期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到3篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
职业体育比赛贿赂行为刑法规制及主体身份认定
1
作者 姚文泽 《湖北体育科技》 2024年第4期92-98,共7页
职业体育比赛领域的贿赂行为由上游贿赂行为、中游谋利行为、下游非法利益所组成,存在贿赂罪、操纵比赛罪、诈骗罪3种规制模式。虽然操纵比赛罪模式得到越来越多国家的认可,但因其存在难以克服的固有缺陷,继续坚持贿赂犯罪规制模式是更... 职业体育比赛领域的贿赂行为由上游贿赂行为、中游谋利行为、下游非法利益所组成,存在贿赂罪、操纵比赛罪、诈骗罪3种规制模式。虽然操纵比赛罪模式得到越来越多国家的认可,但因其存在难以克服的固有缺陷,继续坚持贿赂犯罪规制模式是更为可行的道路。认定职业体育比赛中国家工作人员应明确国家相关性与国家代表性系“从事公务”的核心特征,同时结合个罪所保护的法益进行个别化判断。在以足球为代表的职业体育比赛中,体育协会官员,国有俱乐部管理人员,国家队教练员属国家工作人员,国有俱乐部一般工作人员,非国有俱乐部工作人员,俱乐部运动员与教练员,国家队运动员属非国家工作人员。 展开更多
关键词 职业体育比赛 操纵比赛罪 贿赂犯罪 国家工作人员
下载PDF
液晶显示行业背光源模组的电子材料设计与优化
2
作者 毕亚一 孙盛林 +2 位作者 姚文泽 刘俊国 马超 《电子产品世界》 2024年第3期39-43,共5页
全面研究了液晶显示行业背光源模组的电子材料设计与优化,探讨了背光源模组的基本原理及类型、电子材料的基本属性和分类,分析了当前背光源模组设计存在的问题和挑战,总结了影响背光源模组效率的关键因素。基于此,从材料设计、结构设计... 全面研究了液晶显示行业背光源模组的电子材料设计与优化,探讨了背光源模组的基本原理及类型、电子材料的基本属性和分类,分析了当前背光源模组设计存在的问题和挑战,总结了影响背光源模组效率的关键因素。基于此,从材料设计、结构设计和制程3个方面提出优化策略,并对优化策略的实际应用进行了评估,为背光源模组设计优化提供了理论依据和实践指导,具有较高实用性和研究前景。 展开更多
关键词 液晶显示 背光源模组 电子材料 设计优化
下载PDF
电子束光刻“自主可控”EDA软件HNU-EBL
3
作者 姚文泽 徐宏成 +5 位作者 赵浩杰 刘薇 侯程阳 陈艺勤 段辉高 刘杰 《湖南大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第10期183-191,共9页
为模拟和优化电子束光刻(Electron Beam Lithography,EBL)工艺过程,提高电子束光刻版图加工质量,依托湖南大学(Hunan University,HNU)开发了一套电子束光刻的“自主可控”国产电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)软件HNU-... 为模拟和优化电子束光刻(Electron Beam Lithography,EBL)工艺过程,提高电子束光刻版图加工质量,依托湖南大学(Hunan University,HNU)开发了一套电子束光刻的“自主可控”国产电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)软件HNU-EBL.该软件实现了以下主要功能:1)基于Monte Carlo方法计算电子束在光刻胶和衬底中的散射过程与运动轨迹;2)基于多高斯加指数函数模型计算拟合出电子束散射的点扩散函数;3)基于GDSII光刻版图文件矩阵化,进行邻近效应、雾效应等校正计算,优化电子束曝光剂量;4)基于卷积计算,计算出给定曝光剂量下的能量沉积密度,并计算出边缘放置误差等光刻加工质量关键指标.基于该软件,通过异或门(Exclusive OR,XOR)集成电路的光刻版图算例,计算在聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,PMMA)光刻胶和硅衬底中10 kV电子束的光刻工艺过程.通过对比电子束邻近效应校正前后的显影版图,验证了该软件的有效性.在完全相同的计算硬件和算例条件下,与主流同类进口EDA软件进行了对比,证实了在同等精度下,本软件具有更高的计算效率.已建立http://www.ebeam.com.cn网站,将HNU-EBL软件免费授权给EBL用户使用. 展开更多
关键词 电子束光刻 计算光刻 Monte Carlo方法 邻近效应校正 EDA软件
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部