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3 kt/a氯化聚乙烯投产运行小结
被引量:
4
1
作者
王敏
周杰
+1 位作者
胡万明
尹
云
舰
《氯碱工业》
CAS
2002年第6期26-28,共3页
对杭州电化集团有限公司 3kt/a氯化聚乙烯装置的投产运行进行了总结 ,包括工艺、设备、仪表控制系统等特点。该工艺路线是介于酸相法和水相法之间的一种新工艺 。
关键词
氯化聚乙烯
投产
运行
工艺
设备
仪表
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职称材料
液晶显示面板铝刻蚀废液处理研究进展
被引量:
2
2
作者
王海龙
邢攸美
+4 位作者
李盈盈
倪
云
岚
王小眉
尹
云
舰
方伟华
《浙江化工》
CAS
2020年第4期44-47,共4页
液晶显示面板铝刻蚀废液采用常规法进行无害化处理不仅成本高,而且浪费资源。本文介绍了当前主流研究的铝刻蚀废液处理方法,并列举了实例。最后提出目前存在的问题及铝刻蚀废液处理的发展方向。
关键词
液晶显示面板
铝刻蚀
废液
磷酸
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职称材料
废弃化学品处理处置标准化
被引量:
2
3
作者
弓创周
尹
云
舰
+3 位作者
丁灵
王琪
安晓英
赵美敬
《无机盐工业》
CAS
北大核心
2017年第11期21-23,34,共4页
随着中国经济的快速发展,废弃化学品的产生源及产生量急剧增加,其资源化、无害化处理处置已成为社会普遍关注的焦点问题。行业无序混乱处理处置行为的存在,需要通过标准化加以规范,以引领其健康有序地发展。阐述了废弃化学品的定义,介...
随着中国经济的快速发展,废弃化学品的产生源及产生量急剧增加,其资源化、无害化处理处置已成为社会普遍关注的焦点问题。行业无序混乱处理处置行为的存在,需要通过标准化加以规范,以引领其健康有序地发展。阐述了废弃化学品的定义,介绍了废弃化学品的处理处置现状、处理处置方法和存在的问题,指出了废弃化学品处理处置标准化的必要性,对标准化的现状做了介绍,展望了行业标准化的发展趋势。通过创建废弃化学品处理处置标准化格局,推动科技进步与创新,提高废弃化学品二次资源的综合利用率,实现循环经济、绿色产业、资源综合利用的目的。
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关键词
废弃化学品
处理处置
供给侧结构性调整改革
标准化
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职称材料
非离子型Gemini表面活性剂研究进展及其在半导体湿电子材料中的应用
被引量:
1
4
作者
倪芸岚
邢攸美
+5 位作者
胡涛
尹
云
舰
李潇逸
张之钧
王小栋
余红刚
《天津化工》
CAS
2021年第5期87-90,共4页
非离子型双子(Gemini)表面活性剂具备优异的表面活性和独特的分子结构,且不会引入金属离子杂质,在集成电路领域具有巨大的应用潜力。通过对Gemini非离子表面活性剂的部分基团的进行改性,能够显著提高其各项性能,应用于湿电子材料后能够...
非离子型双子(Gemini)表面活性剂具备优异的表面活性和独特的分子结构,且不会引入金属离子杂质,在集成电路领域具有巨大的应用潜力。通过对Gemini非离子表面活性剂的部分基团的进行改性,能够显著提高其各项性能,应用于湿电子材料后能够匹配集成电路领域的高精细化发展要求。
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关键词
GEMINI表面活性剂
非离子型
基团改性
研究进展
集成电路
湿电子材料
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职称材料
先进制程用光刻胶及TMAH显影液的改进
5
作者
张之钧
尹
云
舰
+2 位作者
李潇逸
倪芸岚
邢攸美
《浙江化工》
CAS
2021年第7期13-17,共5页
光刻是一种利用曝光、显影和刻蚀等工艺将光掩模上的图形转移到衬底材料上的工艺,是半导体器件制造工艺中的重要步骤。其中,在光刻胶层刻画图形时,主要涉及材料为光刻胶、显影液。在G线(436 nm)、I线(365 nm)光刻工艺中,光刻胶主要是酚...
