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LPCVD制备纳米硅镶嵌结构氮化硅膜及其内应力 被引量:14
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作者 陈大鹏 叶甜春 +4 位作者 常青 李兵 赵玲莉 韩敬东 胥兴才 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第12期1529-1533,共5页
报道了在采用 L PCVD法制备的富硅 Si Nx 膜中发现的部分晶化的硅镶嵌微结构 .视生长条件和工艺不同 ,该结构的尺度范围从数十到几百纳米不等 .利用不同条件下生长的 Si Nx 膜的应力测试结果和透射电镜观测结果 ,分析了富硅型 Si Nx 膜... 报道了在采用 L PCVD法制备的富硅 Si Nx 膜中发现的部分晶化的硅镶嵌微结构 .视生长条件和工艺不同 ,该结构的尺度范围从数十到几百纳米不等 .利用不同条件下生长的 Si Nx 膜的应力测试结果和透射电镜观测结果 ,分析了富硅型 Si Nx 膜的微结构的成因及其与膜内应力之间的相互影响 ,对富硅型 Si Nx 膜的 L PCVD生长工艺进行优化 ,大大降低了膜的张应力 ,无支撑成膜面积可达 4 0 m m× 4 0 mm.通过这一研究结果 ,实现了 L PCVD可控制生长确定张应力的 Si Nx 展开更多
关键词 硅镶嵌微结构 LPCVD 氮化硅 薄膜
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人类不成熟卵母细胞体外成熟影响的因素初探 被引量:10
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作者 常青 林戈 +2 位作者 杨苏安 阳翎 卢光琇 《生殖与避孕》 CAS CSCD 北大核心 2000年第3期156-160,共5页
为研究在自然月经周期中获得的人类不成熟卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体体外成熟培养条件 ,作者从手术切除的卵巢组织获取不成熟卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体 ,分别置于 90 % Ham' F-1 0 + 1 0 %灭活人血清 + FSH+ h CG(... 为研究在自然月经周期中获得的人类不成熟卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体体外成熟培养条件 ,作者从手术切除的卵巢组织获取不成熟卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体 ,分别置于 90 % Ham' F-1 0 + 1 0 %灭活人血清 + FSH+ h CG(模拟卵泡液 )与 5 0 %Ham' F-1 0 + 5 0 %人类成熟卵泡液中培养 48h。结果显示 ,卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体在两种体外成熟培养基中培养 48h后 ,成熟率分别为 41 .8%和 2 1 .1 % ,两者之间存在统计学差异 (P<0 .0 5 )。作者还比较了在前一种培养基中卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体和裸卵的体外成熟率 ,分别为 41 .8%和 7.6% ,两者间存在统计学差异 (P<0 .0 0 5 )。将获取的不成熟卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体按供者年龄分成 2 5~ 3 5岁组和 3 6~46岁组 ,比较此两组卵母细胞在前一种培养基中成熟率 ,分别为 5 7.1 %和 2 5 .0 % ,两者间在统计学上有显著性差异 (P<0 .0 1 )。结果提示 :不成熟卵母细胞 -放射冠 -卵丘细胞复合体可在模拟卵泡液中培养成熟 ,优于 5 0 % Ham' F-1 0 + 5 0 %人类成熟卵泡液 ;卵丘细胞包裹对于卵母细胞体外成熟有重要作用 ;供卵者年龄可影响卵母细胞的体外成熟率。 展开更多
关键词 卵母细胞 放射冠 卵丘细胞复合体 体外成熟
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阻变式存储器存储机理 被引量:8
3
作者 王永 管伟华 +2 位作者 龙世兵 刘明 常青 《物理》 CAS 北大核心 2008年第12期870-874,共5页
阻变式存储器(resistive random access memory,RRAM)是以材料的电阻在外加电场作用下可在高阻态和低阻态之间实现可逆转换为基础的一类前瞻性下一代非挥发存储器.它具有在32nm节点及以下取代现有主流Flash存储器的潜力,成为目前新型存... 阻变式存储器(resistive random access memory,RRAM)是以材料的电阻在外加电场作用下可在高阻态和低阻态之间实现可逆转换为基础的一类前瞻性下一代非挥发存储器.它具有在32nm节点及以下取代现有主流Flash存储器的潜力,成为目前新型存储器的一个重要研究方向.但阻变式存储器的电阴转变机理不明确,制约它的进一步研发与应用.文章对阻变式存储器的体材料中几种基本电荷输运机制进行了归纳,总结了目前对阻变式存储器存储机理的理论模型. 展开更多
关键词 非挥发性 阻变式存储器(RRAM) 综述 空间电荷限制电流(SCLC) 细丝
