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纳他霉素对芒果采后胶孢炭疽菌的抑菌效果及机理 被引量：13
1
作者 刘佳怡 王嘉欣 +4 位作者 宋海超 张正科 徐祥彬 吉训聪 史学群 《植物学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第4期455-463,共9页
以纳他霉素为抑菌剂,实验测定了离体条件下不同浓度纳他霉素对胶孢炭疽菌(Colletotrichumgloeosporioides)的孢子萌发及菌丝生长的抑制效果,以及活体损伤接种炭疽病菌后,纳他霉素对芒果(Mangiferaindica)果实炭疽病的防治效果。通过测... 以纳他霉素为抑菌剂,实验测定了离体条件下不同浓度纳他霉素对胶孢炭疽菌(Colletotrichumgloeosporioides)的孢子萌发及菌丝生长的抑制效果,以及活体损伤接种炭疽病菌后,纳他霉素对芒果(Mangiferaindica)果实炭疽病的防治效果。通过测定纳他霉素处理后胶孢炭疽菌的细胞膜相对渗透率、可溶性蛋白含量、细胞膜完整性、孢子内活性氧水平和线粒体分布情况,初步探明其抑菌机理。结果表明, 3 mg·L–1纳他霉素可显著抑制胶孢炭疽菌孢子萌发、芽管伸长和菌落生长,80 mg·L–1纳他霉素可有效抑制芒果贮存过程中果实炭疽病斑的扩展。纳他霉素处理后胶孢炭疽菌细胞膜相对渗透率和可溶性蛋白含量增加;2mg·L–1纳他霉素处理8小时,处理组胶孢炭疽菌孢子细胞膜损伤染色率为33.6%,对照组染色率为13.9%;处理组胞内活性氧产生染色率达46.9%,比对照组高39.7%;同时观察到纳他霉素使胞内线粒体分布不均且荧光信号微弱。以上结果表明,纳他霉素可以破坏胶孢炭疽病菌细胞膜,诱导活性氧大量积累,并降低线粒体活性,从而干扰菌体正常生理活性,使其代谢活动受影响,从而达到抑菌目的。 展开更多
关键词 纳他霉素 芒果 胶孢炭疽病菌 抑菌机理
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芒果胶孢炭疽病菌应答菌丝机械损伤产生无性孢子的分子机制 被引量：1
2
作者 王丽妍 卢梦瑶 +5 位作者 童悦 徐祥斌 张正科 孟兰环 史学群 宋海超 《植物学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第5期551-563,共13页
胶孢炭疽菌(Colletotrichum gloeosporioides)是引发芒果(Mangifera indica)炭疽病的主要病原体。室内平板培养胶孢炭疽菌不产生或产生很少分生孢子的情况时有发生,但菌丝在机械损伤后24–48小时会产生大量分生孢子。胶孢炭疽菌应答机... 胶孢炭疽菌(Colletotrichum gloeosporioides)是引发芒果(Mangifera indica)炭疽病的主要病原体。室内平板培养胶孢炭疽菌不产生或产生很少分生孢子的情况时有发生,但菌丝在机械损伤后24–48小时会产生大量分生孢子。胶孢炭疽菌应答机械损伤诱导产孢的核心基因及关键代谢通路尚未见报道。基于转录组测序(RNA-seq)技术检测了芒果胶孢炭疽菌菌丝在机械损伤处理后2小时内5个时间点的基因表达变化,对差异表达基因进行GO富集和KEGG代谢通路富集分析,并对菌丝响应胁迫的基因动态表达数据进行分析。基于常微分方程ODE模型结合变量选择技术,构建了动态基因调控网络。结果表明,有417个差异表达基因参与应答胶孢炭疽菌菌丝机械损伤,分属12个聚类模块,有4条通路存在显著富集,分别是丙酮酸代谢、硫代谢、黄曲霉素合成途径和二萜合成途径。结合功能注释筛选出12个应答菌丝损伤胁迫的核心基因。研究结果为后续深入开展芒果胶孢炭疽菌产孢和致病机理研究奠定了重要基础。 展开更多
关键词 芒果 胶孢炭疽菌 损伤胁迫 RNA-SEQ 动态表达
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颜料粉末的高光谱成像无损表征技术 被引量：3
3
作者 毛政科 张文元 +1 位作者 于宗仁 刘绍军 《粉末冶金材料科学与工程》 北大核心 2017年第3期429-434,共6页
通过高光谱无损表征技术在壁画颜料粉末鉴定中的应用效果评估,为高光谱颜料粉末数据库的建立打下基础。对壁画中常见的蓝铜矿和孔雀石颜料粉末进行XRD成分检测,并将颜料粉置于30 mm×20 mm×A mm的凹槽中,其中A分别为0.2,0.4,0.... 通过高光谱无损表征技术在壁画颜料粉末鉴定中的应用效果评估,为高光谱颜料粉末数据库的建立打下基础。对壁画中常见的蓝铜矿和孔雀石颜料粉末进行XRD成分检测,并将颜料粉置于30 mm×20 mm×A mm的凹槽中,其中A分别为0.2,0.4,0.6,0.8,1.0,1.2,1.4,1.6 mm。用高光谱成像仪得到不同粉层厚度的蓝铜矿和孔雀石的光谱反射率。进一步将颜料筛分为0~50μm,50~74μm,74~100μm和100~150μm四种粒度范围,在相同测量条件下进行高光谱成像。在此基础上,建立小型的壁画颜料粉末高光谱数据库并开展壁画颜料的鉴定工作。结果表明:在0.2~1.6 mm厚度范围内,不同厚度的同种颜料,其光谱反射率变化幅度在2%以内,且光谱反射率的曲线形状与关键光谱信息几乎没有变化。随颜料粉末粒度减小,在400~600 nm和800~1 000 nm范围内的蓝铜矿,与在400~700 nm和900~1 000 nm范围内的孔雀石,其光谱反射率增大,但光谱反射率曲线的形状等没有显著变化。高光谱能够准确鉴定出壁画中所用颜料的成分。颜料层的厚度和粒度对颜料反射率光谱曲线的影响不大,粒度在一定波段内会造成颜料的光谱反射率增大,但不影响光谱曲线形状等关键信息,即在0~150μm范围内的颜料均可用于标准数据库的建立。 展开更多
关键词 高光谱成像 无损表征 壁画 粒度 厚度 光谱反射率
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