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利用PCB碱性蚀刻废液制备高纯度纳米铜粉 被引量：5
1
作者 罗小虎 陈世荣 +4 位作者 杨琼 汪浩 谢金平 吴耀程 梁韵锐 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期38-42,共5页
采用液相化学还原法从碱性蚀刻废液中制备高纯度的纳米铜粉,以回收碱性蚀刻废液中的铜。研究了还原剂种类和用量、反应温度和反应时间对纳米铜粉形貌、粒度和分散性的影响。结果表明,制备纳米铜粉的最佳还原剂为水合肼,最优工艺条件为:P... 采用液相化学还原法从碱性蚀刻废液中制备高纯度的纳米铜粉,以回收碱性蚀刻废液中的铜。研究了还原剂种类和用量、反应温度和反应时间对纳米铜粉形貌、粒度和分散性的影响。结果表明,制备纳米铜粉的最佳还原剂为水合肼,最优工艺条件为:PVP(聚乙烯吡咯烷酮)0.003g/L,CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)0.002g/L,n(N2H4.H2O):n{[Cu(NH3)4]2+}=1:3,反应温度70°C,反应时间30min。采用最优工艺可制得球状、粒径在100nm范围内、纯度高、抗氧化性好的纳米铜,对碱性蚀刻废液中铜的回收率在98%以上。 展开更多
关键词 碱性蚀刻液 回收 纳米铜 化学还原 水合肼
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利用PCB碱性蚀刻废液制备纳米铜导电胶 被引量：4
2
作者 罗小虎 陈世荣 +4 位作者 张玉婷 汪浩 谢金平 吴耀程 梁韵锐 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2013年第8期33-37,共5页
以碱性蚀刻废液为原料,采用液相还原法制备了纳米铜粉,将制备的纳米铜粉作为导电填充料添加到环氧树脂中制备出纳米铜导电胶。研究了纳米二氧化硅、硅烷偶联剂KH570和纳米铜粉的添加量对导电胶剪切强度以及纳米铜粉添加量对导电胶体积... 以碱性蚀刻废液为原料,采用液相还原法制备了纳米铜粉,将制备的纳米铜粉作为导电填充料添加到环氧树脂中制备出纳米铜导电胶。研究了纳米二氧化硅、硅烷偶联剂KH570和纳米铜粉的添加量对导电胶剪切强度以及纳米铜粉添加量对导电胶体积电阻率的影响,探讨了环氧树脂与固化剂聚酰胺适宜的反应时间。实验结果表明,所制备的铜粉为球状,粒径在40～100nm之间;当环氧树脂与固化剂聚酰胺树脂650的质量比为4∶1,纳米二氧化硅、硅烷偶联剂和纳米铜粉的加入量分别占环氧树脂–聚酰胺树脂体系质量的1.5%、4.0%和70%时,在90°C下固化1.0h,可以制备出体积电阻率为3.05×10-3Ω·cm、剪切强度达8.04MPa的导电胶。 展开更多
关键词 碱性蚀刻废液 纳米铜粉 导电胶 环氧 聚酰胺
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纳米铜粉的制备——从PCB碱性蚀刻废液回收方法研究 被引量：2
3
作者 罗小虎 陈世荣 +3 位作者 杨琼 谢金平 吴耀程 梁韵锐 《印制电路信息》 2013年第5期128-130,共3页
利用碱性蚀刻废液通过化学还原的方法制备纳米铜粉。在碱性条件下用NaBH4作还原剂;表面分散剂和保护剂用聚乙烯比咯烷酮(PVP)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB);研究结果表明,用碱性蚀刻废液制备纳米铜最佳的条件为:反应温度60℃,反应时间60... 利用碱性蚀刻废液通过化学还原的方法制备纳米铜粉。在碱性条件下用NaBH4作还原剂;表面分散剂和保护剂用聚乙烯比咯烷酮(PVP)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB);研究结果表明,用碱性蚀刻废液制备纳米铜最佳的条件为:反应温度60℃,反应时间60 min,PVP与CTAB的用量为1:5,制备出来的纳米铜粉为单质铜,颗粒粒径在100nm以内。 展开更多
关键词 印制电路板 碱性蚀刻液 纳米铜粉
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空心薄壁高墩施工技术 被引量：1
4
作者 吴耀程 《科技信息》 2011年第13期347-347,385,共2页
文章结合重庆桐子坪1号大桥的施工实践介绍了采用塔吊翻模进行薄壁空心高墩施工的施工技术,可供同类工程施工作为参考。
关键词 大桥 空心薄壁高墩 施工技术 外观质量
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