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DY-5型亚微米电子束曝光机电子光学柱的一些问题 被引量:1
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作者 唐文剑 +1 位作者 张福安 安秉谦 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1995年第2期48-53,共6页
本文概要地比较了扫描电镜和电子束曝光机二者电子光学柱的异同。介绍了把一台AMRAY系列电镜的电子光柱改造成DY-5型电子束曝光机电子光学柱所做的工作。最后给出了一组试验结果。
关键词 电子束曝光 电子光学柱 试验
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DY-5型亚微米电子束曝光机多座标系重合的调校技术
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作者 唐文剑 张福安 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1994年第4期31-36,共6页
在电子束曝光机中,工件传动台、电磁偏转场及标记三者相对应的座标轴是否重合,是影响图形拼接精度的重要因素之一。本文概要地介绍了调校三座标系相互重合的方法,并给出了DY-5型亚微米电子束曝光机调校结果。
关键词 电子束曝光机 微电子束 座标轴
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电子束曝光系统中的校正技术
3
作者 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1995年第3期42-47,共6页
电子束曝光系统中采用了多项校正技术,才得以便之渐臻完善,成为微细加工领域中一种非常重要的工艺装备。本文概要地介绍了这些校正技术的原理、适用范围以及校正方法的要点。
关键词 电子束曝光系统 场畸变校正 半导体器件
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DY-5型亚微米电子束曝光机偏转系统
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作者 唐文剑 +1 位作者 唐辉 陈建平 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1996年第3期38-42,53,共6页
本文将重点介绍DY-5型电子束曝光机的偏转系统的构成、特点及结果。
关键词 电子束暴光机 偏转系统 亚微米
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DY-5型亚微米电子束曝光机
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作者 顾文琪 《微细加工技术》 1996年第1期1-6,共6页
本文介绍了DY-5型亚微米电子束曝光机的主要技术性能:最细特征线宽0.4μm;图形位置精度及拼接精度优于±0.15μm;扫描场尺寸1×1mm2和2×2mm2;最高扫描速度1MHz;可加工100×100... 本文介绍了DY-5型亚微米电子束曝光机的主要技术性能:最细特征线宽0.4μm;图形位置精度及拼接精度优于±0.15μm;扫描场尺寸1×1mm2和2×2mm2;最高扫描速度1MHz;可加工100×100mm2掩模版或Φ75硅圆片。给出了部分曝光试验结果。 展开更多
关键词 电子束曝光机 光刻 曝光机 半导体器件
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电子束曝光机用背散射电子检测装置的研制及应用
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作者 张福安 《电工电能新技术》 CSCD 北大核心 1989年第2期46-50,共5页
在电子束曝光系统中,背散射电子检测器是重要部件之一。本文简要地介绍了该装置的工作原理、功能及检测系统概况,并给出了多种应用举例。
关键词 电子束曝光机 背散射电子 检测装置
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电子束曝光机用背散射电子检测装置的研制及应用 被引量:1
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作者 张福安 《LSI制造与测试》 1989年第4期27-31,共5页
关键词 电子束 曝光机 电子检测 装置 散射
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书画作品
8
作者 耿立文 吴思章 +9 位作者 原健 田洪兰 邱忠兴 周晓云 王洪 余力 刘桂云 白素菊 游云 《老同志之友(下半月)》 2023年第1期64-64,共1页
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