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SIPOS纵向结构对晶体管电压特性的影响
被引量:
2
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作者
石青宏
厉策
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王军
何
慧
强
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期37-39,共3页
通过对半绝缘多晶硅(SIPOS)膜纵向结构均匀性不同结果的对比,论述了SIPOS膜成分的纵向结构分布对晶体管的钝化作用的影响,同时根据实际生产提出一些改进SIPOS膜结构的方法。
关键词
SIPOS
纵向结构
晶体管
电压特性
半绝缘多晶硅
掺氧多晶硅
膜结构
下载PDF
职称材料
题名
SIPOS纵向结构对晶体管电压特性的影响
被引量:
2
1
作者
石青宏
厉策
王军
何
慧
强
机构
深爱半导体有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期37-39,共3页
文摘
通过对半绝缘多晶硅(SIPOS)膜纵向结构均匀性不同结果的对比,论述了SIPOS膜成分的纵向结构分布对晶体管的钝化作用的影响,同时根据实际生产提出一些改进SIPOS膜结构的方法。
关键词
SIPOS
纵向结构
晶体管
电压特性
半绝缘多晶硅
掺氧多晶硅
膜结构
Keywords
SIPOS
oxygen-doped polycrystalline-silicon
transistor
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SIPOS纵向结构对晶体管电压特性的影响
石青宏
厉策
王军
何
慧
强
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2003
2
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