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薄膜铂电阻制备工艺研究
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作者 张倩 袁燕 +4 位作者 于海洋 倪烨 常子硕 孟腾飞 林树超 《仪器与设备》 2024年第1期49-54,共6页
薄膜铂电阻在温度测量领域应用广泛,使用数量巨大,在很多行业中,已取代了传统的绕线式铂电阻,但是由于其薄膜制备工艺和结构的不同,薄膜铂电阻的温度特性和稳定性与传统绕线式铂电阻有所不同。本文采用磁控溅射法在陶瓷基体上制备薄膜... 薄膜铂电阻在温度测量领域应用广泛,使用数量巨大,在很多行业中,已取代了传统的绕线式铂电阻,但是由于其薄膜制备工艺和结构的不同,薄膜铂电阻的温度特性和稳定性与传统绕线式铂电阻有所不同。本文采用磁控溅射法在陶瓷基体上制备薄膜铂电阻温度传感器,并研究了基片温度、热处理工艺和薄膜厚度对薄膜铂电阻温度传感器的电阻值、温度系数等特性的影响。 展开更多
关键词 薄膜 铂电阻 磁控溅射 温度系数
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