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直流磁控溅射法制备GZO薄膜及其结构和光电性能的研究 被引量:3
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作者 张健 齐振华 +2 位作者 李建浩 唐智聪 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第4期311-316,共6页
为了提高GZO薄膜性能的稳定性,在溅射温度为室温、气压为0.2 Pa、靶基距为100 mm等工艺条件下,利用直流磁控溅射法在氧化铝基底上沉积超厚型的镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,并探究不同溅射功率对GZO薄膜的表面生长方式、内部晶体取向和光电性... 为了提高GZO薄膜性能的稳定性,在溅射温度为室温、气压为0.2 Pa、靶基距为100 mm等工艺条件下,利用直流磁控溅射法在氧化铝基底上沉积超厚型的镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,并探究不同溅射功率对GZO薄膜的表面生长方式、内部晶体取向和光电性能的影响。利用X射线衍射仪、四探针、原子力显微镜等仪器对制备的薄膜进行表征,结果发现随着溅射功率的增大,GZO薄膜晶胞的生长方向由径向生长变为横向生长;薄膜内的晶体结构的衍射峰先增强后降低;薄膜在可见光范围内的平均透光率出现先增大后减小,最后再次增加的趋势。GZO薄膜样品的方块电阻随功率的增加逐渐呈现出下降的趋势,当溅射功率为250 W时,薄膜的方块电阻最低,最低值为18Ω/□。当溅射功率为180 W时,薄膜的择优取向衍射峰峰值达到最大,薄膜的晶胞生长饱满并且结晶性能良好,薄膜表面致密性平整;GZO薄膜的平均透光率在可见光波段范围内达到最高并且接近95%,薄膜的方块电阻为34Ω/□。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 透明导电薄膜 GZO薄膜 晶体结构 光电性能
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磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究 被引量:3
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作者 张健 齐振华 +3 位作者 李建浩 徐全国 宗世强 《真空》 CAS 2022年第6期45-50,共6页
利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,在室温条件下,研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量比等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明,ITO薄膜的透光率随溅射功率和靶基距的增大而减小,... 利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,在室温条件下,研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量比等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明,ITO薄膜的透光率随溅射功率和靶基距的增大而减小,当溅射功率为110W、靶基距为70mm时,ITO薄膜的透光性和导电性较为优良。在近紫外光波段和近红外光波段,ITO薄膜的透光率随溅射气压的增大而减小。当氧氩流量比为4:30时,ITO薄膜在500nm到600nm可见光范围内的透光性和综合性能最好。 展开更多
关键词 ITO薄膜 直流磁控溅射法 溅射功率 溅射气压 光电性能
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射频磁控溅射对PET基材制备铝薄膜的性能影响 被引量:1
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作者 张健 +1 位作者 李建浩 齐振华 《真空》 CAS 2021年第4期21-24,共4页
针对传统制铝技术,为提高膜层结合力、阻隔性,采用射频磁控溅射镀铝工艺,制备纯铝高阻隔性膜层,在PET塑料薄膜表面沉积纯铝的实验。通过对射频电源功率和溅射气压等参数的改变,探究射频功率、溅射气压对薄膜结合力、阻隔性的影响。结果... 针对传统制铝技术,为提高膜层结合力、阻隔性,采用射频磁控溅射镀铝工艺,制备纯铝高阻隔性膜层,在PET塑料薄膜表面沉积纯铝的实验。通过对射频电源功率和溅射气压等参数的改变,探究射频功率、溅射气压对薄膜结合力、阻隔性的影响。结果表明:薄膜沉积过程中的射频功率和溅射气压对磁控镀铝薄膜性能影响较大,在一定的溅射压力下,膜层的结合力随射频功率的增大而逐渐增大,膜层的阻隔性随射频功率的增大,先提高后降低,射频功率为85W时,氧气透过率最小为1.11cm^(3)/(m^(2)·day·atm);在射频功率相同的情况下,结合力随着溅射气压的增大,先增大后降低,膜层的阻隔性随着溅射气压的增大而逐渐降低,溅射气压为0.5Pa时,结合力最高为1.68N/mm。较传统铝膜结合力提高2倍,阻隔性提高5倍。 展开更多
关键词 高阻隔薄膜 射频磁控溅射 射频功率 溅射气压
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探究氧气流量对新型高阻隔薄膜材料的制备及性能的影响 被引量:1
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作者 张健 +2 位作者 孟辉波 齐振华 李建浩 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第7期694-698,共5页
利用真空反应蒸发镀膜技术在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)表面沉积AlO_(x)+Al+AlO_(x)三层镀层,通过改进传统蒸发镀膜设备,增添匀气管,控制氧气通入位置及流量,研究了氧气流量对膜层形貌、膜层结合力和阻隔性的影响。采用扫描电子显微镜... 利用真空反应蒸发镀膜技术在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)表面沉积AlO_(x)+Al+AlO_(x)三层镀层,通过改进传统蒸发镀膜设备,增添匀气管,控制氧气通入位置及流量,研究了氧气流量对膜层形貌、膜层结合力和阻隔性的影响。采用扫描电子显微镜、能谱仪、3M标准胶带、透氧仪等测试仪器对膜层形貌和表层元素进行了表征和分析,并得到最佳工艺条件。结果表明:改进设备后沉积的AlO_(x)+Al+AlO_(x)/PET复合膜,可以有效的提高薄膜的阻隔性、致密性以及镀层与薄膜间的结合力。在本底真空8×10^(-4)Pa、反应气压1×10^(-2)Pa、电流80 A、过渡层氧气流量50 m L/min、盖层充气流量100 m L/min等工艺下蒸镀的AlO_(x)+Al+AlO_(x)/PET复合膜,膜层薄膜的结合力为1.52 N/mm,氧气透过率为1.1 cm^(3)/(m^(2)·day·atm),与传统铝膜相比,结合力提高2倍,阻隔性提高4.5倍。 展开更多
关键词 真空反应蒸发镀膜技术 AlOx+Al+AlOx/PET复合膜 氧气流量 阻隔性 结合力
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