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ICP刻蚀技术及其在光电子器件制作中的应用 被引量：32
1
作者 樊中朝 余金中 陈少武 《微细加工技术》 2003年第2期21-28,共8页
简单介绍了ICP(inductivelycoupledplasma)刻蚀设备的结构和刻蚀机理,报道了ICP刻蚀硅、二氧化硅和Ⅲ-Ⅴ族材料的一些最新进展,重点介绍ICP刻蚀技术在光电子器件制作方面的进展和应用前景。
关键词 ICP 刻蚀 光电子器件 电感耦合等离子体 应用
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二维纳米材料MXene的研究进展 被引量：38
2
作者 郑伟 孙正明 +3 位作者 张培根 田无边 王英 张亚梅 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第9期1-14,共14页
MXene是一类新型碳/氮化物二维纳米层状材料,一般是利用化学刻蚀的手段通过选择性刻蚀掉前驱体MAX相中的A原子层而得到。其通式可表示为M_(n+1)X_nT_x,其中M代表早期过渡族金属,X代表碳和/或氮,T_x代表MXene在刻蚀过程中产生的附着在其... MXene是一类新型碳/氮化物二维纳米层状材料,一般是利用化学刻蚀的手段通过选择性刻蚀掉前驱体MAX相中的A原子层而得到。其通式可表示为M_(n+1)X_nT_x,其中M代表早期过渡族金属,X代表碳和/或氮,T_x代表MXene在刻蚀过程中产生的附着在其表面的官能团(-OH、-F、=O、等)。采用一定的手段将多层MXene剥落,可获得类石墨烯形貌的单层MXene。MXene除了具备传统二维材料的性能外,还兼具良好的导电性、亲水性、透光性、柔韧性以及能量储存性能,在复合材料、润滑剂、环境污染治理、电池、电容器、催化、传感器、抗菌等领域具有潜在的应用价值。文章总结了MXene的制备、结构、性能和应用等方面的最新成果,并展望了其今后的研究方向。 展开更多
关键词 MAX相 MXene 二维材料 刻蚀 制备 应用
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超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术 被引量：32
3
作者 穆启道 《化学试剂》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期142-145,共4页
对国内外微电子技术配套专用超净高纯试剂进行了评述
关键词 超净高纯试剂 应用 制备 湿法清洗 半导体 刻蚀
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等离子体刻蚀工艺的物理基础 被引量：19
4
作者 戴忠玲 毛明 王友年 《物理》 CAS 北大核心 2006年第8期693-698,共6页
介绍了等离子体刻蚀工艺背景以及有关等离子体刻蚀机理的研究进展,综述了等离子体刻蚀机理的研究方法,着重阐述了电容耦合放电和电感耦合放电等离子体物理特性,特别是双频电容耦合放电等离子体和等离子体鞘层研究中的关键问题.
