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一种新型SGOI SiGe异质结双极型晶体管
被引量:
1
1
作者
于明道
王冠宇
+3 位作者
苗
乃丹
文剑豪
周春宇
王巍
《微电子学》
CAS
北大核心
2019年第5期735-740,共6页
为了改善SiGe异质结双极型晶体管(HBT)的电学特性和频率特性,设计了一种新型的SGOI SiGe HBT。在发射区引入了双轴张应变Si层。多晶Si与应变Si双层组合的发射区有利于提高器件的注入效率。利用Silvaco TCAD软件建立了二维器件结构模型,...
为了改善SiGe异质结双极型晶体管(HBT)的电学特性和频率特性,设计了一种新型的SGOI SiGe HBT。在发射区引入了双轴张应变Si层。多晶Si与应变Si双层组合的发射区有利于提高器件的注入效率。利用Silvaco TCAD软件建立了二维器件结构模型,模拟了器件的工艺流程,并对器件的电学特性和频率特性进行了仿真分析。结果表明,与传统的SiGe HBT相比,新型SGOI SiGe HBT的电流增益β、特征频率fT等参数得到明显改善,在基区Ge组分均匀分布的情况下,β提高了29倍,fT提高了39.9%。
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关键词
绝缘衬底上硅锗
硅锗异质结双极晶体管
电流增益
特征频率
下载PDF
职称材料
小尺寸应变SOI SiGe异质结双极晶体管
2
作者
苗
乃丹
王冠宇
+3 位作者
文剑豪
于明道
周春宇
王巍
《重庆邮电大学学报(自然科学版)》
CSCD
北大核心
2021年第6期955-961,共7页
为了满足通信系统中对核心器件工作频率更高的要求,设计了一种新型的器件结构,有效提高了SiGe异质结双极型晶体管(hetero-junction bipolar transistor,HBT)的频率特性。基于传统的SOI SiGe HBT器件结构,通过减小发射区和集电区的窗口尺...
为了满足通信系统中对核心器件工作频率更高的要求,设计了一种新型的器件结构,有效提高了SiGe异质结双极型晶体管(hetero-junction bipolar transistor,HBT)的频率特性。基于传统的SOI SiGe HBT器件结构,通过减小发射区和集电区的窗口尺寸,并在集电区引入单轴应力,集电区、基区、发射区均实现应变,提高了纵向载流子的迁移率,从而提高器件的电学特性和频率特性,并利用SILVACO TCAD软件对其电学参数和频率参数进行仿真分析。结果表明,当基区Ge组分为梯形分布时,电流增益最大值β_(max)为1062,厄尔利电压V_(A)为186 V,厄尔利电压与电流增益的优值为1.975×10^(5)V,截止频率f_(T)最大值为419 GHz。集电区引入Si_(1-y)Ge_(y)应力源的新型SOI SiGe HBT器件相比于集电区未引入应力源的器件结构,其截止频率f_(T)提高了1.1倍,所设计的新型小尺寸器件具有更优良的频率特性。
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关键词
单轴应变
SOI
SiGe
HBT
小尺寸
电学特性
频率特性
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职称材料
题名
一种新型SGOI SiGe异质结双极型晶体管
被引量:
1
1
作者
于明道
王冠宇
苗
乃丹
文剑豪
周春宇
王巍
机构
重庆邮电大学光电工程学院
燕山大学理学院河北省微结构材料物理重点实验室
出处
《微电子学》
CAS
北大核心
2019年第5期735-740,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(61404019,61704147)
文摘
为了改善SiGe异质结双极型晶体管(HBT)的电学特性和频率特性,设计了一种新型的SGOI SiGe HBT。在发射区引入了双轴张应变Si层。多晶Si与应变Si双层组合的发射区有利于提高器件的注入效率。利用Silvaco TCAD软件建立了二维器件结构模型,模拟了器件的工艺流程,并对器件的电学特性和频率特性进行了仿真分析。结果表明,与传统的SiGe HBT相比,新型SGOI SiGe HBT的电流增益β、特征频率fT等参数得到明显改善,在基区Ge组分均匀分布的情况下,β提高了29倍,fT提高了39.9%。
关键词
绝缘衬底上硅锗
硅锗异质结双极晶体管
电流增益
特征频率
Keywords
SGOI
SiGe HBT
current gain
cut-off frequency
分类号
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
小尺寸应变SOI SiGe异质结双极晶体管
2
作者
苗
乃丹
王冠宇
文剑豪
于明道
周春宇
王巍
机构
重庆邮电大学光电工程学院
燕山大学理学院
出处
《重庆邮电大学学报(自然科学版)》
CSCD
北大核心
2021年第6期955-961,共7页
基金
国家自然科学基金(61704147)。
文摘
为了满足通信系统中对核心器件工作频率更高的要求,设计了一种新型的器件结构,有效提高了SiGe异质结双极型晶体管(hetero-junction bipolar transistor,HBT)的频率特性。基于传统的SOI SiGe HBT器件结构,通过减小发射区和集电区的窗口尺寸,并在集电区引入单轴应力,集电区、基区、发射区均实现应变,提高了纵向载流子的迁移率,从而提高器件的电学特性和频率特性,并利用SILVACO TCAD软件对其电学参数和频率参数进行仿真分析。结果表明,当基区Ge组分为梯形分布时,电流增益最大值β_(max)为1062,厄尔利电压V_(A)为186 V,厄尔利电压与电流增益的优值为1.975×10^(5)V,截止频率f_(T)最大值为419 GHz。集电区引入Si_(1-y)Ge_(y)应力源的新型SOI SiGe HBT器件相比于集电区未引入应力源的器件结构,其截止频率f_(T)提高了1.1倍,所设计的新型小尺寸器件具有更优良的频率特性。
关键词
单轴应变
SOI
SiGe
HBT
小尺寸
电学特性
频率特性
Keywords
uniaxial strain
SOI SiGe HBT
small-sized
electrical characteristics
frequency characteristics
分类号
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种新型SGOI SiGe异质结双极型晶体管
于明道
王冠宇
苗
乃丹
文剑豪
周春宇
王巍
《微电子学》
CAS
北大核心
2019
1
下载PDF
职称材料
2
小尺寸应变SOI SiGe异质结双极晶体管
苗
乃丹
王冠宇
文剑豪
于明道
周春宇
王巍
《重庆邮电大学学报(自然科学版)》
CSCD
北大核心
2021
0
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职称材料
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