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薄膜应力研究 被引量：41
1
作者 邵淑英 范正修 +1 位作者 范瑞瑛 邵建达 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2005年第1期22-27,共6页
综述了近几年薄膜应力研究的重点及新进展,探讨了薄膜应力研究的发展方向。
关键词 薄膜应力 研究 新进展
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几种紫外薄膜材料的光学常数和性能分析 被引量：41
2
作者 袁景梅 汤兆胜 +2 位作者 齐红基 邵建达 范正修 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第8期984-988,共5页
分别采用电阻热蒸发和电子束热蒸发的方法 ,在石英基底上制备了十几种用于紫外光区的氧化物和氟化物单层膜 ,通过测其在 2 0 0～ 2 0 0 0nm波段内的透射率 ,计算出了这些膜材料在从紫外到红外波段内的折射率n和消光系数k的色散曲线 。
关键词 紫外薄膜材料 光学常数 性能分析 电阻热蒸发 子束热蒸发 折射率 消光系数 带隙 截止波长
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ZrO_2薄膜残余应力实验研究 被引量：29
3
作者 邵淑英 范正修 +1 位作者 范瑞瑛 邵建达 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期437-441,共5页
采用ZYGOMarkⅢ GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2 薄膜中的残余应力进行了研究 ,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2 薄膜残余应力的影响。实验结果表明 :随着沉积温度及沉积速率的升高 ,ZrO2 薄膜中残余应力状态... 采用ZYGOMarkⅢ GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2 薄膜中的残余应力进行了研究 ,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2 薄膜残余应力的影响。实验结果表明 :随着沉积温度及沉积速率的升高 ,ZrO2 薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力 ,且压应力值随着沉积温度升高而增大。同时用X射线衍射技术测量分析了不同沉积条件下ZrO2 薄膜的微结构组织 ,探讨了ZrO2 展开更多
关键词 二氧化锆薄膜 薄膜物理 残余应力实验 沉积温度 沉积速率 电子束蒸发法 X射线衍射技术
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HfO_2薄膜的结构对抗激光损伤阈值的影响 被引量：29
4
作者 高卫东 张伟丽 +3 位作者 范树海 张大伟 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期176-179,共4页
利用蒸发氧化铪和离子辅助蒸发金属铪反应沉积氧化铪薄膜,对两种工艺下制备的氧化铪薄膜进行光学和结构以及激光损伤特性的研究 实验结果表明,用金属铪反应沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,并且具有较高的激光损伤阈值 文章对损伤阈值... 利用蒸发氧化铪和离子辅助蒸发金属铪反应沉积氧化铪薄膜,对两种工艺下制备的氧化铪薄膜进行光学和结构以及激光损伤特性的研究 实验结果表明,用金属铪反应沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,并且具有较高的激光损伤阈值 文章对损伤阈值和薄膜的结构及光学特性之间的关系进行了讨论. 展开更多
关键词 铪 氧化铪 薄膜 激光损伤阈值
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石英晶体振荡法监控膜厚研究 被引量：20
5
作者 占美琼 张东平 +3 位作者 杨健贺 洪波 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期585-588,共4页
给出了石英晶体振荡法监控膜厚的基本原理 ,在相同的工艺条件下分别用光电极值法和石英晶体振荡法监控膜厚 ,对制备的增透膜的反射光谱曲线进行了比较 ,并对石英晶体振荡法的监控结果做了误差分析 结果表明 :石英晶体振荡法不仅膜厚监... 给出了石英晶体振荡法监控膜厚的基本原理 ,在相同的工艺条件下分别用光电极值法和石英晶体振荡法监控膜厚 ,对制备的增透膜的反射光谱曲线进行了比较 ,并对石英晶体振荡法的监控结果做了误差分析 结果表明 :石英晶体振荡法不仅膜厚监控精度高 ,而且能监控沉积速率 ,获得稳定的膜层折射率 。 展开更多
关键词 光学薄膜 石英晶体振荡法 光电极值法 工具因子 误差
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表面热透镜技术应用于薄膜微弱吸收测量的理论和实验 被引量：22
6
作者 范树海 贺洪波 +2 位作者 范正修 邵建达 赵元安 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期5774-5777,共4页
由薄膜表面光热形变简化理论和表面热透镜衍射理论导出表面热透镜信号表达式,从理论上证明了表面热透镜信号和薄膜吸收率的线性关系.应用表面热透镜技术研制了薄膜吸收测量仪,测量结果表明其吸收率测量灵敏度和精度均达10-6量级.
