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大口径辅助阳极型辉光放电溅射源的设计与研究
1
作者
万真真
武佳
+4 位作者
施宁
王永清
刘少锋
沈
懿
璇
王海云
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第6期1640-1647,共8页
辉光放电原子发射光谱分析技术可对金属样品表面进行沿深度方向的逐层分析与表征,具有溅射速率快、分析效率高、可大面积溅射的优点。另外,辉光放电等离子体能量较低,材料逐层溅射激发过程中不易引起材料本身组织结构的变化,能够实现沿...
辉光放电原子发射光谱分析技术可对金属样品表面进行沿深度方向的逐层分析与表征,具有溅射速率快、分析效率高、可大面积溅射的优点。另外,辉光放电等离子体能量较低,材料逐层溅射激发过程中不易引起材料本身组织结构的变化,能够实现沿样品深度方向逐层剥蚀制样。将辉光放电溅射源与扫描电镜、光谱分析检测仪器等联用,可作为金属材料高通量定量表征的有效手段。为了高通量地获取材料表面的成分分布信息,需要对材料表面在多尺寸、大面积溅射条件下进行辉光放电等离子体溅射。因此在传统辉光溅射源的基础上,改进了阳极筒结构,设计了4种直径为cm级的(15、20、30和40 mm)大口径阳极筒,并对其进行COMSOL数值模拟仿真和实际溅射效果研究。大尺寸溅射面可获得材料表面更为丰富的信息,但在相同溅射条件下,阳极口径增大也带来溅射速率下降、溅射面中心区域离子化率降低、影响溅射均匀性和坑型平整度等问题。为解决这些问题,设计了可应用于大口径直流辉光放电溅射源的辅助阳极结构,通过改变放电空间的电场分布情况调控等离子体分布,增强了阳极中心区域离子化率。详细阐述了辅助阳极结构的设计原理,并对传统阳极和辅助阳极进行了数值模拟仿真研究和实际溅射效果对比实验。结果表明增设辅助阳极对大口径溅射源溅射速率的提升效果明显,对阳极口径30 mm溅射源的溅射速率提升33%~48%,对阳极口径40 mm溅射源的溅射速率提升34%~57%。采用大口径辅助阳极型溅射源对紫铜样品进行了溅射激发,并用光学相干断层扫描仪(OCT)测试了溅射坑形貌,结果表明增设辅助阳极可有效改善溅射均匀性和坑型平整度。
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关键词
辉光放电
高通量表征
辅助阳极
溅射速率
溅射坑形貌
下载PDF
职称材料
一种降低气体辉光放电驱动用恒流源功耗电路
2
作者
王永清
刘欢
+1 位作者
万真真
沈
懿
璇
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2021年第19期350-354,共5页
为了便于气体放电等离子体的起燃,驱动恒流源需要较高的开路电压,同时因气体放电具有负阻效应,起燃后维持放电所需的电压远小于起燃电压,起燃后富余的电压会造成恒流源具有较大功耗。鉴于此,提出一种降低气体辉光放电驱动用恒流源功耗...
