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RF-PECVD法制备大面积类金刚石薄膜性能的研究 被引量:11
1
作者 李钱陶 《光学与光电技术》 2006年第4期19-21,39,共4页
采用RF-PECVD法在锗、硅红外光学窗口上制备了大面积(基底直径φ=150~250 mm)类金刚石薄膜。采用拉曼光谱分析了大面积DLC膜的结构组成,对RF-PECVD法制备的大面积DLC膜的均匀性、红外光学性能、机械力学性能以及其抗恶劣环境的能力进... 采用RF-PECVD法在锗、硅红外光学窗口上制备了大面积(基底直径φ=150~250 mm)类金刚石薄膜。采用拉曼光谱分析了大面积DLC膜的结构组成,对RF-PECVD法制备的大面积DLC膜的均匀性、红外光学性能、机械力学性能以及其抗恶劣环境的能力进行了检测和分析。膜层厚度均匀性在3%以内。锗、硅红外窗口双面镀制DLC膜后,极值透过率分别达92%和96%以上,可显著提高红外光学窗口的显微硬度。膜层具有极强的抗盐雾、耐海水腐蚀和抗摩擦的能力。 展开更多
关键词 类金刚石膜 均匀性 红外 射频等离子体增强化学相沉积法
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红外线聚光非球面透镜的单点金刚石镜面切削方法 被引量:10
2
作者 谢晋 耿安兵 +1 位作者 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2004年第6期566-569,共4页
根据硬脆性材料的延性域加工机理和面形误差补偿加工方法,研究了圆弧形和平头形刀具的单点金刚石延性域切削方法,在加工中直接获得了镜面切除面;并利用数控技术进行误差补偿,克服了因加工试验、刀具磨损、机械振动、热变形等造成的加工... 根据硬脆性材料的延性域加工机理和面形误差补偿加工方法,研究了圆弧形和平头形刀具的单点金刚石延性域切削方法,在加工中直接获得了镜面切除面;并利用数控技术进行误差补偿,克服了因加工试验、刀具磨损、机械振动、热变形等造成的加工误差导致的非球面的面形精度降低和表面粗糙度恶化。并将该方法用于采用圆弧形刀具对红外线聚光的φ70mm非球面锗透镜进行单点金刚石切削实验中。试验结果表明面形误差补偿加工方法可以进一步消除加工误差,将非球面的面形精度PV值从微米级(1.23μm)提高到亚微米级(0.36μm)的程度,表面粗糙度Ra从亚微米级(0.27μm)改善到超亚微米级(0.04μm)的范围。 展开更多
关键词 非球面 硬脆性材料 面形精度 误差补偿
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光学玻璃的强度设计方法研究 被引量:9
3
作者 李钱陶 《光学与光电技术》 2006年第5期115-118,共4页
玻璃没有固定的特征强度值,其强度主要由其表面裂纹的分布所决定,玻璃的强度设计需采取保守设计思想。以玻璃强度基本理论为基础,给出并分析了断裂几率预测法、最小寿命预测法和寿命-断裂几率综合预测法三种玻璃强度设计方法。这些方法... 玻璃没有固定的特征强度值,其强度主要由其表面裂纹的分布所决定,玻璃的强度设计需采取保守设计思想。以玻璃强度基本理论为基础,给出并分析了断裂几率预测法、最小寿命预测法和寿命-断裂几率综合预测法三种玻璃强度设计方法。这些方法可为设计者提供给定玻璃的使用强度、断裂几率及预期寿命,还可为光学元件及其装配结构设计提供指导。 展开更多
关键词 强度设计 裂纹扩展 断裂几率 寿命 光学玻璃
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脉冲放电驱动磨料流辅助磨削单晶碳化硅研究
4
作者 陈钊杰 谢晋 +2 位作者 刘军汉 李迪帆 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期383-392,共10页