关键词 吸收测量 表面热透镜 光热形变 薄膜
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基底温度对直流磁控溅射ITO透明导电薄膜性能的影响 被引量：21
7
作者 曾维强 姚建可 +1 位作者 贺洪波 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期2031-2035,共5页
用直流磁控溅射法制备透明导电锡掺杂氧化铟(ITO)薄膜,靶材为ITO陶瓷靶,组分为m(In2O3):m(SnO2)=9∶1。运用分光光度计、四探针测试仪研究了基底温度对薄膜透过率、电阻率的影响,并用X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行结构分析。计算了晶面间... 用直流磁控溅射法制备透明导电锡掺杂氧化铟(ITO)薄膜,靶材为ITO陶瓷靶,组分为m(In2O3):m(SnO2)=9∶1。运用分光光度计、四探针测试仪研究了基底温度对薄膜透过率、电阻率的影响,并用X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行结构分析。计算了晶面间距和晶粒尺寸,分析了薄膜的力学性质。实验结果表明,在实验设备条件下,直流磁控溅射ITO陶瓷靶制备ITO薄膜时,适当的基底温度(200℃)能在保证薄膜85%以上高可见光透过率下,获得最低的电阻率,即基底温度有个最佳值。薄膜的结晶度随着基底温度的提高而提高。 展开更多
关键词 薄膜 ITO透明导电膜 基底温度 直流磁控溅射
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沉积温度对电子束蒸发沉积ZrO_2薄膜性质的影响 被引量：20
8
作者 邵淑英 范正修 +2 位作者 范瑞瑛 贺洪波 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期701-704,共4页
ZrO2 薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射 (XRD)仪和原子力显微镜 (AFM)检测了ZrO2 薄膜的晶体结构和表面形貌 ,发现室温下沉积ZrO2 薄膜样品为非晶结构 ,随着沉积温度升高 ,ZrO2 薄膜出现明显的结... ZrO2 薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射 (XRD)仪和原子力显微镜 (AFM)检测了ZrO2 薄膜的晶体结构和表面形貌 ,发现室温下沉积ZrO2 薄膜样品为非晶结构 ,随着沉积温度升高 ,ZrO2 薄膜出现明显的结晶现象 ,在薄膜中同时存在四方相及单斜相。薄膜表现为自由取向生长 ,晶粒尺寸随沉积温度升高而增大。同时发现薄膜中的残余应力随沉积温度的升高 ,由张应力状态变为压应力状态 ,这一变化主要是薄膜结构变化引起的内应力的作用结果。同时讨论了不同沉积温度对ZrO2 薄膜光学性质的影响。 展开更多
关键词 薄膜物理学 ZRO2薄膜 电子束蒸发 沉积温度
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脉冲激光辐照光学薄膜的缺陷损伤模型 被引量：20
9
作者 赵元安 王涛 +3 位作者 张东平 贺洪波 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1372-1375,共4页
建立了缺陷吸收升温致薄膜激光损伤模型,该模型从热传导方程出发,考虑了缺陷内部的温度分布以及向薄膜的传导过程,通过引入散射系数简化了Mie散射理论得出的吸收截面.对电子束蒸发沉积的ZrO2∶Y2O3单层膜进行了激光破坏实验,薄膜样品的... 建立了缺陷吸收升温致薄膜激光损伤模型,该模型从热传导方程出发,考虑了缺陷内部的温度分布以及向薄膜的传导过程,通过引入散射系数简化了Mie散射理论得出的吸收截面.对电子束蒸发沉积的ZrO2∶Y2O3单层膜进行了激光破坏实验,薄膜样品的损伤是缺陷引起的,通过辉光放电质谱法对薄膜制备材料的纯度分析发现材料中的主要杂质元素为铂,其含量为0.9%.利用缺陷损伤模型对损伤过程进行了模拟,理论模型和实验结果取得了较好的一致性. 展开更多
关键词 光学薄膜 激光损伤阈值 缺陷损伤模型 吸收截面 散射系数
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电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性 被引量：19
10
作者 侯海虹 孙喜莲 +3 位作者 申雁鸣 邵建达 范正修 易葵 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期3124-3127,共4页
利用电子束蒸发工艺,以Ag层为衬底,沉积了中心波长为632·8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜,膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现,随着膜层厚度的逐渐增加,其表面均方根(RMS)粗糙度和... 利用电子束蒸发工艺,以Ag层为衬底,沉积了中心波长为632·8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜,膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现,随着膜层厚度的逐渐增加,其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算,所得结果与测量结果相一致. 展开更多
