为研究Si表面化学沉积的Si O2膜在Si片单面制绒中的保护作用,纳米级厚度的Si O2膜被沉积在单晶Si片表面(形成Si O2@Si片),并在碱液和商业制绒液中研究其保护作用。结果发现,在2 M Na OH碱液中,经过30 min刻蚀,Si O2@Si片比裸Si片的质量...为研究Si表面化学沉积的Si O2膜在Si片单面制绒中的保护作用,纳米级厚度的Si O2膜被沉积在单晶Si片表面(形成Si O2@Si片),并在碱液和商业制绒液中研究其保护作用。结果发现,在2 M Na OH碱液中,经过30 min刻蚀,Si O2@Si片比裸Si片的质量损失少10%。进一步,在商业制绒剂中刻蚀后,扫描电镜(SEM)形貌表征显示Si O2@Si片表面并没有刻蚀出金字塔型绒面结构,这说明Si O2掩膜对Si基底具有良好的保护作用,或可作为Si单面制绒的新型保护膜。展开更多
