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提拉法单晶炉室与抽真空充气系统 被引量:1
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作者 高利强 《真空》 CAS 北大核心 2007年第5期52-54,共3页
炉室是单晶炉的中心环节,内置坩埚、晶体材料、加热系统和保温罩等。直拉法是在半导体领域中应用最广,产量最大的单晶制备方法。本文以提拉法单晶炉为例先介绍不同于其它设备的各种炉室结构、形状及原因,指出有关的附属结构。然后根据... 炉室是单晶炉的中心环节,内置坩埚、晶体材料、加热系统和保温罩等。直拉法是在半导体领域中应用最广,产量最大的单晶制备方法。本文以提拉法单晶炉为例先介绍不同于其它设备的各种炉室结构、形状及原因,指出有关的附属结构。然后根据压力的不同对炉室进行了分类。最后详细论述了抽真空充气系统的综合方法及工作原理。 展开更多
关键词 单晶炉 直拉法 炉室 真空与充气系统
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双段式加热锗单晶生长设备的结构设计
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作者 高利强 《电子工业专用设备》 2008年第2期11-14,共4页
锗单晶和锗单晶片是重要的半导体材料,锗单晶的生长广泛采用的是CZ(直拉)法,其主要结构包括底座及立柱装置、下传动装置、主炉室、插板阀、副炉室、籽晶提升旋转机构、液压驱动装置、真空系统、充气系统及水冷系统等。
关键词 锗单晶 双段式加热 单晶炉
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