关键词 氧化锆 表面粗糙度 标量散射 电子束蒸发
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LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的设计及误差分析 被引量：20
11
作者 谭天亚 黄建兵 +2 位作者 占美琼 邵建达 范正修 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期242-247,共6页
采用矢量合成法设计了LiB3O5(LBO)晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜,在1064 nm处的反射率为0.0014%,532 nm处的反射率为0.0004%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+6.5%时,1064 nm处的反射率增加至0.22%,532 nm处增加至0.87... 采用矢量合成法设计了LiB3O5(LBO)晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜,在1064 nm处的反射率为0.0014%,532 nm处的反射率为0.0004%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+6.5%时,1064 nm处的反射率增加至0.22%,532 nm处增加至0.87%。材料折射率的变化控制在+3%时,1064 nm处的反射率达0.24%,532 nm处达0.22%。沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率。与膜层折射率相比,薄膜物理厚度对剩余反射率的影响小。低折射率膜层的厚度变化对特定波长处的剩余反射率影响最明显,即为该膜系的敏感层。为改善膜基之间的附着力,选择Y2O3或SiO2作为过渡层,从过渡层的厚度匹配和膜层的折射率匹配两方面进行了相应的膜系匹配设计。 展开更多
关键词 薄膜 增透膜 二倍频 矢量合成法 LBO晶体 误差分析 过渡层
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磁控溅射不同厚度银膜的微结构及其光学常数 被引量：17
12
作者 孙喜莲 洪瑞金 +2 位作者 齐红基 范正修 邵建达 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期4923-4927,共5页
用直流溅射法在室温K9玻璃基底上制备了8.2nm—107.2nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及计算机辅助优化程序对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析.结构分析表明制备的Ag薄膜均呈多晶状态,晶体结构均呈面心立方;随着膜厚的增加... 用直流溅射法在室温K9玻璃基底上制备了8.2nm—107.2nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及计算机辅助优化程序对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析.结构分析表明制备的Ag薄膜均呈多晶状态,晶体结构均呈面心立方;随着膜厚的增加,薄膜的平均晶粒尺寸逐渐增大,晶面间距逐渐减小.计算机辅助优化编程计算的薄膜光学常数分析表明在波长550nm处,当膜厚小于17.5nm时,随着膜厚的增加,折射率n快速减小,消光系数k则快速增大;当膜厚大于17.5nm时,n和k逐渐趋于稳定. 展开更多
关键词 直流溅射镀膜 银膜 微结构 光学常数
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应用于投影显示系统的偏振分光镜的设计和制备 被引量：16
13
作者 姚李英 易葵 +3 位作者 杨健 汤兆胜 邵建达 范正修 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1116-1118,共3页
讨论了应用于投影显示系统的满足宽光谱范围、大的入射角、高的消光比的偏振分光镜的设计和制备。提出了一种偏振分光镜的新的设计方法 :采用多对迈克尼尔对组合来满足宽入射角范围的要求 ,采用多个中心波长不同的λ 4膜堆来满足宽光谱... 讨论了应用于投影显示系统的满足宽光谱范围、大的入射角、高的消光比的偏振分光镜的设计和制备。提出了一种偏振分光镜的新的设计方法 :采用多对迈克尼尔对组合来满足宽入射角范围的要求 ,采用多个中心波长不同的λ 4膜堆来满足宽光谱范围。设计的偏振分光镜在 42 0nm～ 6 70nm的波段范围内 ,在 41.34°～ 48.6 6°的入射角范围内 ,达到p偏振光的平均透过率大于 85 % ,p偏振光的平均透过率与s光的平均透过率之比大于 10 0 0。 展开更多
