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题名采用导磁片改造磁控装置提高靶材利用率
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作者
刘辛
徐斌
邹寅峰
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机构
苏州凡特真空溅镀科技有限公司
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出处
《真空》
CAS
北大核心
2011年第5期58-60,共3页
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文摘
通过对真空溅镀生产线靶材的刻蚀情况观测,发现所有产线均存在不同程度的靶面刻蚀不均现象,而3号线尤为突出,其端部刻蚀深度相对于其它部位刻蚀深度较深,导致靶材使用寿命短,利用率低。采用高磁导率材料电工纯铁DT4制作导磁片装入磁控装置,试验结果表明,降低了靶面刻蚀不均匀度,靶材利用率提高至少10%。
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关键词
导磁片
磁控装置
靶材利用率
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Keywords
magnetic conductive sheet
magnetic device
target utilization
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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题名利用超低温冷冻技术改造真空溅镀产线
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作者
刘辛
徐斌
邹寅峰
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机构
苏州凡特真空溅镀科技有限公司
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出处
《真空》
CAS
北大核心
2011年第2期76-78,共3页
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文摘
在连续化真空溅镀生产实践中,由于夏秋两个季节的环境湿度大,加之待镀工件和夹具携带的水蒸气,使得真空腔体达到要求的高真空时间较长。这样既延缓了生产节拍,降低了设备产能,又加大了能源消耗。在不改变原生产线设备布局的情况下,利用超低温冷冻技术对原生产线进行改造,以实现快速捕集真空腔体内的水气,使真空腔体迅速达到要求的高真空,并取得了良好效果。
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关键词
真空溅镀
技术改造
超低温冷冻
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Keywords
vacuum sputtering
technological reform
ultralow-temperature freezing
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分类号
TB75
[一般工业技术—真空技术]
TB43
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