期刊文献+
共找到8篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
提高ZnO压敏电阻器电性能的研究 被引量:10
1
作者 郭征新 曹全喜 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期20-22,共3页
采用sol-gel法制备了复合纳米添加剂。将其与ZnO,Sb2O3混合,球磨后按传统工艺制备了ZnO压敏电阻器。通过粒度测试,分析了复合纳米添加剂的粒径大小;借SEM分析了电阻器的微观形貌,并测试了电阻器的电性能。结果表明:添加剂的粒径集中在10... 采用sol-gel法制备了复合纳米添加剂。将其与ZnO,Sb2O3混合,球磨后按传统工艺制备了ZnO压敏电阻器。通过粒度测试,分析了复合纳米添加剂的粒径大小;借SEM分析了电阻器的微观形貌,并测试了电阻器的电性能。结果表明:添加剂的粒径集中在100nm以下,用该添加剂制成的电阻器微观结构更均匀,其8/20μs通流能力达2500A,2ms方波能量耐受能力达46J。 展开更多
关键词 电子技术 电性能 SOL-GEL法 ZNO压敏电阻器 复合纳米添加剂
下载PDF
共沉淀法制备ZnO压敏电阻复合添加剂 被引量:6
2
作者 张虎 曹全喜 +1 位作者 王旭明 《电子科技》 2009年第5期78-80,83,共4页
利用化学共沉淀法制备ZnO压敏电阻器复合添加剂,讨论了新方法对ZnO压敏电阻器电学性能的影响。实验结果证明,合理的共沉淀配方,可以显著提高ZnO压敏电阻器的8/20μs通流能力以及2ms能量耐量值,并且对小电流性能也有部分提高。
关键词 压敏电阻器 共沉淀 添加剂
下载PDF
液相法制备ZnO压敏电阻的研究 被引量:1
3
作者 曹全喜 张虎 《电子科技》 2009年第6期72-74,共3页
利用化学共沉淀法和Sol-Gel法制备,ZnO压敏电阻器的部分添加剂粉料,经过成份验证后与其他添加剂和ZnO主料混合制备压敏元件。元件在烧结后,经过热处理和电老练,其性能较传统的固相球磨制备元件提高很多。液相法制备压敏元件,元件内部晶... 利用化学共沉淀法和Sol-Gel法制备,ZnO压敏电阻器的部分添加剂粉料,经过成份验证后与其他添加剂和ZnO主料混合制备压敏元件。元件在烧结后,经过热处理和电老练,其性能较传统的固相球磨制备元件提高很多。液相法制备压敏元件,元件内部晶粒大小分布均匀、气孔率低,而经过电老练,气孔再一次减少,因此得到了高性能的ZnO压敏元件。 展开更多
关键词 ZNO压敏电阻器 化学共沉淀法 SOL-GEL法 电老练 气孔率
下载PDF
氮化镓基PIN紫外探测器芯片研究 被引量:2
4
作者 李建婷 《电子测试》 2019年第11期63-64,共2页
通过对氮化镓基PIN紫外探测器不同外延结构及芯片制备工艺的研究,发现探测器性能和外延层结晶质量及芯片制备工艺有很大的关系。采用ITO扩展电极制备的探测器反向漏电很大,暗电流高,采用Ni/Au半透明电极制备的探测器芯片,光电流相对ITO... 通过对氮化镓基PIN紫外探测器不同外延结构及芯片制备工艺的研究,发现探测器性能和外延层结晶质量及芯片制备工艺有很大的关系。采用ITO扩展电极制备的探测器反向漏电很大,暗电流高,采用Ni/Au半透明电极制备的探测器芯片,光电流相对ITO透明电极有一定程度的降低,但能保证较低的暗电流,防止器件漏电。 展开更多
关键词 探测器 紫外 NI/AU ITO
下载PDF
p-AlGaN/GaN超晶格做p型层350nm紫外AlGaN基LED
5
作者 王丹丹 丁娟 +1 位作者 《电子科技》 2015年第3期136-138,共3页
使用p-Al Ga N/p-Ga N SPSLs作为LED的p型层,在蓝宝石衬底上生长出发光波长为350 nm的Al Ga N基紫外LED。由于Al Ga N/Ga N超晶格的极化效应,使得Mg受主的电离能降低,大幅提高了器件的光学和电学性能。在工作电流为350 m A下发光亮度达... 使用p-Al Ga N/p-Ga N SPSLs作为LED的p型层,在蓝宝石衬底上生长出发光波长为350 nm的Al Ga N基紫外LED。由于Al Ga N/Ga N超晶格的极化效应,使得Mg受主的电离能降低,大幅提高了器件的光学和电学性能。在工作电流为350 m A下发光亮度达到了22.66 m W,相应的工作电压为3.75 V,LEDs的光功率满足了实际应用需求。 展开更多
关键词 AlGaN/GaN超晶格 I-V特性
下载PDF
GaN基外延结构中EBL层生长工艺对发光效率的影响
6
作者 李建婷 刘大为 《电子测试》 2019年第12期45-46,7,共3页
根据量子限域电子溢出理论及极化场引起的能带弯曲理论,我们采用不同工艺的EBL层结构,通过控制Al组分分布,在不影响P-GaN层空穴的注入的情况下,提升电子限制能力,提升芯片的发光效率。
关键词 电子溢出 EBL层 电子限制能力 能带弯曲 Al组分渐变
下载PDF
电子阻挡层对UV LED芯片老化后反向漏电的影响
7
作者 王晓东 +2 位作者 闫建昌 曾一平 李晋闽 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第2期139-143,157,共6页
着重对紫外(UV)LED芯片的反向漏电进行研究,使用高Al组分的AlGaN材料作为LED外延结构中的电子阻挡层(EBL),旨在解决UV LED芯片在老化后的漏电问题。结果表明,高Al组分的AlGaN EBL凭借其足够高的势垒高度,可以有效降低电子泄漏水平,从而... 着重对紫外(UV)LED芯片的反向漏电进行研究,使用高Al组分的AlGaN材料作为LED外延结构中的电子阻挡层(EBL),旨在解决UV LED芯片在老化后的漏电问题。结果表明,高Al组分的AlGaN EBL凭借其足够高的势垒高度,可以有效降低电子泄漏水平,从而改善UV LED芯片在老化后的反向漏电问题。选取365~415 nm波段、量子阱禁带宽度为3.0~3.4 eV的外延片为研究对象,研究了EBL工艺对老化后芯片漏电性能的影响,得到AlGaN EBL的最佳Al组分为30%~40%,对应禁带宽度为4.0~4.3 eV。使用该方法制作的UV LED芯片在经过长时间老化后,其漏电流可以保持在1 nA以下,综合性能大幅提升。 展开更多
关键词 紫外(UV)LED 电子泄漏 电子阻挡层(EBL) 反向漏电 老化
下载PDF
LED外延结构中渐变式Al组分的电子限制层
8
作者 杨路华 《电子技术与软件工程》 2017年第12期119-119,共1页
根据外延结构应力导致的极化引起的能带弯曲理论,采用渐变式Al组分的电子限制层(EBL层),可有效提升电子限制能力,同时降低了该层和P-GaN层之间的晶格失配,提高了P-GaN层的外延质量,得到了发光效率更高的GaN基LED外延片。
关键词 LED外延 电子限制层 能带弯曲 渐变式Al组分
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部