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锂陶瓷γ-LiAlO_2放氚行为研究 被引量:6
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作者 杨本福 +2 位作者 曹小华 罗顺忠 赵鹏骥 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第5期441-445,共5页
采用堆外实验来研究γ-LiAlO2增殖剂的放氚行为。根据测得的γ-LiAlO2的放氚曲线,确定了748~873K范围内氚在γ-LiAlO2中的扩散系数常数D0=(1.39±0.10)×10(-9)m2·S(-1),活化能Q=(145±3)kJ·mol(-1)。
关键词 堆外实验 增殖剂 扩散系统 锂陶瓷 放氚
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混合堆产氚演示回路及其氚释放实验 被引量:6
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作者 沈文德 曹小华 +4 位作者 姜亦祥 郭高品 谈华锦 熊智明 《核动力工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第6期555-562,共8页
本文介绍了我国第一条混合堆产氚演示回路,阐述了该回路的主要组成部分,如辐照盒、固体增殖剂、分析和监控系统等.在几轮反应堆现场氚释放实验中,研究了几个关键因素(增殖剂温度、载带气体成分和流量)对释氚的影响,给出了氚在γ... 本文介绍了我国第一条混合堆产氚演示回路,阐述了该回路的主要组成部分,如辐照盒、固体增殖剂、分析和监控系统等.在几轮反应堆现场氚释放实验中,研究了几个关键因素(增殖剂温度、载带气体成分和流量)对释氚的影响,给出了氚在γ-LiAlI2增殖剂中的扩散系数,并演示了从固体增殖剂包层中连续释氚的可行性和基本特性.实验结果表明,该回路性能良好. 展开更多
关键词 回路 释放 聚变 裂变 混合堆
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Ti-V合金吸氢动力学研究 被引量:3
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作者 彭述明 +1 位作者 龙兴贵 杨本福 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第F05期247-249,共3页
介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)吸氢动力学研究方法,获得了动力学曲线、动力学方程及表观动力学参数。分析了Ti-V合金吸氢动力学的影响因素,金属氢化物动力学过程的特点及其与气-固反应动力学的区别... 介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)吸氢动力学研究方法,获得了动力学曲线、动力学方程及表观动力学参数。分析了Ti-V合金吸氢动力学的影响因素,金属氢化物动力学过程的特点及其与气-固反应动力学的区别。对反应程度进行归纳,得出Ti-V合金吸氢动力学方程的适用范围。 展开更多
关键词 Ti—V合金 动力学方程 动力学参数 氢化物
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镀膜技术对金属薄膜性能与制备氢化物薄膜的影响 被引量:3
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作者 刘锦华 梁建华 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期1114-1118,共5页
分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据,研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。脉冲激光沉积镀膜易按层与层叠加方式成膜,薄膜应力小,缺陷少,晶格尺寸... 分析了热蒸发、溅射和脉冲激光沉积三种镀膜技术镀金属薄膜的性能特点。根据文献报道数据,研究了三种镀膜技术镀金属薄膜的成膜机理、晶格参数、膜力学性能的差别。脉冲激光沉积镀膜易按层与层叠加方式成膜,薄膜应力小,缺陷少,晶格尺寸大,而热蒸发和溅射镀膜多按三维岛式生长成膜,薄膜应力较大,因应力诱发较多缺陷与位错,晶格尺寸相对要小。脉冲激光沉积粒子能量高,能够实现氢化物一步成膜,薄膜性能更佳。脉冲激光沉积技术更有利于制备聚变应用的金属氢化物薄膜。 展开更多
关键词 热蒸发沉积 溅射沉积 脉冲激光沉积 金属薄膜 氢化物薄膜
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Ti-V合金及其氢化物结构的研究 被引量:3
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作者 彭述明 +1 位作者 龙兴贵 杨本福 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第F11期451-454,共4页
介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)及其氢化物的晶体结构确定方法。通过XRD分析和理论计算,确定这3种合金为bcc结构,它们的纯β相氢化物是fcc结构,并测得了这两类结构的晶胞参数。研究发现,Ti-V合金吸氢... 介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)及其氢化物的晶体结构确定方法。通过XRD分析和理论计算,确定这3种合金为bcc结构,它们的纯β相氢化物是fcc结构,并测得了这两类结构的晶胞参数。研究发现,Ti-V合金吸氢性能比金属V有所改善,H原子数与合金原子数之和的比大于1.0才能发生α相氢化物向β相氢化物的转变。 展开更多
关键词 Ti—V合金 晶体结构 XRD分析 氢化物
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Ti-V合金吸氢性能研究 被引量:2
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作者 彭述明 +4 位作者 张涛 黄海禹 龙兴贵 杨本福 《核化学与放射化学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期141-146,共6页
