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氮气对DC-PCVD法制备金刚石薄膜影响的研究 被引量:3
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作者 侯雪 姜志刚 +3 位作者 朱品文 郑艳彬 胡双 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2011年第5期15-19,共5页
采用直流热阴极等离子体化学气相沉积方法,用甲烷、氢气、氮气的混合气体在Mo基底上成功制备了金刚石薄膜。分别采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)对不同流量氮气氛下生长金刚石薄膜的形貌、取向、质量进... 采用直流热阴极等离子体化学气相沉积方法,用甲烷、氢气、氮气的混合气体在Mo基底上成功制备了金刚石薄膜。分别采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)对不同流量氮气氛下生长金刚石薄膜的形貌、取向、质量进行了表征。结果表明:适量氮气的加入,不仅可以促进金刚石薄膜的生长速率,还可以促进金刚石(100)晶面的显现;随着氮气含量的增加,金刚石晶粒也逐渐细化,并且薄膜中非金刚石成分增加,但金刚石表面变得光滑平整。本工作有助于金刚石膜涂层领域的应用。 展开更多
关键词 化学气相沉积 金刚石薄膜 氮气
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