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超低损耗氮化硅集成光学:非线性光学和应用(特邀)
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作者 郑华敏 余鲲鹏 +12 位作者 李世昌 陈睿扬 王嘉轩 陈智阳 石宝奇 王中凯 罗弋涵 龙金宝 孙威 梁伟 鲍成英 郭海润 刘骏秋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第15期295-322,共28页
超低损耗氮化硅(Si_(3)N_(4))集成光波导技术正逐渐成为集成光学领域的核心技术,受到了广泛的研究和关注。深入探讨了氮化硅集成光学的非线性效应,详细介绍了氮化硅微环波导的基础理论,并在此基础上阐述了氮化硅集成光波导中常见的非线... 超低损耗氮化硅(Si_(3)N_(4))集成光波导技术正逐渐成为集成光学领域的核心技术,受到了广泛的研究和关注。深入探讨了氮化硅集成光学的非线性效应,详细介绍了氮化硅微环波导的基础理论,并在此基础上阐述了氮化硅集成光波导中常见的非线性光学现象。此外,综述了近期基于氮化硅集成芯片器件的非线性光学效应的研究进展及现状,以及这些现象在集成光学、非线性光学和量子光学中的关键应用。这一综合性分析旨在为氮化硅集成光学技术的进一步研究和发展提供有力的支持和指导。 展开更多
关键词 克尔非线性 Lugiato-Lefever方程 孤子光频梳 自注入锁定 微波合成
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