关键词 等离子体 刻蚀 电容耦合放电 电感耦合放电 双频 鞘层
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一种新型光纤光栅温度传感特性的实验研究 被引量：25
5
作者 杨秀峰 张春雨 +2 位作者 童峥嵘 曹晔 杨寅飞 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期141-144,共4页
研制出一种具有微结构缺陷的新型光纤光栅,并对其温度特性进行了实验研究。该光栅是利用不同浓度的氢氟酸溶液对光纤布拉格光栅进行选择性刻蚀得到的,刻蚀区域改变了光纤的局部有效折射率,引入附加相移从而形成两个谐振峰。实验研究结... 研制出一种具有微结构缺陷的新型光纤光栅,并对其温度特性进行了实验研究。该光栅是利用不同浓度的氢氟酸溶液对光纤布拉格光栅进行选择性刻蚀得到的,刻蚀区域改变了光纤的局部有效折射率,引入附加相移从而形成两个谐振峰。实验研究结果表明该新型光栅具有不同的温度灵敏系数,在20℃-90℃的温度范围内,随温度升高两谐振峰波长分别向长波方向移动了0.8127 nm和0.7329 nm,其温度灵敏系数分别为0.01161 nm/℃和0.01047 nm/℃,线性拟合度分别为0.991和0.998,新型光纤光栅两谐振峰随温度的变化呈现良好的线性关系。 展开更多
关键词 光纤光学 新型光纤光栅 双参量 刻蚀 温度
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二元光学元件的制作技术与进展 被引量：10
6
作者 张羽 杨坤涛 杨长城 《光学仪器》 2005年第2期80-85,共6页
综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法。分析了这些方法的优缺点,并对其制作技术的发展进行了评述。
关键词 二元光学 制作工艺 刻蚀 直写法
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飞秒激光加工最新研究进展 被引量：23
7
作者 肖荣诗 张寰臻 黄婷 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第17期176-186,共11页
飞秒激光作为一种先进的加工技术,以其"冷加工"、多光子非线性效应、突破衍射极限等特质可实现对任意材料由微纳到宏观尺度复杂三维零件的精密加工,在微纳和精密机械、微纳电子、微纳光学、表面工程、生物医学等领域展露了巨... 飞秒激光作为一种先进的加工技术,以其"冷加工"、多光子非线性效应、突破衍射极限等特质可实现对任意材料由微纳到宏观尺度复杂三维零件的精密加工,在微纳和精密机械、微纳电子、微纳光学、表面工程、生物医学等领域展露了巨大的市场应用前景。文章重点针对近三年来飞秒激光刻蚀、切割、制孔、功能表面制备、体内加工和聚合加工的研究进展进行综述,并探讨了飞秒激光在与材料相互作用机制、加工精度、加工方式、加工对象等方面面临的机遇和挑战。 展开更多
关键词 飞秒激光 精密加工 刻蚀 功能表面 双光子吸收
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耐高温复合材料用玻璃纤维表面处理研究(1)——酸碱刻蚀处理的研究 被引量：15
8
作者 孙文强 曾辉 +1 位作者 牛兰刚 顾有伟 《玻璃钢／复合材料》 CAS CSCD 2000年第1期33-35,共3页
本文通过SEM、动态毛吸法等研究了经酸碱刻蚀的玻纤及其表面 ,对其结果进行了讨论。结果表明 :稀盐酸和H2 SO4能够刻蚀掉玻纤表面的部分碱金属氧化物 ,使玻璃纤维的浸润性得到比较大的改善。
关键词 玻璃纤维 表面处理 刻蚀 酸碱刻蚀 耐高温
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二维光子晶体波导研究进展 被引量：21
9
作者 章亮 张巍 +2 位作者 聂秋华 戴世勋 陈昱 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2013年第3期59-68,共10页