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3333lp/mm X射线透射光栅的研制 被引量:11
4
作者 朱效立 马杰 +5 位作者 常青 叶甜春 刘明 曹磊峰 杨家敏 张文海 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1026-1030,共5页
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批... 针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批量复制光栅。在国内首次完成了3333lp/mm X射线透射光栅的研制,栅线宽度为150nm,周期为300nm,金吸收体厚度为500nm。衍射效率标定的结果表明,该光栅的占空比合理、侧壁陡直,具有良好的色散特性,能够满足空间探测、同步辐射和变等离子诊断等多个领域的应用。 展开更多
关键词 X射线透射光栅 电子束光刻 X射线光刻 高线密度光栅
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高线密度X射线透射光栅的制作工艺 被引量:12
5
作者 朱效立 马杰 +9 位作者 曹磊峰 杨家敏 常青 刘明 陈宝钦 牛洁斌 张庆钊 姜骥 赵珉 叶甜春 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期2006-2010,共5页
采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然... 采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性. 展开更多
关键词 电子束光刻 透射光栅 X射线光刻 X射线衍射光学元件
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接受美学与新闻传播效应 被引量:7
6
作者 常青 《徐州师范大学学报(哲学社会科学版)》 2002年第4期58-61,共4页
新闻实践迫使新闻学的研究关注受众与新闻传播效应 ,而这正是传统新闻学理论中的薄弱之处。接受美学对文本与接受关系的全新理解 ,为新闻传播效应的研究提供了参考和借鉴。这一切又与马克思关于生产与消费的理论暗合。
关键词 接受美学 传播效应 受众 生产与消费
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32nm节点极紫外光刻掩模的集成研制 被引量:9
7
作者 杜宇禅 李海亮 +2 位作者 史丽娜 李春 常青 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期320-326,共7页
报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6inch(1inch=2.54cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32nm节点6inch标准极紫外光刻掩模的设计方案,及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究,对缺陷控制及提高掩模效率的方法进行了分析。运用... 报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6inch(1inch=2.54cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32nm节点6inch标准极紫外光刻掩模的设计方案,及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究,对缺陷控制及提高掩模效率的方法进行了分析。运用时域有限差分法对掩模的光学特性进行了仿真,根据仿真结果确定合适的Cr吸收层厚度。运用电子束光刻技术进行了掩模的图形生成,针对其中的电子束光刻临近效应进行了蒙特卡罗理论分析,用高密度等离子体刻蚀进行了图形转移,所制造的掩模图形特征尺寸小于100nm,特征尺寸控制精度优于20nm,满足技术设计要求。 展开更多
关键词 X射线光学 极紫外投影光刻 掩模 电子束光刻 32 nm节点 时域有限差分法
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带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作 被引量:8
8
作者 马杰 曹磊峰 +6 位作者 常青 吴璇 李海亮 朱效立 刘明 陈宝钦 叶甜春 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2009年第10期30-34,共5页
对利用X射线光刻制作大高宽比硬X射线波带片的设计和制作工艺进行了研究。采用电子束光刻制作X射线光刻掩模,并利用X射线光刻制作最终的硬X射线波带片。采用对光刻胶结构加入支撑点的方法,大大提高了X射线光刻制作硬X射线波带片的高宽... 对利用X射线光刻制作大高宽比硬X射线波带片的设计和制作工艺进行了研究。采用电子束光刻制作X射线光刻掩模,并利用X射线光刻制作最终的硬X射线波带片。采用对光刻胶结构加入支撑点的方法,大大提高了X射线光刻制作硬X射线波带片的高宽比。对所加入支撑点的布置策略进行了优化,使得支撑点所占的面积比例减小。所制作的波带片最外环宽度为200nm,厚度为2.8μm,具有优良的结构质量,预期可用于10keV到25keV波段,并具有优于250nm的成像分辨率。 展开更多