关键词 制备 投影显示 偏振分光镜 设计 大屏幕显示
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1064nm和532nm激光共同辐照薄膜的损伤 被引量：18
14
作者 周明 赵元安 +2 位作者 李大伟 范正修 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期3050-3054,共5页
建立了两个不同波长激光同时辐照薄膜的损伤阈值测试装置,实验研究和对比1064nm激光,532nm激光,1064nm和532nm激光共同作用3种不同方式辐照1064nm和532nm增透膜(ARF)的损伤阈值及其损伤形貌。结果表明,1064nm和532nm激光共同作用损伤形... 建立了两个不同波长激光同时辐照薄膜的损伤阈值测试装置,实验研究和对比1064nm激光,532nm激光,1064nm和532nm激光共同作用3种不同方式辐照1064nm和532nm增透膜(ARF)的损伤阈值及其损伤形貌。结果表明,1064nm和532nm激光共同作用损伤形貌和532nm激光单独作用下的形貌相似,532nm激光在诱发薄膜损伤因素中起主导作用。1064nm激光单独辐照薄膜的损伤阈值高于532nm激光,而1064nm和532nm激光共同作用下薄膜的阈值介于这两者之间。 展开更多
关键词 薄膜 激光损伤阈值 不同波长 缺陷
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惯性约束聚变激光驱动装置用光学元器件的研究进展 被引量：19
15
作者 邵建达 戴亚平 许乔 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2889-2895,共7页
介绍了为提高惯性约束聚变(ICF)激光驱动装置的光束质量和输出功率,我国在神光系列激光装置的建设、运行和性能提升方面开展的工作。综述了我国近年来ICF激光装置用光学元器件的重要研究进展。文中涉及了高纯金属铪和磷酸二氢钾(KDP)等... 介绍了为提高惯性约束聚变(ICF)激光驱动装置的光束质量和输出功率,我国在神光系列激光装置的建设、运行和性能提升方面开展的工作。综述了我国近年来ICF激光装置用光学元器件的重要研究进展。文中涉及了高纯金属铪和磷酸二氢钾(KDP)等原材料的制备和四大主材(钕玻璃、高纯度KDP、熔石英和KDP/高掺氘KDP(KDP/DKDP晶体)的熔炼、加工和生长。描述了元器件的冷加工(针对钕玻璃、白玻璃、KDP晶体)技术和镀膜技术(针对介质膜和化学膜)。最后,给出了针对大口径光学元件工序检及终检开展的多项关键检测技术。文中介绍的关键技术与工艺满足了绝大部分光学元器件的需求,显著提升了光学元器件的研发和生产能力。 展开更多
关键词 惯性约束核聚变(ICF)激光装置 光学元器件 材料制备 光学检测 综述
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离子束辅助技术获得高激光损伤阈值的增透膜 被引量：15
16
作者 王聪娟 晋云霞 +2 位作者 王英剑 邵建达 范正修 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期683-686,共4页
采用合适的离子束辅助沉积(IBAD)参数在K9基底上镀制了高激光损伤阈值的中心波长1053 nm的增透膜,分别从光谱性能、吸收性能、抗激光损伤阈值(LIDT)以及退火后的影响等方面与未进行离子束辅助沉积的薄膜进行对比分析。实验结果发现,采... 采用合适的离子束辅助沉积(IBAD)参数在K9基底上镀制了高激光损伤阈值的中心波长1053 nm的增透膜,分别从光谱性能、吸收性能、抗激光损伤阈值(LIDT)以及退火后的影响等方面与未进行离子束辅助沉积的薄膜进行对比分析。实验结果发现,采用离子辅助制备的薄膜放置80 d后具有更好的光谱稳定性,与未进行离子束辅助镀制的薄膜相比,平均吸收下降了57%,吸收值偏高的奇异点明显减少;损伤阈值提高了60%,用Leica偏振光学显微镜观察50%损伤几率的能量下破斑形貌,发现经过离子束辅助制备的样品破斑形状整齐且缺陷点少;未进行离子束辅助制备的样品退火后吸收降低,阈值提高,但奇异点没有减少,辅助样品变化不大。由此可知,离子辅助有助于制备高性能基频增透膜。 展开更多
关键词 薄膜 离子辅助沉积 弱吸收 激光损伤阈值
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SiO2薄膜折射率的准确拟合分析 被引量：18
17
作者 王胭脂 张伟丽 +4 位作者 范正修 黄建兵 晋云霞 姚建可 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期760-763,共4页
精确的光学常数对于设计和制备高品质的光学薄膜非常重要,尤其是那些光学性能对折射率变化敏感的薄膜。SiO_2是一种常用的低折射率材料,因与常用基底折射率相近使其准确拟合有一定难度。实验通过离子束溅射制备了SiO_2单层膜。考虑测量... 精确的光学常数对于设计和制备高品质的光学薄膜非常重要,尤其是那些光学性能对折射率变化敏感的薄膜。SiO_2是一种常用的低折射率材料,因与常用基底折射率相近使其准确拟合有一定难度。实验通过离子束溅射制备了SiO_2单层膜。考虑测量时的误差和基底折射率的影响,采用透射率包络和反射率包络得到了SiO_2的折射率,并用所得折射率进行反演来对这两种途径在实际测量拟合过程中的准确性进行比对。分析表明,剩余反射率在实际的测量过程中误差更小,直接用测量镀膜前后基片的剩余反射率值可以更简便更准确地得到SiO_2的折射率,能达到10^(-2)的精度。 展开更多
