ISI-2802激光直写系统及其应用 被引量：6

1

作者 侯德胜 杜春雷 +1 位作者 邱传凯 白临波 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期27-31,共5页

介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等，并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。

关键词 激光直写 掩模 二元光学 激光光刻机

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微透镜列阵提高红外探测器探测能力的方法研究 被引量：11

2

作者 杜春雷 林祥棣 +5 位作者 周礼书 白临波 邱传凯 徐国森 方家雄 王继元 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期246-249,共4页

研究用微光学方法提高红外探测器探测能力的机理 ,通过实验将锗微透镜列阵耦合到 180元HgCdTe焦平面红外探测器上 ,使耦合组件探测率提高到原来的 2 .8倍。提出的光学耦合效率概念为客观评价微光学聚能元件综合质量及耦合机构性能提供... 研究用微光学方法提高红外探测器探测能力的机理 ,通过实验将锗微透镜列阵耦合到 180元HgCdTe焦平面红外探测器上 ,使耦合组件探测率提高到原来的 2 .8倍。提出的光学耦合效率概念为客观评价微光学聚能元件综合质量及耦合机构性能提供了一种新的方法。 展开更多

关键词 微透镜列阵 红外焦平面探测器 探测率 冷屏效应 光学耦合效率 微光学

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激光直写邻近效应的校正 被引量：11

3

作者 杜惊雷 黄奇忠 +4 位作者 姚军 张怡霄 郭永康 邱传凯 崔铮 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第7期953-957,共5页

邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素，它也限制了激光直写在亚微米和亚半微米光刻中的应用。分析了激光直写邻近效应产生的原因，指出它和电子束直写及投影光刻的区别，提出了一种简便有效的邻近校正方法。实验表明，通过光学... 邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素，它也限制了激光直写在亚微米和亚半微米光刻中的应用。分析了激光直写邻近效应产生的原因，指出它和电子束直写及投影光刻的区别，提出了一种简便有效的邻近校正方法。实验表明，通过光学邻近校正（ＯＰＣ），利用微米级激光直写系统，制作出了０． 展开更多

关键词 激光直写 亚微米 邻近效应 光学邻近校正 光刻

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半导体激光器列阵二元光学准直器的设计和制作 被引量：3

4

作者 周崇喜 邱传凯 +1 位作者 郑永超 杨志卿 《光电工程》 CAS CSCD 1998年第A12期38-41,共4页

阐述了二元光学元件用于半导体激光器列阵准直的新方法 ,并设计制作了二元光学准直器。针对半导体激光器列阵的特点 ,采用综合平衡方法进行设计和制作 ,使其理论衍射效率超过 5 1 %。

关键词 二元光学元件 半导体激光器 准直仪

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掩模移动技术中的边框效应及其应用 被引量：6

5

作者 曾红军 陈波 +2 位作者 郭履容 邱传凯 杜春雷 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第5期19-22,共4页

掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办... 掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术 ,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高 ,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手 ,阐明了消除这一效应负面影响的办法 ,并利用它来降低掩模移动技术的对称性要求 ,在实验中制作出了面形复杂的连续浮雕微光学元件。 展开更多

关键词 掩膜移动技术 微光学元件 边框效应 复杂面形

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深浮雕连续微光学元件制作方法(英文) 被引量：6

6

作者 曾红军 陈波 +4 位作者 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第4期1-6,共6页

提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考... 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。 展开更多

关键词 微光学元件 蚀刻 连续深浮雕

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静电排斥驱动六边形MEMS微镜(英文) 被引量：8

7

作者 胡放荣 王爱娜 +1 位作者 邱传凯 姚军 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2010年第2期171-176,共6页

