定全
朱建国
钱正洪
朱居木
郭华聪
谢必正
张文
采
保金
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
1994
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