关键词 薄膜 SiO2折射率 包络法 准确拟合
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三硼酸锂晶体上1064nm,532nm,355nm三倍频增透膜的设计 被引量：16
18
作者 谭天亚 黄建兵 +4 位作者 占美琼 邵建达 范正修 吴炜 郭永新 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1327-1332,共6页
采用矢量法设计了三硼酸锂晶体上1064 nm、532 nm和355 nm三倍频增透膜,结果表明1064 nm、532 nm和355 nm波长的剩余反射率分别为0.0017%、0.0002%和0.0013%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+5.5%时,1064 nm、532 nm和355 n... 采用矢量法设计了三硼酸锂晶体上1064 nm、532 nm和355 nm三倍频增透膜,结果表明1064 nm、532 nm和355 nm波长的剩余反射率分别为0.0017%、0.0002%和0.0013%。根据误差分析,薄膜制备时沉积速率精度控制在+5.5%时,1064 nm、532 nm和355 nm波长的剩余反射率分别增加至0.20%、0.84%和1.89%。当材料折射率的变化控制在+3%时,1064 nm处的剩余反射率增大为0.20%,532 nm和355 nm处分别达0.88%和0.24%。与薄膜物理厚度相比,膜层折射率对剩余反射率的影响大。对膜系敏感层的分析表明,在1064 nm和355 nm波长,从入射介质向基底过渡的第二层膜的厚度变化对剩余反射率的影响最大,其次是第一膜层。在532 nm波长,第一和第三膜层是该膜系的敏感层。同时发现,由于薄膜材料的色散,1064 nm5、32 nm和355 nm波长的剩余反射率分别增加至0.15%、0.31%和1.52%。 展开更多
关键词 薄膜光学 三倍频增透膜 矢量法 三硼酸锂晶体 误差分析
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光学薄膜的分层界面散射模型 被引量：16
19
作者 侯海虹 沈健 +3 位作者 沈自才 邵建达 易葵 范正修 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1102-1106,共5页
提出了一种计算光学介质膜系表面总积分散射(TIS)的理论模型。该模型认为,介质膜系粗糙的膜层界面和表面为微观结构不均匀的微薄过渡区;过渡区可用折射率为不同常量的层数足够多的均匀子层来代替,同时这些均匀子层的折射率变化满足指数... 提出了一种计算光学介质膜系表面总积分散射(TIS)的理论模型。该模型认为,介质膜系粗糙的膜层界面和表面为微观结构不均匀的微薄过渡区;过渡区可用折射率为不同常量的层数足够多的均匀子层来代替,同时这些均匀子层的折射率变化满足指数函数的分布规律。利用矩阵法对积分散射的表达式进行了推导。对于电子束蒸发方法在K9玻璃上沉积的ZrO2单层膜,分层界面散射模型对积分散射的理论计算值要比非相关表面散射模型的计算值更加符合总积分散射仪的实验测量结果。 展开更多
关键词 薄膜光学 表面散射模型 矩阵法 总积分散射
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深紫外/紫外薄膜材料的光学常数研究 被引量：16
20
作者 薛春荣 易葵 +2 位作者 齐红基 范正修 邵建达 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期2135-2139,共5页
为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数,研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF_3,NdF_3,GdF_3和3种低折... 为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数,研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF_3,NdF_3,GdF_3和3种低折射率材料薄膜MgF_2,AlF_3,Na_3AlF_6;用商用Lambda900光谱仪测量了它们在190～500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法和迭代算法相结合研究了它们的折射率和消光系数,由柯西色散公式和指数色散公式对得到的离散折射率和消光系数的值用最小二乘法进行曲线拟合,得到了6种薄膜材料在所测波段内的折射率和消光系数的色散公式和色散曲线。所得结果与文献报道的MgF_2和LaF_3的结果相一致,证明了结果的可靠性。 展开更多
关键词 薄膜光学 氟化物薄膜 光学常数 包络法 迭代算法
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