光刻是一种利用曝光、显影和刻蚀等工艺将光掩模上的图形转移到衬底材料上的工艺,是半导体器件制造工艺中的重要步骤。其中,在光刻胶层刻画图形时,主要涉及材料为光刻胶、显影液。在G线(436 nm)、I线(365 nm)光刻工艺中,光刻胶主要是酚醛树脂-重氮萘醌体系,显影液一般采用2.38 wt%的四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液;在193 nm、极紫外(EUV)光刻工艺中,光刻胶主要为含有酯基的聚合物-光致产酸剂(PAG)体系,此外由于接触的界面张力以及膨润问题,显影液中需要加入非离子表面活性剂。本文主要介绍几种先进光刻工艺中的光刻胶和显影液。
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关键词
光刻工艺
光刻胶
显影液
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职称材料
三合一炉常见异常现象探析
6
作者
尹
云
舰
《氯碱工业》
CAS
1999年第9期37-38,共2页
前言盐酸是氯碱行业的主要耗氯产品,合成盐酸是氯碱企业保证氯平衡的手段之一。我国70年代的合成盐酸工艺,主要为“铁合成炉合成氯化氢———吸收”;80年代后期,随着离子膜烧碱技术被国内众多厂家广泛采用,高纯酸系统作为其配...
前言盐酸是氯碱行业的主要耗氯产品,合成盐酸是氯碱企业保证氯平衡的手段之一。我国70年代的合成盐酸工艺,主要为“铁合成炉合成氯化氢———吸收”;80年代后期,随着离子膜烧碱技术被国内众多厂家广泛采用,高纯酸系统作为其配套工程,“三合一炉”法合成盐酸工艺...
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关键词
三合一炉
异常现象
水流泵
系统压力
回收塔
原料气
抽吸能力
尾气系统
探析
设计能力
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职称材料
题名
3 kt/a氯化聚乙烯投产运行小结
被引量:
4
1
作者
王敏
周杰
胡万明
尹
云
舰
机构
杭州电化集团有限公司
出处
《氯碱工业》
CAS
2002年第6期26-28,共3页
文摘
对杭州电化集团有限公司 3kt/a氯化聚乙烯装置的投产运行进行了总结 ,包括工艺、设备、仪表控制系统等特点。该工艺路线是介于酸相法和水相法之间的一种新工艺 。
关键词
氯化聚乙烯
投产
运行
工艺
设备
仪表
Keywords
chlorinated polyethylene
production
process
equipment
apparatus
summary
分类号
TQ325.12 [化学工程—合成树脂塑料工业]
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职称材料
题名
液晶显示面板铝刻蚀废液处理研究进展
被引量:
2
2
作者
王海龙
邢攸美
李盈盈
倪
云
岚
王小眉
尹
云
舰
方伟华
机构
杭州格林达电子材料股份有限公司
出处
《浙江化工》
CAS
2020年第4期44-47,共4页
文摘
液晶显示面板铝刻蚀废液采用常规法进行无害化处理不仅成本高,而且浪费资源。本文介绍了当前主流研究的铝刻蚀废液处理方法,并列举了实例。最后提出目前存在的问题及铝刻蚀废液处理的发展方向。
关键词
液晶显示面板
铝刻蚀
废液
磷酸
Keywords
LCD panel
aluminum etching
waste liquid
phosphoric acid
分类号
X76 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
废弃化学品处理处置标准化
被引量:
2
3
作者
弓创周
尹
云
舰
丁灵
王琪
安晓英
赵美敬
机构
中海油天津化工研究设计院有限公司
杭州格林达电子材料股份有限公司
出处
《无机盐工业》
CAS
北大核心
2017年第11期21-23,34,共4页
文摘
随着中国经济的快速发展,废弃化学品的产生源及产生量急剧增加,其资源化、无害化处理处置已成为社会普遍关注的焦点问题。行业无序混乱处理处置行为的存在,需要通过标准化加以规范,以引领其健康有序地发展。阐述了废弃化学品的定义,介绍了废弃化学品的处理处置现状、处理处置方法和存在的问题,指出了废弃化学品处理处置标准化的必要性,对标准化的现状做了介绍,展望了行业标准化的发展趋势。通过创建废弃化学品处理处置标准化格局,推动科技进步与创新,提高废弃化学品二次资源的综合利用率,实现循环经济、绿色产业、资源综合利用的目的。
关键词