关键词 大高宽比 x射线波带片 X射线光刻 衍射效率
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电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用 被引量:7
9
作者 陈宝钦 赵珉 +8 位作者 吴璇 牛洁斌 刘键 任黎明 王琴 朱效立 徐秋霞 常青 刘明 《微纳电子技术》 CAS 2008年第12期683-688,共6页
电子束光刻技术是推动微米电子学和微纳米加工发展的关键技术,尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用。介绍了中国科学院微电子研究所拥有JEOLJBX5000LS、JBX6300FS纳米电子束光刻系统和电子显微镜系统的电子束光刻技术实验室,利用电... 电子束光刻技术是推动微米电子学和微纳米加工发展的关键技术,尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用。介绍了中国科学院微电子研究所拥有JEOLJBX5000LS、JBX6300FS纳米电子束光刻系统和电子显微镜系统的电子束光刻技术实验室,利用电子束直写系统所开展的纳米器件和纳米结构制造工艺技术方面的研究。重点阐述了如何利用电子束直写技术实现纳米器件和纳米结构的电子束光刻。针对电子束光刻效率低和电子束光刻邻近效应等问题所采取的措施;采用无宽度线曝光技术和高分辨率、高反差、低灵敏度电子抗蚀剂相结合实现电子束纳米尺度光刻以及采用电子束光刻与X射线曝光相结合的技术实现高高宽比的纳米尺度结构的加工等具体工艺技术问题展开讨论。 展开更多
关键词 电子束光刻 电子束直写 电子束邻近效应校正 纳米制造 纳米器件 纳米结构
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人类胚胎干细胞向造血细胞和内皮细胞诱导分化的初步研究 被引量:5
10
作者 王建 赵惠萍 +5 位作者 常青 林戈 杨胜 聂东宋 王绮如 卢光琇 《中国实验血液学杂志》 CAS CSCD 2005年第2期222-228,共7页
胚胎干(ES)细胞是一种能够自我更新、长期增殖并且具有多向分化潜能的干细胞。近年来的研究表明, 小鼠胚胎干细胞体外分化能够模拟体内造血发育的过程。为探讨诱导人类胚胎干细胞向造血细胞和内皮细胞的 分化的方法,将人类胚胎干细胞去... 胚胎干(ES)细胞是一种能够自我更新、长期增殖并且具有多向分化潜能的干细胞。近年来的研究表明, 小鼠胚胎干细胞体外分化能够模拟体内造血发育的过程。为探讨诱导人类胚胎干细胞向造血细胞和内皮细胞的 分化的方法,将人类胚胎干细胞去饲养层,形成拟胚体(EB)培养3天后消化;采用基质细胞条件培养基联合细胞 因子的诱导体系,诱导8天后,种植到半固体培养基中培养7-14天。应用RT-PCR检测诱导细胞flk-1、BMI-1、scl、 Zeta-globin造血相关基因的表达;流式细胞术检测KDR、CD34等造血细胞表面抗原的表达;免疫组织化学检测集落 细胞的表面标记。结果表明:①半固体培养基中出现20-30个细胞组成的集落,集落细胞再种植仍然能够形成大 小相似的细胞集落;另外一些较大的细胞集落中CD45细胞呈阳性。②部分细胞贴壁生长形成内皮细胞样集落,Ⅷ 因子、KDR、UEA检测均为阳性。③在ES细胞内有少量flk-1、BMI-1表达,而scl、Zeta-globin基因不表达;自发分化 3天的EB可见flk-1、BMI-1表达上调;消化形成单细胞并诱导4天,检测到flk-1、BMI-1、scl、Zeta-globin基因的表 达,第8天仍然检测到flk-1、BMI-1、scl基因的表达,Zeta-globin基因不表达。④诱导8天的细胞中表达flk-1阳性细 胞的率为9.8%,CD34阳性细胞占总细胞量的16.8%。 展开更多
关键词 胚胎干细胞 诱导分化 造血细胞 内皮细胞
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新闻色情化——不容忽视的病态传播现象 被引量:5
11
作者 常青 《新闻爱好者》 北大核心 2004年第9期4-5,共2页
关键词 新闻色情化 病态传播 新闻质量 职业道德 社会责任
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纳米压印光刻模版制作技术 被引量:6
12
作者 范东升 常青 陈大鹏 《电子工业专用设备》 2005年第2期26-32,共7页
在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)... 在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)和其他纳米结构的图形复制。纳米压印光刻技术主要包括热压印、紫外固化压印和微接触法压印。介绍了在这3种纳米压印光刻技术中,压印模版制作的制作工艺和模版表面的防粘连处理,并且讨论3种压印方法适用的不同领域。 展开更多
关键词 纳米压印 模版制作 防粘连处理
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电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片 被引量:6
13