二维光子晶体波导具有特殊的光子能带结构、可控色散、极小的几何尺寸和极强的非线性特性,近年来在非线性光学、光学逻辑门、全光缓存、光功率分束器、光子晶体激光器以及高灵敏度传感器等领域引起了广泛的关注。介绍了二维光子晶体波... 二维光子晶体波导具有特殊的光子能带结构、可控色散、极小的几何尺寸和极强的非线性特性,近年来在非线性光学、光学逻辑门、全光缓存、光功率分束器、光子晶体激光器以及高灵敏度传感器等领域引起了广泛的关注。介绍了二维光子晶体波导的制备方法,总结了其传输损耗、多模耦合的自成像效应和慢光效应等方面的研究进展,并特别提到基于硫系玻璃这一特殊基质的二维光子晶体波导,最后展望了二维光子晶体波导的发展前景。 展开更多
关键词 集成光学 光子晶体波导 光子带隙 刻蚀 硫系玻璃
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低能离子束刻蚀番茄果皮的α透射能谱研究 被引量：15
10
作者 卞坡 霍裕平 +5 位作者 秦广雍 赵维娟 余增亮 王相勤 詹福如 余立祥 《生物物理学报》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期551-555,共5页
用２０ｋｅＶ 的Ａｒ＋ 、Ｎ＋ 离子分别以（５００ － ２５００） ×２ ．６ ×１０１３ｉｏｎｓ／ｃｍ ２ 、（５００ － ４０００） ×２ ．６ ×１０１ ３ｉｏｎｓ／ｃｍ ２ 的剂量对番茄果皮进行刻蚀，刻蚀前后的... 用２０ｋｅＶ 的Ａｒ＋ 、Ｎ＋ 离子分别以（５００ － ２５００） ×２ ．６ ×１０１３ｉｏｎｓ／ｃｍ ２ 、（５００ － ４０００） ×２ ．６ ×１０１ ３ｉｏｎｓ／ｃｍ ２ 的剂量对番茄果皮进行刻蚀，刻蚀前后的样品厚度用α透射能谱进行测量，借助Ｔｒｉｍ９７ 计算程序对刻蚀厚度进行标定。结果表明： 刻蚀厚度同剂量的关系曲线呈增、减、增的变化趋势。对质量数不同的Ｎ＋ 、Ａｒ ＋ 离子，其刻蚀厚度和增、减、增的剂量范围不同。Ａｒ ＋ 离子刻蚀番茄果皮的计算结果表明刻蚀深度超过５０μｍ 。 展开更多
关键词 低能离子 α透射能谱 刻蚀 基因工程
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废旧光伏组件回收技术研究进展 被引量：20
11
作者 周哲 孙凯文 +2 位作者 蒋良兴 贾明 刘芳洋 《中南大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期3279-3288,共10页
近年来,全球光伏产业不断扩大,光伏装机量也逐渐提升。在光伏能源产业市场中,基于晶硅太阳电池的光伏组件目前处于主导地位,该类组件中含有大量的有价元素(铝、硅、银、铜和锡等),并且含有少量铅,将其丢弃和填埋会造成一定的资源浪费和... 近年来,全球光伏产业不断扩大,光伏装机量也逐渐提升。在光伏能源产业市场中,基于晶硅太阳电池的光伏组件目前处于主导地位,该类组件中含有大量的有价元素(铝、硅、银、铜和锡等),并且含有少量铅,将其丢弃和填埋会造成一定的资源浪费和环境污染。本文通过对国内外相关文献进行分析,总结物理法和化学法两大主要组件回收方法。从组件的拆解、封装层的去除、有价元素的浸出和表面减反层的刻蚀技术4个方面分析现有回收技术存在的问题,对比不同回收方法所得产物回收率、产物价值和实际应用的可能性,为今后废旧光伏组件回收技术的发展提供参考和建议。 展开更多
关键词 光伏组件 回收 EVA去除 湿法浸出 刻蚀
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未来制造业和加工业中的等离子体 被引量：10
12
作者 邱孝明 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 1998年第4期53-58,共6页
从两组元或三组元等离子体的一些基本性质出发，分析了等离子体在超大规模集成电路生产、扁平显示器技术、光导纤维生产和未来光计算机芯片制造、废物处理、新材料制备等中十分诱人的应用前景。
关键词 尘埃等离子体 鞘层 刻蚀 等离子体化学 库仑晶化
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低温等离子体对聚烯烃材料表面改性的研究 被引量：15
13
