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离子注入Al_xGa_(1-x)As/GaAs和GaAs中的晶格损伤与相对化学
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作者 宝安 李代青 +2 位作者 任廷琦 万亚 刘明 《Chinese Journal of Chemical Physics》 CSCD 1995年第1期28-34,共7页
用卢瑟福背散射/沟道(RBS/C)技术研究了1MeVSi+注入超晶格Al0.3Ga0.7As/GaAs和晶体GaAs中引起的晶格损伤.结果表明,在5×1014-5×1016离子/cm2注入剂量范围内,Al0.... 用卢瑟福背散射/沟道(RBS/C)技术研究了1MeVSi+注入超晶格Al0.3Ga0.7As/GaAs和晶体GaAs中引起的晶格损伤.结果表明,在5×1014-5×1016离子/cm2注入剂量范围内,Al0.3Ga0.7As/GaAs中的损伤程度总小于GaAs中对应条件下的结果,但这种差异随注入剂量和衬底温度的提高而减小.室温注入造成的晶格损伤程度均较衬底加温350℃注入造成的结果更为严重.基于对模拟AlxGa(1-x)As/GaAs和GaAs的一组原子簇的分子轨道计算,用相对化学键强度为AlxGa(1-x)As/GaAs和GaAs中这种辐照损伤的程度和空间分布,提供了一种新的理解. 展开更多
关键词 晶格损伤 原子簇 分子轨道 离子注入
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Ne^+、Ar^+注入铜靶所产生的溅射原子角分布与离子入射角的关系
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作者 李岱青 宝安 +2 位作者 万亚 刘家瑞 徐天冰 《烟台师范学院学报(自然科学版)》 1992年第4期36-39,共4页
在100keV入射能量下.分别测量了Ne^-、Ar^+在铜靶上所产生的溅射原子角分布与离子入射角度的关系 实验结果表明在40°和70°斜入射条件下,Ar^+所产生的溅射原子角分布的溅射优先方向分别位于表面法线的两侧,溅射原子角分布关于... 在100keV入射能量下.分别测量了Ne^-、Ar^+在铜靶上所产生的溅射原子角分布与离子入射角度的关系 实验结果表明在40°和70°斜入射条件下,Ar^+所产生的溅射原子角分布的溅射优先方向分别位于表面法线的两侧,溅射原子角分布关于表面法线明显不对称;而Ne^+所对应的溅射优先方向都位于表面法线方向,且溅射原子角分布关于表面法线是对称的、用TRIM程序计算了Ne^+和Ar^+在铜靶中的能损和投影射程,并依据所计算的结果用级联碰撞理论分析了实验结果,比较了Ne^+和Ar^+各自溅射机制上的不同. 展开更多
关键词 溅射 离子入射角 级联碰撞
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