作者 王德强 曹磊峰 +1 位作者 常青 叶甜春 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1147-1150,共4页
在硅为衬底材料的自支撑氮化硅薄膜上,采用阴阳图形互换转移技术,先使用电子束直写方法制作成功了最外环为150nm的阳图形微波带片,然后用同步辐射X射线光刻技术复制成功了最外环为150nm的阴图形微波带片,得到可以应用于ICF诊断技术中的... 在硅为衬底材料的自支撑氮化硅薄膜上,采用阴阳图形互换转移技术,先使用电子束直写方法制作成功了最外环为150nm的阳图形微波带片,然后用同步辐射X射线光刻技术复制成功了最外环为150nm的阴图形微波带片,得到可以应用于ICF诊断技术中的微波带片. 展开更多
关键词 电子束 X射线光刻 微波带片 菲涅耳波带片
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微纳加工技术在微纳电子器件领域的应用 被引量:5
14
作者 刘明 陈宝钦 +6 位作者 常青 王丛舜 龙世兵 徐秋霞 李志钢 易里成荣 涂德钰 《物理》 CAS 北大核心 2006年第1期47-50,共4页
微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,光学光刻技术依然是目前的主流微纳加工技术,同时有多种替代技术如电子束直写、极紫外光刻和投影电子束技术,文章介绍了自上而下的微纳加工技术的进展及其在微纳器件研制的重... 微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,光学光刻技术依然是目前的主流微纳加工技术,同时有多种替代技术如电子束直写、极紫外光刻和投影电子束技术,文章介绍了自上而下的微纳加工技术的进展及其在微纳器件研制的重要作用. 展开更多
关键词 纳米加工 纳米器件 微纳加工技术 光学光刻技术
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Problems on fabrication of computer-generated holograms for testing aspheric surfaces 被引量:8
15
作者 马骏 高志山 +9 位作者 朱日宏 何勇 陈磊 李建欣 潘裕斌 W.H.Wong 黄立辉 常青 朱效立 马杰 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第1期70-73,共4页
Interferometric optical testing using computer-generated hologram (CGH) can give highly accurate measurement of aspheric surfaces has been proved. After the system is designed, a phase function is obtained according... Interferometric optical testing using computer-generated hologram (CGH) can give highly accurate measurement of aspheric surfaces has been proved. After the system is designed, a phase function is obtained according to the CGH's surface plane. For the requirement of accuracy, an optimization algorithm that transfers the phase function into a certain mask pattern file is presented in this letter, based on the relationship between the pattern error of CGH and the output wavefront accuracy. Then the writing machine is able to fabricate such a mask with this kind of file. With that mask, an improved procedure on fabrication of phase type CGH is also presented. Interferometrie test results of an aspherie surface show that the whole test system obtains the demanded accuracy. 展开更多
关键词 Computer generated holography Electron holography HOLOGRAMS INTERFEROMETRY Masks Optical testing Probability density function
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微聚焦菲涅尔波带板聚焦特性研究 被引量:6
16
作者 董建军 曹磊峰 +2 位作者 陈铭 常青 杜华冰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期3044-3047,共4页
