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基于振动的亚微米阵列薄膜弹性参数辨识
被引量：
1
1
作者
方辉
澄
川
贵
志
北村隆行
《中国科学：物理学、力学、天文学》
CSCD
北大核心
2014年第11期1196-1202,共7页
亚微米阵列薄膜是以微/纳米尺寸的管、柱、弹簧等为基本单元,在同一平面内周期排列构筑的薄膜结构(厚度100 nm–1?m).亚微米阵列薄膜是人工合成的新型材料,需要依靠实验、理论和数值分析技术得到材料参数.由于亚微米阵列薄膜的几何微尺...
亚微米阵列薄膜是以微/纳米尺寸的管、柱、弹簧等为基本单元,在同一平面内周期排列构筑的薄膜结构(厚度100 nm–1?m).亚微米阵列薄膜是人工合成的新型材料,需要依靠实验、理论和数值分析技术得到材料参数.由于亚微米阵列薄膜的几何微尺度,其固有频率达到MHz量级.本文提出了一种基于激光技术的非接触式振动测试方法,由振动特性确定了亚微米阵列薄膜弹性参数.
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关键词
阵列薄膜
亚微米
振动测试
原文传递
基于FIB和TEM的纳米材料中界面分层破坏的实验方法研究与应用
被引量：
1
2
作者
闫亚宾
北村隆行
澄
川
贵
志
《中国科学：物理学、力学、天文学》
CSCD
北大核心
2014年第6期593-598,共6页
本文针对三维尺寸均处于纳米量级的材料与结构中常见的界面分层破坏问题,利用聚焦离子束技术(FIB)和透射电子显微镜(TEM)开发设计了一套研究纳米材料中界面端部裂纹启裂行为的实验方法.采用FIB成功从宏观多层薄膜材料(硅/铜/氮化硅,Si/C...
本文针对三维尺寸均处于纳米量级的材料与结构中常见的界面分层破坏问题,利用聚焦离子束技术(FIB)和透射电子显微镜(TEM)开发设计了一套研究纳米材料中界面端部裂纹启裂行为的实验方法.采用FIB成功从宏观多层薄膜材料(硅/铜/氮化硅,Si/Cu/SiN)中切割制备出了由硅基体(Si)和200 nm厚铜薄膜(Cu)及1000 nm厚氮化硅层(SiN)构成的纳米悬臂梁试样.利用高精度微小材料加载装置,在TEM中对该试样进行加载实验,并原位观测了不同试样中Cu/Si界面端部裂纹启裂的行为.通过对启裂瞬时Cu/Si界面上临界应力分布的有限元分析发现,不同尺寸试样中的界面上法向应力与剪切应力均集中在距界面端部100 nm的范围内,且临界法向应力远大于剪切应力.对应力分布的进一步分析则发现,距界面端部5 nm区域内的法向应力场控制着Cu/Si界面的分层破坏过程,可用于表征界面分层破坏的局部控制准则.
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关键词
纳米尺度
聚焦离子束系统
透射电子显微镜
界面
裂纹启裂
薄膜
原文传递
题名
基于振动的亚微米阵列薄膜弹性参数辨识
被引量：
1
1
作者
方辉
澄
川
贵
志
北村隆行
机构
中国工程物理研究院总体工程研究所
日本京都大学机械工程与科学系
出处
《中国科学：物理学、力学、天文学》
CSCD
北大核心
2014年第11期1196-1202,共7页
基金
国家自然科学基金(批准号:11002133)
日本学术振兴会Ronpaku计划(编号:CSC-11108)
中国工程物理研究院总体工程研究所科技专项(编号:2013KJZ02)资助项目
文摘
亚微米阵列薄膜是以微/纳米尺寸的管、柱、弹簧等为基本单元,在同一平面内周期排列构筑的薄膜结构(厚度100 nm–1?m).亚微米阵列薄膜是人工合成的新型材料,需要依靠实验、理论和数值分析技术得到材料参数.由于亚微米阵列薄膜的几何微尺度,其固有频率达到MHz量级.本文提出了一种基于激光技术的非接触式振动测试方法,由振动特性确定了亚微米阵列薄膜弹性参数.
关键词
阵列薄膜
亚微米
振动测试
Keywords
array films
submicron scale
vibration testing
分类号
TB383.2 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
基于FIB和TEM的纳米材料中界面分层破坏的实验方法研究与应用
被引量：
1
2
作者
闫亚宾
北村隆行
澄
川
贵
志
机构
中国工程物理研究院总体工程研究所
日本京都大学机械工程与科学系
出处
《中国科学：物理学、力学、天文学》
CSCD
北大核心
2014年第6期593-598,共6页
基金
中国工程物理研究院科学技术发展基金(编号:2013B0302043)
国家自然科学基金(批准号:11302205)资助项目
文摘
本文针对三维尺寸均处于纳米量级的材料与结构中常见的界面分层破坏问题,利用聚焦离子束技术(FIB)和透射电子显微镜(TEM)开发设计了一套研究纳米材料中界面端部裂纹启裂行为的实验方法.采用FIB成功从宏观多层薄膜材料(硅/铜/氮化硅,Si/Cu/SiN)中切割制备出了由硅基体(Si)和200 nm厚铜薄膜(Cu)及1000 nm厚氮化硅层(SiN)构成的纳米悬臂梁试样.利用高精度微小材料加载装置,在TEM中对该试样进行加载实验,并原位观测了不同试样中Cu/Si界面端部裂纹启裂的行为.通过对启裂瞬时Cu/Si界面上临界应力分布的有限元分析发现,不同尺寸试样中的界面上法向应力与剪切应力均集中在距界面端部100 nm的范围内,且临界法向应力远大于剪切应力.对应力分布的进一步分析则发现,距界面端部5 nm区域内的法向应力场控制着Cu/Si界面的分层破坏过程,可用于表征界面分层破坏的局部控制准则.
关键词
纳米尺度
聚焦离子束系统
透射电子显微镜
界面
裂纹启裂
薄膜
Keywords
nanoscale
focused ion beam
transmission electron microscopy
interface
crack initiation
thin films
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于振动的亚微米阵列薄膜弹性参数辨识
方辉
澄
川
贵
志
北村隆行
《中国科学：物理学、力学、天文学》
CSCD
北大核心
2014
1
原文传递
2
基于FIB和TEM的纳米材料中界面分层破坏的实验方法研究与应用
闫亚宾
北村隆行
澄
川
贵
志
《中国科学：物理学、力学、天文学》
CSCD
北大核心
2014
1
原文传递
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