为消除静电吸引型微镜因存在静电吸合效应而导致的短路现象,基于电场的非均匀分布可以产生静电排斥力的原理,设计了一种静电排斥型六边形微机械反射镜.微镜包含7组驱动电极,最大的一组驱动电极由镜面和其正下方的六边形下电极组成,其他... 为消除静电吸引型微镜因存在静电吸合效应而导致的短路现象,基于电场的非均匀分布可以产生静电排斥力的原理,设计了一种静电排斥型六边形微机械反射镜.微镜包含7组驱动电极,最大的一组驱动电极由镜面和其正下方的六边形下电极组成,其他6组分别位于微镜的各条边上,其中3组为梳齿结构,另外3组为U形弹簧,镜面由3组U形弹簧支撑.利用有限元软件对微镜频率响应和暂态响应特性进行了仿真,结果表明谐振频率高达7kHz,暂态响应时间小于0.0003s.利用表面硅工艺加工出了样片,并用白光干涉仪对其静态位移特性进行了测试,在50V直流电压下微镜位移量为0.7μm.由结果可知该微镜可消除静电吸合效应.故该微镜不仅可用于对反射光进行光程和相位的调制,也可用于自适应光学系统中波前畸变的校正. 展开更多

关键词 微机电系统 微镜 静电驱动器 表面微加工

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衍射微透镜列阵的研究与应用 被引量：6

8

作者 杜春雷 周礼书 +3 位作者 邱传凯 白临波 王永茹 邓启凌 《光学技术》 EI CAS CSCD 1998年第3期17-19,22,共4页

本文研究了衍射微透镜列阵的设计与制作工艺方法，在此基础上研制出一系列衍射微透镜列阵，衍射效率均大于８５％，在深紫外、可见及红外波前传感器中得到了成功应用。

关键词 衍射透镜 衍射效率 激光直写 刻蚀 微透镜列阵

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微米孔阵列振幅型光子筛的设计和制作 被引量：6

9

作者 程冠晓 邢廷文 +4 位作者 林妩媚 周金梅 邱传凯 廖志杰 马建玲 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第05B期2344-2347,2350,共5页

在软X射线波段,各种材料的折射率均接近或小于1,常规的折射光学元件将无法使用,但是可以用光子筛等新型衍射光学元件实现软X射线波段的聚焦、成像和色散.光子筛具有体积小、重量轻、易复制和特殊的光学性能等优点,可以构成微型光机电集... 在软X射线波段,各种材料的折射率均接近或小于1,常规的折射光学元件将无法使用,但是可以用光子筛等新型衍射光学元件实现软X射线波段的聚焦、成像和色散.光子筛具有体积小、重量轻、易复制和特殊的光学性能等优点,可以构成微型光机电集成系统(MOEMS),有效提高器件效能,降低成本,在军事、工业和民用等方面,应用市场潜力很大.综述了光子筛的国内外研究进展,介绍了光子筛的成像原理,根据标量衍射理论探讨了低数值孔径振幅光子筛的基本设计方法和制作工艺,给出了光子筛的计算机仿真结果,并且用激光直写方法在镀铬石英基片上刻蚀了特征尺寸为5μm的微米孔阵列光子筛,实验测试了光子筛的成像性能. 展开更多

关键词 衍射光学 微光学设计 光子筛 光刻

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基于微悬臂梁的化学传感器的灵敏度研究 被引量：5

10

作者 王大甲 胡放荣 +2 位作者 姚军 邱传凯 王爱娜 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1333-1336,共4页

基于探测的原理,在动态模式下,首先对不同结构梁的本征频率偏移量进行了有限元分析,结果表明三角形梁的灵敏度最高。然后重点针对不同结构参数的三角形梁进行了动态计算,获得了其频率偏移量随结构参数变化的关系曲线。另外,通过静态模... 基于探测的原理,在动态模式下,首先对不同结构梁的本征频率偏移量进行了有限元分析,结果表明三角形梁的灵敏度最高。然后重点针对不同结构参数的三角形梁进行了动态计算,获得了其频率偏移量随结构参数变化的关系曲线。另外,通过静态模式下的有限元计算,发现各种梁自由端的偏移量相同,表明它们的静态灵敏度与形状无关。最后,对三角形梁在不同测量模式下结构参数的优化设计进行了分析。 展开更多

