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a-SiN:H薄膜的对靶溅射沉积及微结构特性研究 被引量:8
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作者 于威 孟令海 +4 位作者 耿春玲 丁文革 刘洪飞 傅广生 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第18期1799-1804,共6页
采用对靶磁控反应溅射技术以N2和H2为反应气体在硅(100)和石英衬底上制备了氢化非晶氮化硅(a-SiN:H)薄膜.利用台阶仪、原子力显微镜、紫外-可见(UV-VIS)光吸收和傅里叶红外透射光谱(FTIR)对薄膜沉积速率、微观结构及键合特性进行了分析... 采用对靶磁控反应溅射技术以N2和H2为反应气体在硅(100)和石英衬底上制备了氢化非晶氮化硅(a-SiN:H)薄膜.利用台阶仪、原子力显微镜、紫外-可见(UV-VIS)光吸收和傅里叶红外透射光谱(FTIR)对薄膜沉积速率、微观结构及键合特性进行了分析.结果表明,利用等离子反应溅射可在较低衬底温度条件下(Ts<250℃)实现低表面粗糙度和高光学透过率的a-SiN:H薄膜制备.增加衬底温度可使薄膜厚度减小,薄膜光学带隙Eg提高,薄膜无序度减小.FTIR分析结果表明,薄膜主要以Si-N,Si-H和N-H键合结构存在,随衬底温度增加,薄膜中的键合氢含量减小,而整体键密度和Si-N键密度增加.该微观结构和光学特性的调整可归因衬底温度升高所引起的衬底表面原子迁移率和反应速率的增加. 展开更多
关键词 氢化非晶氮化硅 对靶磁控溅射 微观结构 键合特性
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Giant in-plane optical anisotropy of a-plane ZnO on r-plane sapphire
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作者 陈涌海 +5 位作者 秦旭东 高寒松 俞金玲 朱来攀 李远 时凯 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第12期17-20,共4页
We have measured the in-plane optical anisotropy (IPOA) of (1120) ZnO (a-plane) on (10]-2) sapphire (r-plane) by reflectance difference spectroscopy (RDS) at room temperature. Giant IPOA has been observed ... We have measured the in-plane optical anisotropy (IPOA) of (1120) ZnO (a-plane) on (10]-2) sapphire (r-plane) by reflectance difference spectroscopy (RDS) at room temperature. Giant IPOA has been observed be- tween the light polarized direction parallel and perpendicular to the c axis of ZnO, since the symmetry of a-plane is C2v. A sharp resonance has been observed near the fundamental band gap, which is induced by the polarization- depend band gap shift. The sharp line shape is attributed to the exciton transition. The spectra fitting and differential spectra indicate the polarization-depend band energies. The giant IPOA is possible enhanced by anisotropy strain along and perpendicular to the c axis in the a-plane. 展开更多
关键词 ZNO in-plane optical anisotropy reflectance difference spectroscopy
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Dependence of Optical Absorption in Silicon Nanostructures on Size of Silicon Nanoparticles
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作者 丁文革 苑静 +3 位作者 孟令海 于威 傅广生 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2011年第4期688-692,共5页
The amorphous silicon nanoparticles (Si NPs) embedded in silicon nitride (SiNx) films prepared by helicon wave plasma-enhanced chemical vapor deposition (HWP-CVD) technique are studied. From Raman scattering inv... The amorphous silicon nanoparticles (Si NPs) embedded in silicon nitride (SiNx) films prepared by helicon wave plasma-enhanced chemical vapor deposition (HWP-CVD) technique are studied. From Raman scattering investigation, we determine that the deposited film has the structure of silicon nanocrystals embedded in silicon nitride (nc-Si/SiNx) thin film at a certain hydrogen dilution amount. The analysis of optical absorption spectra implies that the Si NPs is affected by quantum size effects and has the nature of an indirect-band-gap semiconductor. Further, considering the effects of the mean Si NP size and their dispersion on oscillator strength, and quantum-confinement, we obtain an analytical expression for the spectral absorbance of ensemble samples. Gaussian as well as lognormal size-distributions of the Si NPs are considered for optical absorption coefficient calculations. The influence of the particle size-distribution on the optical absorption spectra was systematically studied. We present the fitting of the optical absorption experimental data with our model and discuss the results. 展开更多
关键词 optical absorption silicon nanoparticles quantum size effects oscillator strength silicon nitride film
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永磁同步电机齿槽转矩抑制方法专利分析
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作者 李娟娟 《电子制作》 2016年第05X期27-27,共1页
随着人们对能源的珍视程度日渐增强,永磁电机得到了快速发展。且永磁同步电动机具有高效率、强功率密度等优点成为研究热点,然而,齿槽转矩是永磁电机特有的问题之一。本文主要以德温特专利数据库以及中文摘要数据库中的检索结果为分析样... 随着人们对能源的珍视程度日渐增强,永磁电机得到了快速发展。且永磁同步电动机具有高效率、强功率密度等优点成为研究热点,然而,齿槽转矩是永磁电机特有的问题之一。本文主要以德温特专利数据库以及中文摘要数据库中的检索结果为分析样本,从专利文献的视角对降低永磁同步电动机齿槽转矩的发展进行了全面的统计分析,总结了降低永磁同步电动机齿槽转矩的国内和国外专利的申请趋势、主要申请人分布。 展开更多
关键词 永磁同步电动机 齿槽转矩 专利
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大功率GaN基HEMT的专利申请趋势分析
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作者 李娟娟 《电子制作》 2016年第09X期51-51,共1页
电子信息技术是20世纪末兴起的技术,是21世纪技术的制高点,其中以HEMT(High Electron Mobility Transistor:高电子迁移率晶体管)为代表发展最为显著[1],本文分析其在全球和国内的专利申请情况,研究了全球和国内专利申请量随时间的变化,... 电子信息技术是20世纪末兴起的技术,是21世纪技术的制高点,其中以HEMT(High Electron Mobility Transistor:高电子迁移率晶体管)为代表发展最为显著[1],本文分析其在全球和国内的专利申请情况,研究了全球和国内专利申请量随时间的变化,全球的申请的国家分布,主要的申请人,国内申请国家的分布,国内申请人的分布。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管 专利申请
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