以氯化铁、天冬氨酸、硅钨酸为主要原料,采用溶液沉淀法制备了Fe(Ⅲ)-Asp-SiW_(12)O_(40)复合物,使用红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)对该复合物进行了结构表征,并以偶氮类染料为目标污染物,考察了其光-Fenton反应降解效果。研究表明:复...以氯化铁、天冬氨酸、硅钨酸为主要原料,采用溶液沉淀法制备了Fe(Ⅲ)-Asp-SiW_(12)O_(40)复合物,使用红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)对该复合物进行了结构表征,并以偶氮类染料为目标污染物,考察了其光-Fenton反应降解效果。研究表明:复合物为无定形态,多酸阴离子保持了Keggin骨架结构,且该复合物催化剂对甲基橙溶液具有较好的降解活性。最佳光催化降解甲基橙条件为100 mL 50 mg·L^(-1)甲基橙溶液中加入0.40 mL 30%H_(2)O_(2),0.0800 g复合物,450 W高压汞灯照射40 min,甲基橙降解率可达到98%。展开更多
文摘以氯化铁、天冬氨酸、硅钨酸为主要原料,采用溶液沉淀法制备了Fe(Ⅲ)-Asp-SiW_(12)O_(40)复合物,使用红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)对该复合物进行了结构表征,并以偶氮类染料为目标污染物,考察了其光-Fenton反应降解效果。研究表明:复合物为无定形态,多酸阴离子保持了Keggin骨架结构,且该复合物催化剂对甲基橙溶液具有较好的降解活性。最佳光催化降解甲基橙条件为100 mL 50 mg·L^(-1)甲基橙溶液中加入0.40 mL 30%H_(2)O_(2),0.0800 g复合物,450 W高压汞灯照射40 min,甲基橙降解率可达到98%。