单晶碳化硅作为半导体材料,其被加工表面及亚表面质量直接影响到电、磁、光等工作性能,但在高精度的机械加工中,纳米切深的不可控和高速主轴转动的刀具端跳会产生不稳定的切削力,导致表面微毛刺和改性层以及亚表面残余应力和损伤。因此... 单晶碳化硅作为半导体材料,其被加工表面及亚表面质量直接影响到电、磁、光等工作性能,但在高精度的机械加工中,纳米切深的不可控和高速主轴转动的刀具端跳会产生不稳定的切削力,导致表面微毛刺和改性层以及亚表面残余应力和损伤。因此,在单晶碳化硅的金刚石磨削中,利用砂轮与工件间的脉冲放电驱动游离磨料流动,抵消机械作用对其表面及亚表面的影响,探究机械加工、磨料流抛光和热化学去除的复合加工对表面完整性的作用机制。首先建立复合加工表面成型与脉冲放电和流体动压的关系模型,然后分析脉冲放电对材料去除率以及磨粒损耗率的影响,最后讨论去毛刺效果、表面残余应力及亚表面损伤等。结果表明:在固结磨粒切削与轮廓复制过程中工件与磨粒界面形成了复合加工链,脉冲放电可驱动游离磨粒并对表面进行热化学改性,游离磨粒获得去除力去消除表面二氧化硅并重新暴露出Si-C键。降低脉冲放电能量和流体动压会促进脆性破坏转变为高表面质量的塑性去除。即使较大切深和较大主轴端跳产生的机械振动,脉冲放电驱动的热化学改性及游离磨粒抛光与金刚石磨削复合可以将残余压应力、表面微毛刺和亚表面损伤层厚度分别减少93%、73%和50%。 展开更多
关键词 亚表面损伤 残余应力 单晶碳化硅 脉冲放电 磨料流加工
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组合结构的中波红外带通滤光片研制 被引量:5
5
作者 王航 何光宗 《光学与光电技术》 2015年第4期83-86,共4页
采用长短波通膜系组合结构,对膜系光学性能进行了优化设计以及仿真分析。采用电子束蒸发,离子束辅助沉积工艺在Si基底两面分别沉积长短通膜。样品的透过率采用红外光谱仪测试,在3.7~4.2μm波段范围内平均透过率在80%以上,在3~3... 采用长短波通膜系组合结构,对膜系光学性能进行了优化设计以及仿真分析。采用电子束蒸发,离子束辅助沉积工艺在Si基底两面分别沉积长短通膜。样品的透过率采用红外光谱仪测试,在3.7~4.2μm波段范围内平均透过率在80%以上,在3~3.6μm和4.3~5μm波段范围内截止,并将理论设计与实验结果进行了对比分析。样品通过了GJB2485—95规定的环境适应性测试。产品满足设计要求,具有工程化应用价值。 展开更多
关键词 中波红外 截止带 长波通 短波通 电子束蒸发
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低损耗1080 nm高功率激光高反膜元件的研制 被引量:4
6
作者 李钱陶 李定 《光学与光电技术》 2019年第4期97-102,共6页
针对1 080 nm连续激光光学系统中反射镜的需求,设计了低损耗高反膜膜系,优化了膜系中的电场分布,对高反膜元件工艺体系进行了控制。采用离子束溅射工艺,成功地在超光滑石英玻璃基底上研制出了Ta2O5/SiO2体系高反膜,对所获得的高反膜元... 针对1 080 nm连续激光光学系统中反射镜的需求,设计了低损耗高反膜膜系,优化了膜系中的电场分布,对高反膜元件工艺体系进行了控制。采用离子束溅射工艺,成功地在超光滑石英玻璃基底上研制出了Ta2O5/SiO2体系高反膜,对所获得的高反膜元件表面粗糙度、光学性能及抗激光损伤能力进行了讨论与分析。结果表明:研制的低损耗1 080 nm高功率激光高反膜元件表面粗糙度达到0.115 nm,在1 064 nm处吸收和散射损耗之和约17ppm,可承受500 kW/cm2的激光辐照而不损伤,工艺技术应用前景良好。 展开更多
关键词 高功率激光 低损耗 反射膜 离子束溅射 五氧化二钽 二氧化硅
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高Q值半球谐振子精密加工技术研究
7
作者 刘军汉 +3 位作者 曲天良 张熙 王潺 赵明强 《光学与光电技术》 2023年第4期117-123,共7页
半球谐振子的机械能量损耗包括材料本征损耗、空气阻尼损耗、支撑损耗、热弹性损耗和表面损耗等,直接影响了半球谐振子Q值。通过分析这些能量损耗的数学模型,总结出半球谐振子的关键技术指标是材料性能、形位精度和表面粗糙度。综合考... 半球谐振子的机械能量损耗包括材料本征损耗、空气阻尼损耗、支撑损耗、热弹性损耗和表面损耗等,直接影响了半球谐振子Q值。通过分析这些能量损耗的数学模型,总结出半球谐振子的关键技术指标是材料性能、形位精度和表面粗糙度。综合考虑半球谐振子的精度和工程化应用,提出了一套高精度半球谐振子加工工艺,经过精密磨削、精密抛光和化学抛光后,加工得到的谐振子球面圆度小于0.25μm,表面粗糙度小于15 nm,品质因数大于5.2×107。对高精度半球谐振子加工和半球谐振陀螺制造工程化具有重要的指导意义。 展开更多
关键词 半球谐振子 能量损耗 圆度 表面粗糙度 品质因数
