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LTCC精密丝网印刷机概述 被引量:1
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作者 张建亮 赵立华 +1 位作者 王洪宇 《电子工业专用设备》 2009年第8期32-36,共5页
介绍了低温共烧陶瓷(LTCC)技术,并针对其核心设备—LTCC精密丝网印刷机的机械结构和采用的关键技术作了简明扼要的阐述。
关键词 低温共烧陶瓷 丝网印刷 生瓷片 线性电机
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非接触间隙检测
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作者 贾亚飞 张云鹏 《电子工业专用设备》 2014年第11期33-35,共3页
基于光的分振幅干涉原理,用激光做光源,自行设计了用于接触或接近式曝光工艺中掩模板与基片间的间隙均匀性检测装置,通过实际运用,达到理想效果。
关键词 非接触 光的干涉 间隙检测
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用于晶圆刷洗的同心卡接机构设计
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作者 陶利权 熊朋 +2 位作者 李嘉浪 费玖海 《电子工业专用设备》 2017年第1期53-55,共3页
在CMP后清洗工艺过程中,往往需要对机刷进行快速更换。针对以上需求,设计了一种用于晶圆刷洗的同心卡接机构,很好地解决了机刷更换过程同心度存在偏差及更换不便的问题,改善了晶圆表面清洗的效果。
关键词 CMP后清洗 晶圆刷洗 同心卡接机构
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非平面直写式光刻电控系统的研究
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作者 张云鹏 谢秀镯 +1 位作者 宋波 《电子工业专用设备》 2015年第3期46-51,共6页
阐述一种非平面直写式光刻的电控系统、工作原理及组成,通过高效的控制方法,提高控制精度,实现工艺要求。
关键词 非平面直写式光刻 振镜扫描 PID算法 伺服系统
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微小孔近场衍射光强的空间分布及仿真
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作者 贾亚飞 《电子工业专用设备》 2012年第12期21-25,共5页
阐述了微小孔近场衍射的基本理论。重点对单色光垂直入射时圆孔衍射场的光强空间分布进行了计算机数值模拟。通过对不同半径圆孔的衍射场光强进行仿真,分析得到了衍射场光强的空间分布特性。对接近式曝光技术参数的设定具有理论指导意义。
关键词 接近式曝光 微小孔 近场衍射
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ZEMAX软件在曝光光源设计中的应用
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作者 《电子工业专用设备》 2012年第8期40-43,共4页
以光学设计软件ZEMAX为依托,结合曝光光源设计思路,并以实例展示设计方法和描述它的实用性,利用ZEMAX计算机辅助设计分析了曝光光源的鬼点。
关键词 曝光光源 ZEMAX软件 计算机辅助设计 鬼点
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