关键词 化学传感器灵敏度 三角形微悬臂梁 动态模式 静态模式

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凹非球面检测的双计算全息图设计及制作 被引量：3

11

作者 谢意 陈强 +3 位作者 伍凡 邱传凯 侯溪 张晶 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期59-62,共4页

基于全息补偿检验非球面的原理,提出并设计了一种二元纯相位型双计算全息图。该全息图由主全息和对准全息两部分组成,用于检测非球面的主全息位于基底的中心,而对准全息位于其边缘,用来精确定位主全息,从而消除离焦、偏心及倾斜所引入... 基于全息补偿检验非球面的原理,提出并设计了一种二元纯相位型双计算全息图。该全息图由主全息和对准全息两部分组成,用于检测非球面的主全息位于基底的中心,而对准全息位于其边缘,用来精确定位主全息,从而消除离焦、偏心及倾斜所引入的误差。两部分全息同心是实现对主全息准确定位的前提,为此,提出了"一次曝光,两次刻蚀"的制作方法,即一次性将两部分图形在同一块掩膜版上制作出,曝光一次后,基底经两次刻蚀制作出具有两种不同相位深度的双计算全息图。最后给出了一个检测Φ140、F2抛物面镜的双计算全息设计实例,并将其检测结果与自准直检测结果比较,二者吻合良好,验证了该设计方法的正确性及制作工艺的可行性。 展开更多

关键词 测量 凹非球面 计算全息图 湿法刻蚀

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AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究 被引量：1

12

作者 张晓玉 姚汉民 +2 位作者 杜春雷 潘丽 邱传凯 《微细加工技术》 2003年第4期22-26,共5页

为解决研制深浮雕连续非球面微光学元件所面临的浮雕深度和面型控制这两大难点,选取吸收系数小的AZ9260正性光刻胶进行实验研究。提出了采用低温长时间前烘和连续升温后烘技术实现深浮雕结构和非球面面型的控制,并得到口径为300μm、抗... 为解决研制深浮雕连续非球面微光学元件所面临的浮雕深度和面型控制这两大难点,选取吸收系数小的AZ9260正性光刻胶进行实验研究。提出了采用低温长时间前烘和连续升温后烘技术实现深浮雕结构和非球面面型的控制,并得到口径为300μm、抗蚀剂厚度为35.49μm、石英刻蚀深度为72.36μm双曲线柱面透镜的最佳光刻工艺参数。实验曲线与标准双曲线拟合所得最大误差为2.3637μm,均方根差为0.9779μm。 展开更多

关键词 AZ9260光刻胶 连续非球面微透镜阵列 光刻 深浮雕 面型控制

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衍射光学二维激光扫描器设计制作研究 被引量：2

13

作者 周崇喜 杜春雷 +3 位作者 郭永康 邱传凯 周礼书 林大键 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期254-260,共7页

提出、设计并采用激光直写和反应离子刻蚀技术制作出一种新型的衍射光学纯相位型二维激光扫描器，并进行了系统参数的实验测试，其扫描角度为２５°×２５°，衍射效率为４１％。

关键词 衍射光学 二元光学元件 激光扫描器 设计

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衍射微透镜在红外单元探测器中的应用 被引量：3

14

作者 邱传凯 杜春雷 +4 位作者 邓启凌 安小强 王永茹 周礼书 赵建中 《光电工程》 CAS CSCD 2000年第2期35-38,共4页

研究了衍射微透镜提高红外探测器探测能力的方法 ,通过实验将衍射微透镜耦合到红外单元探测器上 ,使耦合组件的响应度提高到 3.2倍、比探测率提高到 4.2倍。结果表明 :采用微透镜作光聚能器后 ,探测器光敏面面积可减少而光能利用率增加 ... 研究了衍射微透镜提高红外探测器探测能力的方法 ,通过实验将衍射微透镜耦合到红外单元探测器上 ,使耦合组件的响应度提高到 3.2倍、比探测率提高到 4.2倍。结果表明 :采用微透镜作光聚能器后 ,探测器光敏面面积可减少而光能利用率增加 ,探测性能提高。衍射微透镜结构小 ,有利于与探测器集成 ,其研究极具实用价值。 展开更多