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氧离子辅助反应蒸发法制备ITO薄膜的研究 被引量:2
8
作者 何光宗 姚细林 《光学与光电技术》 2007年第1期71-74,共4页
采用氧离子辅助电子束反应蒸发工艺在K9玻璃基底上制备了性能优异的ITO薄膜。通过对薄膜方块电阻和透过率的测量分析,研究了基底温度、离子束流、沉积速率等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。发现升高基底温度有利于减小薄膜的短波吸... 采用氧离子辅助电子束反应蒸发工艺在K9玻璃基底上制备了性能优异的ITO薄膜。通过对薄膜方块电阻和透过率的测量分析,研究了基底温度、离子束流、沉积速率等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。发现升高基底温度有利于减小薄膜的短波吸收,但过高的基底温度会增加薄膜的电阻率,合适的沉积速率可以同时改善薄膜的光学和电学性能。在比较理想的工艺参数下制备的ITO薄膜的电阻率约为5.4×10^-4Ω·cm,可见光(波长范围425-685nm)平均透过率达84.8%,其光电性能均达到实用化要求。 展开更多
关键词 ITO薄膜 氧离子辅助 反应蒸发
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超高Q值mm级晶体回音壁微腔加工
9
作者 刘军汉 曲天良 +2 位作者 张铉 刘彦清 《应用光学》 CAS 北大核心 2023年第4期742-747,共6页
回音壁微腔具有超高Q值和极小的模式体积,在微波光子系统、非线性光学和量子光学等领域中具有广阔的应用前景。通过分析mm级氟化镁(MgF_(2))晶体回音壁微腔的损耗因素,确认了影响回音壁微腔品质因数的主要指标为材料等级和表面粗糙度。... 回音壁微腔具有超高Q值和极小的模式体积,在微波光子系统、非线性光学和量子光学等领域中具有广阔的应用前景。通过分析mm级氟化镁(MgF_(2))晶体回音壁微腔的损耗因素,确认了影响回音壁微腔品质因数的主要指标为材料等级和表面粗糙度。设计了mm级MgF_(2)晶体回音壁微腔的结构形式,使用DUV级MgF_(2)晶体,如果回音壁微腔表面粗糙度小于0.7 nm,则MgF_(2)晶体回音壁微腔的极限损耗理论计算值为4.781×10^(-11),对应的极限Q值为2.09×10^(10)。通过对MgF_(2)晶体回音壁微腔进行粗成型、精密车削、精密抛光,实现了高品质因数的微腔制造。测试结果表明,回音壁微腔的表面粗糙度Ra值为0.669 nm、微观形貌PV值为6.767 nm、品质因数为2.054×10^(9)@1550 nm。 展开更多
关键词 晶体 回音壁微腔 表面粗糙度 品质因数 损耗
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K9光学玻璃化学钢化技术研究 被引量:3
10
作者 李钱陶 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第1期188-193,共6页
为提高K9光学玻璃在一些特殊应用领域(如高压、温度变化剧烈等)的力学性能,并保证其光学性能符合精密光学仪器要求,对K9光学玻璃进行了化学钢化技术研究。以脆性材料断裂过程微裂纹扩展理论为基础,导出化学钢化玻璃强度应力因子计算模型... 为提高K9光学玻璃在一些特殊应用领域(如高压、温度变化剧烈等)的力学性能,并保证其光学性能符合精密光学仪器要求,对K9光学玻璃进行了化学钢化技术研究。以脆性材料断裂过程微裂纹扩展理论为基础,导出化学钢化玻璃强度应力因子计算模型,分析化学钢化表面应力与表面微裂纹深度、韧性之间的关系,指出化学钢化工艺应注意的事项。通过实验研究,分析化学钢化温度和钢化时间对K9光学玻璃抗弯强度、表面应力及应力层厚度的影响,优化得出K9光学玻璃化学钢化温度为400℃、钢化时间为40 h。采用优化工艺,获得了表面应力为500 MPa、应力层厚度为50μm量级及规格为220 mm×110 mm×22 mm的化学钢化K9光学玻璃样件。钢化后,样件抗弯强度提高了3.5倍以上,且表面疵病、光学鉴别率、透过率等光学性能指标未见明显变化。 展开更多
关键词 光学玻璃 化学钢化 裂纹扩展 抗弯强度 表面应力 光学性能
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半球谐振子外球面加工原理误差分析及实验研究 被引量:2
