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界面移动法测定离子迁移数实验的优化
被引量:
5
1
作者
吴舒婷
张惠芳
+4 位作者
谭
翊
鑫
郑欧
高绍康
李奕
陈建中
《大学化学》
CAS
2016年第2期24-28,共5页
在基础物理化学实验界面移动法测定离子迁移数中,针对传统实验方案所用镉电极存在的不足之处,改用铜电极进行了平行对比实验,发现采用铜电极的实验方案在保证实验数据有良好准确度的前提下,既能降低电极材料的毒性,也能降低实验相关设...
在基础物理化学实验界面移动法测定离子迁移数中,针对传统实验方案所用镉电极存在的不足之处,改用铜电极进行了平行对比实验,发现采用铜电极的实验方案在保证实验数据有良好准确度的前提下,既能降低电极材料的毒性,也能降低实验相关设备的配置要求。
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关键词
界面移动法
离子迁移数
电极
阳极材料
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职称材料
插层Al_(2)O_(3)对氧化铪基忆阻器的性能优化及多值特性研究
2
作者
谭
翊
鑫
何慧凯
《微电子学》
CAS
北大核心
2023年第6期1114-1124,共11页
近年来,氧化铪基忆阻器因其优异的阻变性能及与CMOS工艺兼容等特点而被广泛研究。然而,氧化铪基忆阻器仍存在以下问题:1)器件良率、可靠性、均一性不足;2)Set和Reset过程中电流突变,导致多值特性较差。为实现氧化铪基忆阻器的性能优化...
近年来,氧化铪基忆阻器因其优异的阻变性能及与CMOS工艺兼容等特点而被广泛研究。然而,氧化铪基忆阻器仍存在以下问题:1)器件良率、可靠性、均一性不足;2)Set和Reset过程中电流突变,导致多值特性较差。为实现氧化铪基忆阻器的性能优化及多值特性,文章在HfO_(2)表面生长一层1~5 nm Al_(2)O_(3),构造Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双介质层忆阻器,并对HfO_(2)和Al_(2)O_(3)的厚度进行优化,最终得到性能显著提升的Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双介质层多值忆阻器。该器件呈现出保持性良好的10个不同电阻态(1×104s@85℃)。由于氧离子在Al_(2)O_(3)层的迁移率更低,限制了氧空位细丝生长速率及宽度,且Al_(2)O_(3)具有热增强作用,使氧空位分布更均匀,促使氧空位细丝生成/断裂过程由突变转为渐变。该工作为进一步实现氧化铪基忆阻器的性能优化及多值特性提供了参考。
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关键词
忆阻器
氧化铪
氧化铝
多值特性
性能优化
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职称材料
忆阻器堆叠交叉阵列漏电流问题研究进展
3
作者
谭
翊
鑫
何慧凯
《微电子学》
CAS
北大核心
2022年第6期1016-1026,共11页
忆阻器是一种新型的非易失性存储器,具有结构简单、功耗低、集成密度高、类突触性质等特点。忆阻器主要以交叉阵列的形式作为人工突触,被用于构造人工神经网络,然而,忆阻器的交叉阵列面临着潜在的通路漏电流问题,这阻碍了忆阻器的进一...