关键词 衍射微透镜 红外探测器 位相匹配 增益 红外单元

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微透镜列阵与红外探测器列阵集成芯片的研究 被引量：4

15

作者 杜春雷 邱传凯 +3 位作者 邓启凌 潘丽 白临波 王永茹 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期1-4,共4页

在分析微透镜列阵光聚能原理的基础上,针对背照式256290铂硅红外焦平面探测器列阵 的结构参数,设计了衍射微透镜列阵,使入射光通过硅基底聚焦至探测器的各个光敏面上, 提高光能利用率从而增强探测能力。实验获得了微透镜列阵与红外焦平... 在分析微透镜列阵光聚能原理的基础上,针对背照式256290铂硅红外焦平面探测器列阵 的结构参数,设计了衍射微透镜列阵,使入射光通过硅基底聚焦至探测器的各个光敏面上, 提高光能利用率从而增强探测能力。实验获得了微透镜列阵与红外焦平面集成芯片,并在热成像中取得了良好的结果。 展开更多

关键词 微透镜列阵 红外探测器 集成芯片 热成像

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连续面形微光学元件的深刻蚀工艺 被引量：3

16

作者 唐雄贵 杜春雷 +2 位作者 邱传凯 董小春 潘丽 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期13-16,共4页

利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石... 利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%。 展开更多

关键词 微光学元件 深刻蚀 等高子刻蚀 连续面形

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激光直写系统制作掩模和器件的工艺 被引量：4

17

作者 侯德胜 冯伯儒 +2 位作者 张锦 杜春雷 邱传凯 《微细加工技术》 EI 1999年第1期55-61,共7页

激光直写系统是国际上９０年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光，将设计图形直接转移到掩模或硅... 激光直写系统是国际上９０年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光，将设计图形直接转移到掩模或硅片上。激光直写系统的应用，可以分成一次曝光制作光刻掩模和多次套刻曝光制作器件两个方面。介绍使用激光直写系统制作光刻掩模和套刻器件的具体工艺。 展开更多

关键词 激光直写 光刻掩模 半导体器件 微电子工艺

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消色差谐衍射微透镜列阵的应用研究 被引量：3

18

作者 杜春雷 白临波 +2 位作者 邱传凯 王永茹 潘丽 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第5期426-430,共5页

本文研究菲涅耳谐衍射透镜的特性和工作条件 ,分析二元谐衍射透镜的衍射效率及制作要求 ,设计并研制了用于萨克 -哈特曼波前传感器的双波长共焦谐衍射微透镜列阵 ,得到了良好的应用效果 .

关键词 谐衍射透镜 多波长共焦 衍射效率

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阵列波导光栅制作关键技术

19

作者 郑国兴 杜春雷 邱传凯 《光子技术》 2004年第2期77-80,共4页

介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等。论述了利用CVD制作AWG所需SiO_2光波导的化学过程及其特点,给出了我们制作的光波导的测试数据。给出了通过调整局部设计数据而得到的较好面型的激光直写AWG... 介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等。论述了利用CVD制作AWG所需SiO_2光波导的化学过程及其特点,给出了我们制作的光波导的测试数据。给出了通过调整局部设计数据而得到的较好面型的激光直写AWG图形。介绍了我们利用RIE刻蚀得到的AWG实验晶片和利用ICP刻蚀AWG的可行性。 展开更多

关键词 阵列波导光栅 AWG 结构参数 制作材料 SiO2光波导 激光直写光刻 ICP反应离子刻蚀

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校正激光直写邻近效应的快速方法 被引量：2

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作者 杜惊雷 郭永康 +4 位作者 黄奇忠 粟敬钦 高福华 邱传凯 崔铮 《光电工程》 CAS CSCD 1998年第6期51-54,共4页

针对激光直写中的邻近效应的特点，提出通过直写曝光数据预补偿进行光学邻近效应校正的快速、有效方法，并获得了满意的实验结果。

关键词 激光直写 邻近效应 激光光刻

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