11
作者 刘军汉 +1 位作者 曲天良 车驰骋 《光学技术》 CAS CSCD 北大核心 2022年第3期295-300,共6页
通过对“范成法”加工半球谐振子外球面的机理分析,推导出外球面曲率半径的计算公式,分析出影响谐振子外球面形状误差的主要因素为砂轮的形状误差、机床的轴系定位偏差和机床旋转轴的跳动。砂轮形状误差包括砂轮中径误差和砂轮刃口半径... 通过对“范成法”加工半球谐振子外球面的机理分析,推导出外球面曲率半径的计算公式,分析出影响谐振子外球面形状误差的主要因素为砂轮的形状误差、机床的轴系定位偏差和机床旋转轴的跳动。砂轮形状误差包括砂轮中径误差和砂轮刃口半径误差,机床轴系定位偏差包括X、Y和B轴定位偏差,机床旋转轴跳动包括径向跳动和轴向跳动。通过优化外球面加工工艺参数,加工得到的谐振子外球面圆度小于0.25μm,同心度小于0.4μm,表面粗糙度小于0.02μm,谐振子品质因数大于2.6×10^(7)。 展开更多
关键词 半球谐振子 范成法 球面 圆度 表面粗糙度 品质因数
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微晶玻璃试片的化学抛光研究 被引量:3
12
作者 汤英童 袁顺山 《光学与光电技术》 2014年第3期48-52,共5页
光学零件的凹槽、孔道等复杂结构无法进行机械抛光,只能采用化学抛光。分析了化学抛光的机理和微晶玻璃的组成,设计了化学抛光技术方案、工艺流程和操作方法。对微晶玻璃化学抛光前后的光学表面进行了测试、分析。结果表明:化学抛光... 光学零件的凹槽、孔道等复杂结构无法进行机械抛光,只能采用化学抛光。分析了化学抛光的机理和微晶玻璃的组成,设计了化学抛光技术方案、工艺流程和操作方法。对微晶玻璃化学抛光前后的光学表面进行了测试、分析。结果表明:化学抛光去除量主要由化学抛光液的温度和抛光时间控制。采用氟化氢铵、氢氟酸与添加剂组成的化学抛光液和合适的化学抛光工艺,可以能够得到光滑、透明的表面,表面粗糙度可降低到100nm;可见光透过率81%~83%。 展开更多
关键词 微晶玻璃 化学抛光 光学加工 控制
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硫化锌基底硬质红外保护薄膜技术研究 被引量:3
13
作者 张天行 李钱陶 +1 位作者 何光宗 《光学与光电技术》 2015年第3期50-53,共4页
硫化锌在3~5μm和7.7~9.3μm两个波段具有较高透过率,但其脆性大、耐摩擦性能较差,在其表面镀制类金刚石膜保护膜可显著提高其使用性能。直接在硫化锌基底沉积类金刚石膜难以实现,采用匹配层与过渡层的设计思想,制备出类金刚石膜与硫化... 硫化锌在3~5μm和7.7~9.3μm两个波段具有较高透过率,但其脆性大、耐摩擦性能较差,在其表面镀制类金刚石膜保护膜可显著提高其使用性能。直接在硫化锌基底沉积类金刚石膜难以实现,采用匹配层与过渡层的设计思想,制备出类金刚石膜与硫化锌基底之间相互牢固结合的过渡层。通过等离子体化学气相增强法在过渡层上成功制备类金刚石膜。研究了射频功率、气压等对保护膜系力学性能的影响。结果表明,镀制了硬质保护薄膜的硫化锌窗口在3~5μm和7.7~9.3μm双波段的平均透过率均高于90%,膜层硬度为硫化锌窗口近5倍。经环境试验之后,膜层光学性能与机械性能均无变化。 展开更多
关键词 硫化锌 类金刚石膜 硬度 过渡层
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靶压对磁控溅射GeC薄膜折射率的影响 被引量:2
14
作者 何光宗 +1 位作者 李钱陶 吴小丽 《光学与光电技术》 2009年第4期27-29,共3页
采用磁控溅射技术,以碳氢气体和氩气为工作气体,在Ge基底上制备了GeC薄膜。研究了靶压对薄膜折射率的影响,发现在较高的靶压下制备的GeC薄膜具有较低的折射率,而在较低的靶压下则得到了高折射率的薄膜。通过控制溅射靶压,制备了折射率在... 采用磁控溅射技术,以碳氢气体和氩气为工作气体,在Ge基底上制备了GeC薄膜。研究了靶压对薄膜折射率的影响,发现在较高的靶压下制备的GeC薄膜具有较低的折射率,而在较低的靶压下则得到了高折射率的薄膜。通过控制溅射靶压,制备了折射率在2.5~3.8之间可变的GeC薄膜。利用拉曼光谱研究了GeC薄膜的结构。薄膜样品的硬度测试表明,较低折射率的GeC薄膜具有较高的硬度。 展开更多