为了便于气体放电等离子体的起燃,驱动恒流源需要较高的开路电压,同时因气体放电具有负阻效应,起燃后维持放电所需的电压远小于起燃电压,起燃后富余的电压会造成恒流源具有较大功耗。鉴于此,提出一种降低气体辉光放电驱动用恒流源功耗电路方案,给出电路原理图并详细分析其工作原理。本方案使用开路电压略高于气体放电维持电压的恒流源来降低功耗,使用高压脉冲压电陶瓷来保证气体放电可靠起燃,恒流源与高压脉冲电路由高压硅堆隔离后并联工作。实验结果表明,当电路工作正常时,可降低约为50%的功耗。在直流辉光放电实验平台上对镀锌板进行样品精密度的实验测试,发现Cu、Si和Mo等元素含量(谱线强度)的相对标准偏差(RSD)均优于2%。
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关键词
表面光学
高压脉冲压电陶瓷
开路电压
功耗
负阻效应
高压硅堆
原文传递
题名
大口径辅助阳极型辉光放电溅射源的设计与研究
1
作者
万真真
武佳
施宁
王永清
刘少锋
沈
懿
璇
王海云
机构
河北大学电子信息工程学院
北京科技大学国家材料服役安全科学中心
出处
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第6期1640-1647,共8页
基金
国家自然科学基金项目(61440006)
辉光放电溅射源及其供能源的研制项目(横向课题20200018)资助。
文摘
辉光放电原子发射光谱分析技术可对金属样品表面进行沿深度方向的逐层分析与表征,具有溅射速率快、分析效率高、可大面积溅射的优点。另外,辉光放电等离子体能量较低,材料逐层溅射激发过程中不易引起材料本身组织结构的变化,能够实现沿样品深度方向逐层剥蚀制样。将辉光放电溅射源与扫描电镜、光谱分析检测仪器等联用,可作为金属材料高通量定量表征的有效手段。为了高通量地获取材料表面的成分分布信息,需要对材料表面在多尺寸、大面积溅射条件下进行辉光放电等离子体溅射。因此在传统辉光溅射源的基础上,改进了阳极筒结构,设计了4种直径为cm级的(15、20、30和40 mm)大口径阳极筒,并对其进行COMSOL数值模拟仿真和实际溅射效果研究。大尺寸溅射面可获得材料表面更为丰富的信息,但在相同溅射条件下,阳极口径增大也带来溅射速率下降、溅射面中心区域离子化率降低、影响溅射均匀性和坑型平整度等问题。为解决这些问题,设计了可应用于大口径直流辉光放电溅射源的辅助阳极结构,通过改变放电空间的电场分布情况调控等离子体分布,增强了阳极中心区域离子化率。详细阐述了辅助阳极结构的设计原理,并对传统阳极和辅助阳极进行了数值模拟仿真研究和实际溅射效果对比实验。结果表明增设辅助阳极对大口径溅射源溅射速率的提升效果明显,对阳极口径30 mm溅射源的溅射速率提升33%~48%,对阳极口径40 mm溅射源的溅射速率提升34%~57%。采用大口径辅助阳极型溅射源对紫铜样品进行了溅射激发,并用光学相干断层扫描仪(OCT)测试了溅射坑形貌,结果表明增设辅助阳极可有效改善溅射均匀性和坑型平整度。
关键词
辉光放电
高通量表征
辅助阳极
溅射速率
溅射坑形貌
Keywords
Glow discharge
High throughput characterization
Large aperture sputtering source
Sputtering rate
Sputtering crater morphology
分类号
O657.31 [理学—分析化学]
下载PDF
职称材料
题名
一种降低气体辉光放电驱动用恒流源功耗电路
2
作者
王永清
刘欢
万真真
沈
懿
璇
机构
河北大学电子信息工程学院
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2021年第19期350-354,共5页
基金
河北省专业学位研究生教学案例库项目(KCJSZ2018010)
钢铁研究总院与河北大学合作课题。
文摘
为了便于气体放电等离子体的起燃,驱动恒流源需要较高的开路电压,同时因气体放电具有负阻效应,起燃后维持放电所需的电压远小于起燃电压,起燃后富余的电压会造成恒流源具有较大功耗。鉴于此,提出一种降低气体辉光放电驱动用恒流源功耗电路方案,给出电路原理图并详细分析其工作原理。本方案使用开路电压略高于气体放电维持电压的恒流源来降低功耗,使用高压脉冲压电陶瓷来保证气体放电可靠起燃,恒流源与高压脉冲电路由高压硅堆隔离后并联工作。实验结果表明,当电路工作正常时,可降低约为50%的功耗。在直流辉光放电实验平台上对镀锌板进行样品精密度的实验测试,发现Cu、Si和Mo等元素含量(谱线强度)的相对标准偏差(RSD)均优于2%。
关键词
表面光学
高压脉冲压电陶瓷
开路电压
功耗
负阻效应
高压硅堆
Keywords
optics at surfaces
high voltage pulse stamping ceramics
open circuit voltage
power consumption
negative resistance effect
high voltage silicon stack
分类号
TH744 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大口径辅助阳极型辉光放电溅射源的设计与研究
万真真
武佳
施宁
王永清
刘少锋
沈
懿
璇
王海云
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
下载PDF
职称材料
2
一种降低气体辉光放电驱动用恒流源功耗电路
王永清
刘欢
万真真
沈
懿
璇
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2021
0
原文传递
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