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纳米晶ZnS薄膜的制备方法及应用进展 被引量：1
1
作者 杨扬 李刚 +2 位作者 金克武 王天齐 彭赛奥 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期51-54,共4页
纳米晶ZnS薄膜具有带隙宽度大、光学透过率高、介电常数低、化学稳定性好等特点,在透明导电膜、铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池、发光器件、功能玻璃等领域表现出巨大的应用潜力。综述了纳米晶ZnS薄膜常用的制备方法,如磁控溅射法、化学... 纳米晶ZnS薄膜具有带隙宽度大、光学透过率高、介电常数低、化学稳定性好等特点,在透明导电膜、铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池、发光器件、功能玻璃等领域表现出巨大的应用潜力。综述了纳米晶ZnS薄膜常用的制备方法,如磁控溅射法、化学浴沉积法、真空蒸发法和化学气相沉积法,同时还介绍了纳米晶ZnS薄膜的掺杂改性研究及其在相关领域的应用进展。 展开更多
关键词 纳米晶ZnS薄膜 带隙宽度 透明导电膜 CIGS太阳能电池
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室温射频磁控溅射制备纳米晶ZnS_(X)薄膜及其性能研究 被引量：1
2
作者 杨扬 李刚 +4 位作者 金克武 王天齐 彭赛奥 姚婷婷 陈淑勇 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第7期230-237,共8页
为获得性能优异的透明介质薄膜,采用射频磁控溅射技术,以ZnS陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上室温沉积纳米晶富锌ZnS薄膜,通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、分光光度计、光谱椭偏仪重点研究了不同射频功率对制备的纳米晶Zn... 为获得性能优异的透明介质薄膜,采用射频磁控溅射技术,以ZnS陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上室温沉积纳米晶富锌ZnS薄膜,通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、分光光度计、光谱椭偏仪重点研究了不同射频功率对制备的纳米晶ZnS_(X)薄膜的晶相结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明:射频功率对ZnS_(X)薄膜晶相形成和结晶度具有重要影响;随着溅射功率的增加,ZnS_(X)薄膜中Zn和S元素的比例、特征拉曼峰的强度以及折射率的值都先增大后减小,薄膜的光学带隙从3.86 eV降低至3.76 eV;当溅射功率为150 W时,为ZnS_(X)薄膜具有立方相结构及高结晶度的最优条件,薄膜的Zn/S比接近于标准化学计量比,达到1.23,可见光平均透过率大于80%,550 nm下ZnS_(X)薄膜的光学折射率为2.03。 展开更多
关键词 薄膜 光学材料 射频磁控溅射 富锌硫化锌 溅射功率
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氮气流量和退火处理对射频磁控溅射氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响
3
作者 杨勇 汪冰洁 +8 位作者 姚婷婷 李刚 金克武 沈洪雪 王天齐 杨扬 彭赛奥 甘治平 马立云 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第3期417-422,共6页
常温下利用TiO2陶瓷靶采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了N掺杂TiO2薄膜。利用光学轮廓仪、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪分析(XPS)和分光光度计等对薄膜的沉积速率、化学组成、晶体结构和禁带宽度进行了系统研究。结果表明:... 常温下利用TiO2陶瓷靶采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了N掺杂TiO2薄膜。利用光学轮廓仪、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪分析(XPS)和分光光度计等对薄膜的沉积速率、化学组成、晶体结构和禁带宽度进行了系统研究。结果表明:磁控溅射N2流量和退火处理对薄膜的微观结构和性能有重要的影响。退火前,薄膜由非晶态TiO2构成;退火后,薄膜呈现锐钛矿相和金红石相的混合相。随着磁控溅射系统中N2流量的增加,退火前禁带宽度从3.19eV减少到2.15eV;退火后,薄膜由非晶相TiO2组织转化为锐钛矿TiO2和金红石TiO2构成的浑河相组织,禁带宽度相比退火前的非晶相TiO2薄膜略有增加。 展开更多
关键词 氮掺杂二氧化钛薄膜 射频磁控溅射 沉积速率 禁带宽度
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