关键词 靶压 GeC薄膜 磁控溅射 折射率
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Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜等离子体环境稳定性研究 被引量:2
15
作者 李钱陶 李定 +2 位作者 王潺 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2020年第S01期97-103,共7页
利用射频激励电容耦合等离子体放电装置产生等离子体,分别采用氧、空气、氩、氖等离子体对Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜进行处理,试验研究了等离子体气压和等离子体种类对Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜光学损耗的影响。通过比对实验、能谱、... 利用射频激励电容耦合等离子体放电装置产生等离子体,分别采用氧、空气、氩、氖等离子体对Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜进行处理,试验研究了等离子体气压和等离子体种类对Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜光学损耗的影响。通过比对实验、能谱、光电子能谱分析测试等技术手段,对Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜在等离子体环境下出现的损耗变化现象、机理进行了探讨。Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜经氧等离子体处理后的损耗变化量最大,达到了15 ppm(1 ppm=1×10-6),为另3种等离子体处理后损耗变化量的2~4倍。定位出了Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜等离子体环境下产生吸收具体膜层为最外层2LAl2O3,发现了2LAl2O3在氧、氩等离子体作用下吸收损耗在一定程度上产生可逆变化的现象,结合XPS分析,对这一可逆现象从薄膜中游离O、Ar与等离子体中粒子之间相互作用产生缺陷等角度进行了探讨。提出了进一步提升Ta2O5/Al2O3激光陀螺反射镜等离子体环境稳定性的技术措施。 展开更多
关键词 激光陀螺反射镜 光学吸收 等离子体 三氧化二铝 五氧化二钽
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用于红外光学窗口的多层保护膜 被引量:2
16
作者 刘士军 李钱陶 +1 位作者 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第1期185-189,共5页
采用GexC1-x(碳化锗)、BP(磷化硼)和α-Si(非晶硅)作为高折射率材料,DLC(类金刚石)作为低折射率材料,在ZnS(硫化锌)、GaAs(砷化镓)、Ge(锗)等常用红外光学窗口表面研制了用于长波红外(8~12μm)波段的GexC1-x/DLC、BP/DLC及α-Si/DLC系... 采用GexC1-x(碳化锗)、BP(磷化硼)和α-Si(非晶硅)作为高折射率材料,DLC(类金刚石)作为低折射率材料,在ZnS(硫化锌)、GaAs(砷化镓)、Ge(锗)等常用红外光学窗口表面研制了用于长波红外(8~12μm)波段的GexC1-x/DLC、BP/DLC及α-Si/DLC系列多层保护膜。通过对比试验,研究了多层红外光学窗口保护膜的光学性能、显微硬度及海洋环境适应性。结合红外窗口及膜系材料特性,对试验结果进行了分析讨论。结果表明:GexC1-x/DLC多层红外保护膜具有最佳的光学性能,BP/DLC多层红外保护膜在海洋环境下具有最佳的保护效果。 展开更多
关键词 红外光学窗口 多层保护膜 海洋环境适应性 光学性能
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超光滑加工精磨过程中损伤层与余量匹配的研究 被引量:2
17
作者 陈光 《光学与光电技术》 2015年第1期68-73,共6页
