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真空紫外辐照对Lumogen薄膜损伤及光学性能的影响
被引量:
2
1
作者
顾页妮
钱晓晨
+1 位作者
吕
燕
磊
陶春先
《光学仪器》
2021年第1期82-87,共6页
为研究Lumogen(C_(22)H_(16)N_(2)O_(6))薄膜在真空紫外波段的光致发光特性及辐照损伤,采用热阻蒸发法,以氟化镁为基底制备Lumogen薄膜。使用真空紫外荧光光谱仪、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外−可见分光光度计等仪器...
为研究Lumogen(C_(22)H_(16)N_(2)O_(6))薄膜在真空紫外波段的光致发光特性及辐照损伤,采用热阻蒸发法,以氟化镁为基底制备Lumogen薄膜。使用真空紫外荧光光谱仪、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外−可见分光光度计等仪器分别对薄膜的光致发光特性、荧光强度衰减变化、表面形貌、透过率等进行测试与表征。实验结果表明,真空紫外波段的最佳激发波长为160 nm;发射峰宽为500~620 nm,峰值位置是在528 nm处;在160 nm激发波长持续辐照20 h后,发射峰位置的荧光强度由快及慢地从8.76衰减为0.83,整体下降了90.5%;薄膜表面的均方根粗糙度从10.96 nm增加到14.96 nm;160 nm真空紫外光的高光子能量使Lumogen分子中的荧光助色团-OH断裂,薄膜表面受损,造成不可逆的破坏;被真空紫外光持续辐照后的Lumogen薄膜在250~450 nm波段内的透过率下降了约50%。研究结果表明,Lumogen薄膜在持续高能真空紫外光辐照下,薄膜表面会造成损伤,光学性能会下降,为其在紫外探测器件及航空航天领域的应用研究提供一定参考。
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关键词
Lumogen薄膜
真空紫外辐照
荧光薄膜性能
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职称材料
题名
真空紫外辐照对Lumogen薄膜损伤及光学性能的影响
被引量:
2
1
作者
顾页妮
钱晓晨
吕
燕
磊
陶春先
机构
上海理工大学光电信息与计算机工程学院
上海理工大学光学仪器与系统教育部工程研究中心
出处
《光学仪器》
2021年第1期82-87,共6页
文摘
为研究Lumogen(C_(22)H_(16)N_(2)O_(6))薄膜在真空紫外波段的光致发光特性及辐照损伤,采用热阻蒸发法,以氟化镁为基底制备Lumogen薄膜。使用真空紫外荧光光谱仪、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外−可见分光光度计等仪器分别对薄膜的光致发光特性、荧光强度衰减变化、表面形貌、透过率等进行测试与表征。实验结果表明,真空紫外波段的最佳激发波长为160 nm;发射峰宽为500~620 nm,峰值位置是在528 nm处;在160 nm激发波长持续辐照20 h后,发射峰位置的荧光强度由快及慢地从8.76衰减为0.83,整体下降了90.5%;薄膜表面的均方根粗糙度从10.96 nm增加到14.96 nm;160 nm真空紫外光的高光子能量使Lumogen分子中的荧光助色团-OH断裂,薄膜表面受损,造成不可逆的破坏;被真空紫外光持续辐照后的Lumogen薄膜在250~450 nm波段内的透过率下降了约50%。研究结果表明,Lumogen薄膜在持续高能真空紫外光辐照下,薄膜表面会造成损伤,光学性能会下降,为其在紫外探测器件及航空航天领域的应用研究提供一定参考。
关键词
Lumogen薄膜
真空紫外辐照
荧光薄膜性能
Keywords
Lumogen thin film
vacuum UV radiation
properties of fluorescent thin film
分类号
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
真空紫外辐照对Lumogen薄膜损伤及光学性能的影响
顾页妮
钱晓晨
吕
燕
磊
陶春先
《光学仪器》
2021
2
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