作者 张丽惠 陈亚芍 刘鹏 《塑料工业》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期17-20,共4页
用Ar、O2 、N2 、及Ar/O2 低温等离子体处理聚烯烃膜 ,通过接触角测量 ,观察了不同等离子体、不同处理条件对聚烯烃膜浸润性的影响。以X光电子能谱 (XPS)和显微扫描电镜 (SEM )等为手段 ,探讨并比较了不同等离子体对聚烯烃膜的表面改性... 用Ar、O2 、N2 、及Ar/O2 低温等离子体处理聚烯烃膜 ,通过接触角测量 ,观察了不同等离子体、不同处理条件对聚烯烃膜浸润性的影响。以X光电子能谱 (XPS)和显微扫描电镜 (SEM )等为手段 ,探讨并比较了不同等离子体对聚烯烃膜的表面改性及刻蚀作用。结果表明 :采用不同的等离子体处理的聚烯烃样品的亲水性提高程度不同 ,其中以Ar/O2 混合气体等离子处理的聚乙烯样品亲水性提高最大 ,O2 对聚四氟乙烯的刻蚀作用最强。 展开更多
关键词 低温等离子体 聚烯烃膜 表面改性 研究 刻蚀 亲水性
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XeCl准分子激光光束均匀器及其应用 被引量：15
14
作者 高鸿奕 楼祺洪 +3 位作者 董景星 宁东 魏运荣 叶震寰 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第10期1379-1382,共4页
采用光束均匀器，改善ＸｅＣｌ准分子激光器输出光束强度的分布，其起伏优于２％，用这一装置测量了Ｃ６０薄膜的刻蚀阈值。
关键词 准分子激光器 光束均匀器 刻蚀
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Al_2O_3陶瓷表面金属化 被引量：12
15
作者 沈伟 彭德全 沈晓丹 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期9-11,34,共4页
为了提高陶瓷与金属覆盖层的结合强度,较系统地研究了Al2O3(96%)陶瓷表面金属化过程,研究内容包括:陶瓷的表面刻蚀、表面催化、化学沉积条件等,综合分析了金属化层与陶瓷基体之间结合强度的影响因素,研究发现在熔融的NaOH浴中,可获得最... 为了提高陶瓷与金属覆盖层的结合强度,较系统地研究了Al2O3(96%)陶瓷表面金属化过程,研究内容包括:陶瓷的表面刻蚀、表面催化、化学沉积条件等,综合分析了金属化层与陶瓷基体之间结合强度的影响因素,研究发现在熔融的NaOH浴中,可获得最佳刻蚀表面形貌,Al2O3(96%)陶瓷基片上化学镀层的最佳结合强度为25.0～32.5 MPa.为开发性应用提供了建设性的意见. 展开更多
关键词 AL2O3陶瓷 刻蚀 催化 化学镀镍 表面金属化 表面形貌
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高亮度GaN基蓝色LED的研究进展 被引量：10
16
作者 文尚胜 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期10-17,共8页
超高亮度GaN基蓝色LED的发展将会引起照明技术的一场革命,它是目前全球半导体领域研究和投资的热点。本文综合分析了了GaN材料的特性及相应的材料生长和欧姆接触、刻蚀工艺等关键技术,并对GaN基蓝色LED器件的进一步改进及应用前景作了... 超高亮度GaN基蓝色LED的发展将会引起照明技术的一场革命,它是目前全球半导体领域研究和投资的热点。本文综合分析了了GaN材料的特性及相应的材料生长和欧姆接触、刻蚀工艺等关键技术,并对GaN基蓝色LED器件的进一步改进及应用前景作了展望。 展开更多
关键词 高亮度 GAN 蓝色LED 欧姆接触 刻蚀 发光二极管 氮化镓 发展现状 外延生长
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磁控溅射矩形靶磁场的优化设计 被引量：10
17
作者 石中兵 童洪辉 赵喜学 《真空与低温》 2004年第2期112-116,共5页