对超光滑加工散粒研磨工序中采用的三级精磨法,进行了实验研究,通过改进差分化学刻蚀实验测出各级损伤层的厚度,利用损伤层厚度对加工余量匹配进行了优化。研究表明损伤层厚度与砂粒的粒径和压载之积成线性关系,与研磨时长无关;实验测得... 对超光滑加工散粒研磨工序中采用的三级精磨法,进行了实验研究,通过改进差分化学刻蚀实验测出各级损伤层的厚度,利用损伤层厚度对加工余量匹配进行了优化。研究表明损伤层厚度与砂粒的粒径和压载之积成线性关系,与研磨时长无关;实验测得W28、W10、W5号磨料在实验条件下研磨加工产生的损伤层厚度分别为12.4μm、8.2μm、5.8μm;并根据损伤层厚度提出了加工余量的匹配建议方案。损伤层的相关研究为超光滑加工中提高生产效率以及减少麻点产生几率的研究提供了参考。 展开更多
关键词 超光滑加工 研磨 损伤层 加工余量
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高透过率红外窗口保护薄膜的研制 被引量:2
18
作者 杨林峰 《光学与光电技术》 2009年第6期45-47,共3页
在Si、Ge红外窗口上利用离子辅助电子束蒸发技术和RF-PECVD技术制备了具有高透过率的AR/DLC保护薄膜,并与单层DLC保护薄膜的光学性能进行了对比。所制备的高透过率保护薄膜达到如下性能:在3~5μm波段,Si基底上一面镀高效红外增透膜一面... 在Si、Ge红外窗口上利用离子辅助电子束蒸发技术和RF-PECVD技术制备了具有高透过率的AR/DLC保护薄膜,并与单层DLC保护薄膜的光学性能进行了对比。所制备的高透过率保护薄膜达到如下性能:在3~5μm波段,Si基底上一面镀高效红外增透膜一面镀AR/DLC增强型保护薄膜的平均透过率达到约96%,较之镀DLC膜平均透过率提高了约4%。在8~12μm波段,Ge基底上一面镀高效红外增透膜一面镀AR/DLC增强型保护薄膜的平均透过率达到约95%,较之镀DLC膜平均透过率提高了约5%。有关薄膜样品都通过了相应的环境试验。 展开更多
关键词 红外窗口 保护薄膜 光学透过率 环境适应性
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激光/红外双波段减反射膜研究 被引量:2
19
作者 杨林峰 杨放 《光学与光电技术》 2009年第6期52-55,共4页
在硫化锌、硒化锌两种基底上开展了激光/中波红外、激光/长波红外双波段减反射膜技术研究。通过采用离子辅助沉积以及镀保护膜层等方法,对膜系结构和镀制工艺进行了优化。研制的激光/红外双波段减反射膜不仅具有良好的光学性能,而且具... 在硫化锌、硒化锌两种基底上开展了激光/中波红外、激光/长波红外双波段减反射膜技术研究。通过采用离子辅助沉积以及镀保护膜层等方法,对膜系结构和镀制工艺进行了优化。研制的激光/红外双波段减反射膜不仅具有良好的光学性能,而且具有较强的抗恶劣环境能力,可以满足实际使用要求。 展开更多
关键词 减反射膜 双波段 激光/红外 硫化锌 硒化锌
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低损耗Al2O3薄膜离子束溅射法制备与性能研究 被引量:1
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作者 李钱陶 李定 《光学与光电技术》 2020年第4期91-95,共5页
采用离子束溅射技术在反射率大于99.9997%、中心波长(λ)为635 nm的35层高反波堆表面镀制2M(光学厚度为λ/2)的Al2O3低损耗薄膜。测量分析样品制备不同阶段的表面均方根粗糙度、反射率,通过理论分析,计算得出了2M Al2O3薄膜的光学吸收... 采用离子束溅射技术在反射率大于99.9997%、中心波长(λ)为635 nm的35层高反波堆表面镀制2M(光学厚度为λ/2)的Al2O3低损耗薄膜。测量分析样品制备不同阶段的表面均方根粗糙度、反射率,通过理论分析,计算得出了2M Al2O3薄膜的光学吸收。研究分析了氧气流量对Al2O3薄膜吸收、表面均方根粗糙度的影响。结果显示,氧气流量对Al2O3薄膜的表面均方根粗糙度影响较小,表面均方根粗糙度优于0.15 nm;随着氧气流量增加,2M Al2O3薄膜的吸收先减小,达到最小极值后再增加;采用优化后的工艺,可以稳定地获得消光系数优于5×10-6的Al2O3薄膜。对进一步降低Al2O3薄膜的弱吸收和扩展Al2O3薄膜的应用有指导意义。 展开更多
关键词 低损耗薄膜 光学吸收 离子束溅射 表面均方根粗糙度 消光系数
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