废弃化学品
处理处置
供给侧结构性调整改革
标准化
Keywords
chemical waste
treatment and disposal
supply-side structural reform
standardization
分类号
TQ09 [化学工程]
下载PDF
职称材料
题名
非离子型Gemini表面活性剂研究进展及其在半导体湿电子材料中的应用
被引量:
1
4
作者
倪芸岚
邢攸美
胡涛
尹
云
舰
李潇逸
张之钧
王小栋
余红刚
机构
杭州格林达电子材料股份有限公司
出处
《天津化工》
CAS
2021年第5期87-90,共4页
基金
浙江省科技计划项目(2019C01087)。
文摘
非离子型双子(Gemini)表面活性剂具备优异的表面活性和独特的分子结构,且不会引入金属离子杂质,在集成电路领域具有巨大的应用潜力。通过对Gemini非离子表面活性剂的部分基团的进行改性,能够显著提高其各项性能,应用于湿电子材料后能够匹配集成电路领域的高精细化发展要求。
关键词
GEMINI表面活性剂
非离子型
基团改性
研究进展
集成电路
湿电子材料
Keywords
gemini surfactant
nonionic
group modification
research progress
integrated circuit
wet chemicals
分类号
TQ432.2 [化学工程]
下载PDF
职称材料
题名
先进制程用光刻胶及TMAH显影液的改进
5
作者
张之钧
尹
云
舰
李潇逸
倪芸岚
邢攸美
机构
杭州格林达电子材料股份有限公司
出处
《浙江化工》
CAS
2021年第7期13-17,共5页
基金
浙江省科技计划项目(2019C01087)。
文摘
光刻是一种利用曝光、显影和刻蚀等工艺将光掩模上的图形转移到衬底材料上的工艺,是半导体器件制造工艺中的重要步骤。其中,在光刻胶层刻画图形时,主要涉及材料为光刻胶、显影液。在G线(436 nm)、I线(365 nm)光刻工艺中,光刻胶主要是酚醛树脂-重氮萘醌体系,显影液一般采用2.38 wt%的四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液;在193 nm、极紫外(EUV)光刻工艺中,光刻胶主要为含有酯基的聚合物-光致产酸剂(PAG)体系,此外由于接触的界面张力以及膨润问题,显影液中需要加入非离子表面活性剂。本文主要介绍几种先进光刻工艺中的光刻胶和显影液。
关键词
光刻工艺
光刻胶
显影液
Keywords
photolithography process
photoresist
developer
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
三合一炉常见异常现象探析
6
作者
尹
云
舰
机构
杭州电化集团股份有限公司
出处
《氯碱工业》
CAS
1999年第9期37-38,共2页
文摘
前言盐酸是氯碱行业的主要耗氯产品,合成盐酸是氯碱企业保证氯平衡的手段之一。我国70年代的合成盐酸工艺,主要为“铁合成炉合成氯化氢———吸收”;80年代后期,随着离子膜烧碱技术被国内众多厂家广泛采用,高纯酸系统作为其配套工程,“三合一炉”法合成盐酸工艺...
关键词
三合一炉
异常现象
水流泵
系统压力
回收塔
原料气
抽吸能力
尾气系统
探析
设计能力
分类号
TQ114 [化学工程—无机化工]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
3 kt/a氯化聚乙烯投产运行小结
王敏
周杰
胡万明
尹
云
舰
《氯碱工业》
CAS
2002
4
下载PDF
职称材料
2
液晶显示面板铝刻蚀废液处理研究进展
王海龙
邢攸美
李盈盈
倪
云
岚
王小眉
尹
云
舰
方伟华
《浙江化工》
CAS
2020
2
下载PDF
职称材料
3
废弃化学品处理处置标准化
弓创周
尹
云
舰
丁灵
王琪
安晓英
赵美敬
《无机盐工业》
CAS
北大核心
2017
2
下载PDF
职称材料
4
非离子型Gemini表面活性剂研究进展及其在半导体湿电子材料中的应用
倪芸岚
邢攸美
胡涛
尹
云
舰
李潇逸
张之钧
王小栋
余红刚
《天津化工》
CAS
2021
1
下载PDF
职称材料
5
先进制程用光刻胶及TMAH显影液的改进
张之钧
尹
云
舰
李潇逸
倪芸岚
邢攸美
《浙江化工》
CAS
2021
0
下载PDF
职称材料
6
三合一炉常见异常现象探析
尹
云
舰
《氯碱工业》
CAS
1999
0
下载PDF
职称材料
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