磁控溅射靶材的利用率在降低生产成本中起着重要作用。正交的靶电磁场能显著地延长电子的运动路程,增加同工作气体分子的碰撞几率,提高等离子体密度,使磁控溅射速率数量级的提高,因此靶面正交电磁场的分布将决定靶的烧蚀情况。提出了2... 磁控溅射靶材的利用率在降低生产成本中起着重要作用。正交的靶电磁场能显著地延长电子的运动路程,增加同工作气体分子的碰撞几率,提高等离子体密度,使磁控溅射速率数量级的提高,因此靶面正交电磁场的分布将决定靶的烧蚀情况。提出了2种改善矩形平面靶磁场分布的方法,经过分析,这2种设计将拓宽靶面的刻蚀范围,提高靶材的利用率。 展开更多
关键词 磁控溅射 几率 正交 矩形 电磁场 磁场分布 电子 刻蚀 等离子体密度 靶材
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低能离子束介导外源基因转化烟草的研究 被引量：8
18
作者 郑卫红 王瑜 余增亮 《激光生物学报》 CAS CSCD 2000年第4期241-245,共5页
以烟草 NC— 89种子为材料 ,用显微扫描电镜 ( ESM)和电子自旋共振 ( ESR)波谱仪研究氮离子束对烟草种子表面的刻蚀作用及能量沉积产生自由基的间接效应 ,为离子束介导转移外源基因提供了形态结构依据。将烟草种子用 2 0 Kev的氮离子束... 以烟草 NC— 89种子为材料 ,用显微扫描电镜 ( ESM)和电子自旋共振 ( ESR)波谱仪研究氮离子束对烟草种子表面的刻蚀作用及能量沉积产生自由基的间接效应 ,为离子束介导转移外源基因提供了形态结构依据。将烟草种子用 2 0 Kev的氮离子束处理后 ,浸入含有 PB 1 2 1质粒的缓冲介质中 ,在含有卡那霉素1 0 0 mg/ L的 MS0 培养基上继代筛选 ,得到 3株抗性植株。取抗性植株的叶片 ,经组织培养后得到再生抗性植株。经过 PCR及 southern杂交分析 。 展开更多
关键词 低能离子束 刻蚀 基因转移 烟草 外源基因转化
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水辅助准分子激光微加工硅的实验研究 被引量：11
19
作者 龙芋宏 熊良才 史铁林 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期567-569,共3页
为了研究脉冲激光在不同介质中的刻蚀特性,采用20ns短脉冲、248nm准分子激光(能量为150m J^250m J)分别在水和空气两种介质中对半导体单晶S i片进行微刻蚀实验研究。在实验的基础上,研究了两种介质中准分子激光刻蚀S i的刻蚀孔的基本形... 为了研究脉冲激光在不同介质中的刻蚀特性,采用20ns短脉冲、248nm准分子激光(能量为150m J^250m J)分别在水和空气两种介质中对半导体单晶S i片进行微刻蚀实验研究。在实验的基础上,研究了两种介质中准分子激光刻蚀S i的刻蚀孔的基本形貌和刻蚀速率,并对结果进行了对比分析。研究结果表明,水辅助激光微加工时,熔屑易从加工区排出,有助于提高加工的表面质量;同时,水的约束提高了冲击作用,使得刻蚀速率加快。 展开更多
关键词 激光技术 水辅助微加工 准分子激光 刻蚀 硅
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色谱/质谱联用法测定NF_3中微量CF_4 被引量：13
20
作者 张洪彬 韦桂欢 周升如 《质谱学报》 EI CAS CSCD 2001年第3期51-55,共5页
本文利用色谱 质谱联用技术对NF3中微量CF4进行了测定。采用选择离子监测 (SIM)方式测定 ,定量选择离子m z为 69,方法简单、准确、选择性好 ,CF4浓度在 55～ 550 0mg m3范围内与峰面积呈线性关系 ,方法最低检测浓度5.5mg m3,相对标准偏... 本文利用色谱 质谱联用技术对NF3中微量CF4进行了测定。采用选择离子监测 (SIM)方式测定 ,定量选择离子m z为 69,方法简单、准确、选择性好 ,CF4浓度在 55～ 550 0mg m3范围内与峰面积呈线性关系 ,方法最低检测浓度5.5mg m3,相对标准偏差 5.6%。 展开更多
关键词 色谱 质谱 选择离子监测 NF3 CF4 半导体 刻蚀 测定 联用技术 测定 刻蚀剂 电子工业 三氟化氮 四氟化碳
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