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四位GaAs超高速D/A转换电路的研究 被引量:1
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作者 范录宏 王长河 素琴 《半导体情报》 1992年第3期35-43,52,共10页
本文简要介绍了目前国际上GaAs超高速D/A转换器的研制情况。在详细分析了几种常用类型D/A转换电路工作原理的基础上,结合现有GaAs VHSIC的制作工艺条件,设计并制作了一种4位单片集成GaAs MESFET D/A转换电路。测试结果表明,该电路分辨率... 本文简要介绍了目前国际上GaAs超高速D/A转换器的研制情况。在详细分析了几种常用类型D/A转换电路工作原理的基础上,结合现有GaAs VHSIC的制作工艺条件,设计并制作了一种4位单片集成GaAs MESFET D/A转换电路。测试结果表明,该电路分辨率为4位,转换速率办1Gs/s,建立时间小于1.0ns,微分线性误差小于±1/2LSB,功耗约为20mW。 展开更多
关键词 D/A转换电路 数字集成电路 砷化镓
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PECVD Si_xO_yN_z膜及其在GaAs VHSIC中的应用
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作者 杨克武 刘福顺 +1 位作者 素琴 廉亚光 《半导体情报》 1991年第3期48-52,共5页
采用SiH_4,N_2O和NH_3反应气体生长了Si_xO_yN_z膜,其特性取决于反应气体流量、射频功率、反应室压力和衬底温度。用折射率为1.71的Si_xO_yN_z做GaAs注Si^+包封退火膜,它比SiO_2或Si_3N_4有更高的电激活。该膜作为互连隔离介质已用于GaA... 采用SiH_4,N_2O和NH_3反应气体生长了Si_xO_yN_z膜,其特性取决于反应气体流量、射频功率、反应室压力和衬底温度。用折射率为1.71的Si_xO_yN_z做GaAs注Si^+包封退火膜,它比SiO_2或Si_3N_4有更高的电激活。该膜作为互连隔离介质已用于GaAs高速电压比较器。实验结果表明:Si_xO_yN_z是一种有希望的介质膜。 展开更多
关键词 应用 PECVD 介质薄膜 GAAS VHSIC
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2位GaAs超高速模-数转换电路的设计与制作
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作者 郑晓光 王长河 素琴 《半导体情报》 1991年第4期7-16,共10页
模数(A-D)转换电路是信号处理系统中的一种关键性元件。本文结合现有GaAs起高速集成电路工艺,提出了一种2位GaAs A-D转换电路的设计方法,并制作出了单片形式的2位GaAs A/D转换电路。实验结果表明,该电路能正常工作在1Gs/s的转换速率下... 模数(A-D)转换电路是信号处理系统中的一种关键性元件。本文结合现有GaAs起高速集成电路工艺,提出了一种2位GaAs A-D转换电路的设计方法,并制作出了单片形式的2位GaAs A/D转换电路。实验结果表明,该电路能正常工作在1Gs/s的转换速率下。它的转换时间小于1.0ns,电路功耗不高于340mW。这说明它在速度和功耗方面已展现出比Si双极电路更为广阔的发展前景。 展开更多
关键词 砷化镓 模/数转换器 集成电路
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GaAs超高速电压比较器及利用低温MBE GaAs缓冲层的改进设计
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作者 李瑞钢 素琴 王占国 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 1994年第1期28-31,共4页
简要介绍了GaAs超高速电压比较器的国内外发展水平。设计并研制了具有1.0GHz时钟频率的高性能电压比较器。该器件采用亚微米GaAsMESFET工艺技术,其电压分辨率高达11.3mV,功耗仅为274mw。最后给出了利... 简要介绍了GaAs超高速电压比较器的国内外发展水平。设计并研制了具有1.0GHz时钟频率的高性能电压比较器。该器件采用亚微米GaAsMESFET工艺技术,其电压分辨率高达11.3mV,功耗仅为274mw。最后给出了利用低温分子束外延生长GaAs作缓冲层的进一步改进设计。 展开更多
关键词 比较器 分子束外延 砷化镓
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GaAs超高速电压比较器
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作者 素琴 李瑞钢 《半导体情报》 1990年第4期46-51,共6页
本文简要介绍了GaAs超高速电压比较器的国际发展水平,GaAsBFL电压比较器的工作原理,CAD及工艺制造;并给出了研制的BFL比较器的测试结果。其电压分辨率可达30mV,上升与下降时间小于600ps,过驱动延迟小于300ps,为我国目前速率最高的电压... 本文简要介绍了GaAs超高速电压比较器的国际发展水平,GaAsBFL电压比较器的工作原理,CAD及工艺制造;并给出了研制的BFL比较器的测试结果。其电压分辨率可达30mV,上升与下降时间小于600ps,过驱动延迟小于300ps,为我国目前速率最高的电压比较器。 展开更多
关键词 GAAS 电压比较器 A/D转换电路
全文增补中
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