介绍了Ti0.76V0.24和Ti0.51V0.49两种合金及其氢化物的结构确定方法。研究了它们的吸氢性能,测得了吸氢的P C T曲线。该曲线分成两个主要区段:当H原子数与Ti V原子数之和的比值小于1 0时,为氢气的固溶区,并近似遵从Sievert(希乌尔)定律... 介绍了Ti0.76V0.24和Ti0.51V0.49两种合金及其氢化物的结构确定方法。研究了它们的吸氢性能,测得了吸氢的P C T曲线。该曲线分成两个主要区段:当H原子数与Ti V原子数之和的比值小于1 0时,为氢气的固溶区,并近似遵从Sievert(希乌尔)定律;当该比值大于1 0后,有的曲线出现吸氢坪台区。分别计算了在固溶区和坪台区吸氢的热力学参数。 展开更多
关键词 钛-钒合金 吸氢性能 氢化物 希乌尔定律 热力学参数 固溶区 坪台区 贮氢材料
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脉冲激光镀膜技术在氢化物薄膜制备中的应用
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作者 梁建华 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2012年第1期126-128,140,共4页
分析了脉冲激光沉积(PLD)镀金属薄膜的性能特点。PLD镀膜技术可望实现金属氢化与氢化物一步成膜,且薄膜应力小、缺陷少、晶格尺寸大,能够消除传统方法制备的金属薄膜在氢化过程中因膨胀而引起的膜性能降低,增强薄膜与基体的粘附能力、... 分析了脉冲激光沉积(PLD)镀金属薄膜的性能特点。PLD镀膜技术可望实现金属氢化与氢化物一步成膜,且薄膜应力小、缺陷少、晶格尺寸大,能够消除传统方法制备的金属薄膜在氢化过程中因膨胀而引起的膜性能降低,增强薄膜与基体的粘附能力、薄膜的稳定性与固氦能力。PLD技术在氢化物薄膜研制中具有一定的技术优势,有望成为研制氢化物薄膜的重要技术手段。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 氢化物 薄膜 应力
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300^#堆在线产氚回路及其应用 被引量:1
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作者 沈文德 曹小华 +4 位作者 姜亦祥 谈华锦 熊智明 钱达志 《核物理动态》 CSCD 1995年第4期90-92,共3页
本文介绍了300^#堆在线产氚回路的组成及其主要指标、回路运行和释氚实验概况、阐明了在线产氚回路在聚变裂交混合堆包层产氚研究中的应用和前景。
关键词 反应堆 聚变裂变混合堆 在线产氚回路 释氚
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Characterization of zirconium thin films deposited by pulsed laser deposition
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作者 刘伟 +3 位作者 蔡吴鹏 梁建华 周晓松 龙兴贵 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第9期496-501,共6页
Zirconium (Zr) thin films deposited on Si (100) by pulsed laser deposition (PLD) at different pulse repetition rates are investigated. The deposited Zr films exhibit a polycrystalline structure, and the X-ray di... Zirconium (Zr) thin films deposited on Si (100) by pulsed laser deposition (PLD) at different pulse repetition rates are investigated. The deposited Zr films exhibit a polycrystalline structure, and the X-ray diffraction (XRD) patterns of the films show the α Zr phase. Due to the morphology variation of the target and the laser-plasma interaction, the deposition rate significantly decreases from 0.0431 A/pulse at 2 Hz to 0.0189A/pulse at 20 Hz. The presence of droplets on the surface of the deposited film, which is one of the main disadvantages of the PLD, is observed at various pulse repetition rates. Statistical results show that the dimension and the density of the droplets increase with an increasing pulse repetition rate. We find that the source of droplets is the liquid layer formed under the target surface. The dense nanoparticles covered on the film surface are observed through atomic force microscopy (AFM). The root mean square (RMS) roughness caused by valleys and islands on the film surface initially increases and then decreases with the increasing pulse repetition rate. The results of our investigation will be useful to optimize the synthesis conditions of the Zr films. 展开更多
关键词 laser processing Zr thin film DROPLET pulse repetition rate
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