忆阻器是一种新型的非易失性存储器,具有结构简单、功耗低、集成密度高、类突触性质等特点。忆阻器主要以交叉阵列的形式作为人工突触,被用于构造人工神经网络,然而,忆阻器的交叉阵列面临着潜在的通路漏电流问题,这阻碍了忆阻器的进一步应用。文章简要分析了忆阻器堆叠交叉阵列产生漏电流的原因,主要介绍了二极管-忆阻器、选通器-忆阻器、晶体管-忆阻器等多种抑制漏电流的方案,总结并展望了超大规模集成忆阻器的应用前景。
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关键词
忆阻器
漏电流
1T1R
1S1R
1D1R
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职称材料
题名
界面移动法测定离子迁移数实验的优化
被引量:
5
1
作者
吴舒婷
张惠芳
谭
翊
鑫
郑欧
高绍康
李奕
陈建中
机构
福州大学化学学院
出处
《大学化学》
CAS
2016年第2期24-28,共5页
基金
教育部本科教学质量工程项目(国家级教学团队
教高函[2008]19号)
+1 种基金
福州大学本科高等教育教学改革工程
国家基础科学人才培养基金项目(J1103303)
文摘
在基础物理化学实验界面移动法测定离子迁移数中,针对传统实验方案所用镉电极存在的不足之处,改用铜电极进行了平行对比实验,发现采用铜电极的实验方案在保证实验数据有良好准确度的前提下,既能降低电极材料的毒性,也能降低实验相关设备的配置要求。
关键词
界面移动法
离子迁移数
电极
阳极材料
Keywords
Moving boundary method
Ion transference number
Electrode
Anode materia
分类号
O64 [理学—物理化学]
G64 [理学—化学]
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职称材料
题名
插层Al_(2)O_(3)对氧化铪基忆阻器的性能优化及多值特性研究
2
作者
谭
翊
鑫
何慧凯
机构
中国电子科技南湖研究院
中国科学技术大学先进技术研究院
出处
《微电子学》
CAS
北大核心
2023年第6期1114-1124,共11页
基金
浙江省“领雁”研发攻关计划资助项目(2022C01098)
文摘
近年来,氧化铪基忆阻器因其优异的阻变性能及与CMOS工艺兼容等特点而被广泛研究。然而,氧化铪基忆阻器仍存在以下问题:1)器件良率、可靠性、均一性不足;2)Set和Reset过程中电流突变,导致多值特性较差。为实现氧化铪基忆阻器的性能优化及多值特性,文章在HfO_(2)表面生长一层1~5 nm Al_(2)O_(3),构造Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双介质层忆阻器,并对HfO_(2)和Al_(2)O_(3)的厚度进行优化,最终得到性能显著提升的Al_(2)O_(3)/HfO_(2)双介质层多值忆阻器。该器件呈现出保持性良好的10个不同电阻态(1×104s@85℃)。由于氧离子在Al_(2)O_(3)层的迁移率更低,限制了氧空位细丝生长速率及宽度,且Al_(2)O_(3)具有热增强作用,使氧空位分布更均匀,促使氧空位细丝生成/断裂过程由突变转为渐变。该工作为进一步实现氧化铪基忆阻器的性能优化及多值特性提供了参考。
关键词
忆阻器
氧化铪
氧化铝
多值特性
性能优化
Keywords
memristor
HfO_(2)
Al_(2)O_(3)
multi-level characteristics
performance optimization
分类号
TN389 [电子电信—物理电子学]
TN432
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职称材料
题名
忆阻器堆叠交叉阵列漏电流问题研究进展
3
作者
谭
翊
鑫
何慧凯
机构
中国电子科技南湖研究院
中国科学技术大学先进技术研究院
出处
《微电子学》
CAS
北大核心
2022年第6期1016-1026,共11页
基金
浙江省“领雁”研发攻关计划资助项目(2022C01098)
文摘
忆阻器是一种新型的非易失性存储器,具有结构简单、功耗低、集成密度高、类突触性质等特点。忆阻器主要以交叉阵列的形式作为人工突触,被用于构造人工神经网络,然而,忆阻器的交叉阵列面临着潜在的通路漏电流问题,这阻碍了忆阻器的进一步应用。文章简要分析了忆阻器堆叠交叉阵列产生漏电流的原因,主要介绍了二极管-忆阻器、选通器-忆阻器、晶体管-忆阻器等多种抑制漏电流的方案,总结并展望了超大规模集成忆阻器的应用前景。
关键词
忆阻器
漏电流
1T1R
1S1R
1D1R
Keywords
memristor
sneak current
1T1R
1S1R
1D1R
分类号
TN60 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
界面移动法测定离子迁移数实验的优化
吴舒婷
张惠芳
谭
翊
鑫
郑欧
高绍康
李奕
陈建中
《大学化学》
CAS
2016
5
下载PDF
职称材料
2
插层Al_(2)O_(3)对氧化铪基忆阻器的性能优化及多值特性研究
谭
翊
鑫
何慧凯
《微电子学》
CAS
北大核心
2023
0
下载PDF
职称材料
3
忆阻器堆叠交叉阵列漏电流问题研究进展
谭
翊
鑫
何慧凯
《微电子学》
CAS
北大核心
2022
0
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