通过激光轰击Ti平面靶,用微聚焦菲涅尔波带板做成像器,测到了在放大倍数为6.6倍时X射线焦斑图像.利用Fresnel-Kirchhoff衍射积分公式数值模拟了微聚焦菲涅尔波带板的点扩展函数,模拟结果表明该微聚焦菲涅尔波带板在两倍焦距处强聚焦.改... 通过激光轰击Ti平面靶,用微聚焦菲涅尔波带板做成像器,测到了在放大倍数为6.6倍时X射线焦斑图像.利用Fresnel-Kirchhoff衍射积分公式数值模拟了微聚焦菲涅尔波带板的点扩展函数,模拟结果表明该微聚焦菲涅尔波带板在两倍焦距处强聚焦.改变物距和像距但保持透镜的物像距公式,也可得到类似的结果.模拟和实验表明微聚焦波带板可以应用于X射线点对点成像,实现激光等离子体X射线高空间分辨成像. 展开更多
关键词 菲涅尔波带板 Fresnel-Kirchhoff衍射 数值模拟 点扩展函数
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人类成纤维细胞作为人胚胎干细胞饲养层细胞的初步研究 被引量:4
17
作者 常青 林戈 卢光琇 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第24期1880-1882,T002,共4页
为了避免将来应用时,人类胚胎干细胞接触到小鼠细胞和小鼠可能存在的病原体,利用人类自身的成纤维细胞作为体外培养人胚胎干细胞的饲养层一直是其将来应用中需要解决的问题.用流产胎儿和成体包皮细胞分离的成纤维细胞作为饲养层,成功地... 为了避免将来应用时,人类胚胎干细胞接触到小鼠细胞和小鼠可能存在的病原体,利用人类自身的成纤维细胞作为体外培养人胚胎干细胞的饲养层一直是其将来应用中需要解决的问题.用流产胎儿和成体包皮细胞分离的成纤维细胞作为饲养层,成功地将人类胚胎干细胞传代.传代过程中的人Es细胞在人类的成纤维细胞层上保持不分化的特征. 展开更多
关键词 人类成纤维细胞 人类胚胎干细胞 饲养层 层黏连蛋白 整合素 细胞培养
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辨析“受众本位”意识 被引量:3
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作者 常青 《新闻爱好者》 北大核心 2003年第8期14-15,共2页
关键词 新闻报道 新闻传播活动 新闻从业者 受众本位意识 社会责任 职业道德
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用于极紫外光刻非球面光学元件检测的复合三相位计算全息元件
19
作者 张海涛 常青 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期119-125,共7页
提出一种同时出射3个波前的复合三相位计算全息图(CGH),并将其应用于波前误差校正。通过6次组合测量标定出CGH基底制造误差和图形位置误差,并在检测结果中予以消除。所测试的极紫外光刻(EUVL)非球面光学元件峰谷(PV)值和均方根(RMS)误... 提出一种同时出射3个波前的复合三相位计算全息图(CGH),并将其应用于波前误差校正。通过6次组合测量标定出CGH基底制造误差和图形位置误差,并在检测结果中予以消除。所测试的极紫外光刻(EUVL)非球面光学元件峰谷(PV)值和均方根(RMS)误差分别为31.6 nm和4.88 nm。此外,对同一非球面光学元件进行基于折射零位补偿的检测实验,其PV值和RMS误差分别为38.6 nm和5.14 nm。所提出的复合三相位CGH具有实现亚纳米量级的EUVL非球面光学元件面形检测潜力。 展开更多
关键词 测量 非球面 复合相位 计算全息图 组合测量
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衍射光学元件成套制造技术研究进展 被引量:4
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作者 常青 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第15期1815-1827,共13页
从图形数据处理、先进光刻、图形转移和大面积高可靠集成4方面开展衍射光学元件关键制造技术研究。在兼容标准CMOS工艺的基础上,提出了高精度、多功能(高保真、高深宽比、高面形、多元化衬基等)、大面积衍射光学元件成套制造技术。研发... 从图形数据处理、先进光刻、图形转移和大面积高可靠集成4方面开展衍射光学元件关键制造技术研究。在兼容标准CMOS工艺的基础上,提出了高精度、多功能(高保真、高深宽比、高面形、多元化衬基等)、大面积衍射光学元件成套制造技术。研发了精度优于2 nm的复杂图形光刻数据处理体系,提出了混合光刻方法,建立了加法(剥离、电镀)和减法(干法刻蚀、金属辅助化学刻蚀)两种类型、四种图形转移基础方法。实现了从微米尺度到亚10 nm尺度的图形生成,高宽比达12∶1的25 nmAu结构和深宽比达500∶1的30 nmAl_(2)O_(3)纳米管图形转移。在熔石英、多层膜、SiC自支撑薄膜、高面形硅片等衬基上大面积集成制造了多种衍射光学元件,最大面积为142 mm×142 mm,最大自支撑口径达70 mm,最高面形精度PV值达0.03λ,覆盖了可见光到硬X射线波段衍射光学元件的制造需求,能够应用于先进光刻机、同步辐射、激光聚变及X射线天文学中。 展开更多
关键词 衍射光学元件 先进光刻 标准CMOS工艺 GDSII数据处理 图形转移
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