-
题名应用于导电墨水的纳米铜胶体的研制
- 1
-
-
作者
聂昆深
黄钧声
-
机构
广东工业大学材料与能源学院
-
出处
《材料研究与应用》
CAS
2013年第1期37-41,共5页
-
文摘
以硼氢化钾(KBH4)为还原剂、硫酸铜(CuSO4.5H2O)为前驱体,乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)为络合剂,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为反应场表面活性剂,KOH为pH值调节剂,制备纳米铜胶体.对影响纳米铜胶体粒径以及分散稳定性的因素进行了研究,结果表明:当CTAB,KOH,EDTA-2Na的用量分别为0.22,1.5,0.3～0.4mol/L时,纳米铜胶体的粒子粒径为30nm左右,胶体的分散稳定性较好;用该化学还原法可制备出最小粒径为1.09nm的纯净纳米铜.在聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的保护下,可有效防止纳米铜粉末氧化.
-
关键词
导电墨水
纳米铜
化学还原法
表面活性剂
CTAB
PVP
-
Keywords
conductive ink
nanocopper
chemical reduction
surfactant
CTAB
PVP
-
分类号
O648.16
[理学—物理化学]
-
