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HPC修饰纳米二氧化钛薄膜的微观结构和光学性能 被引量:1
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作者 赵高凌 田清华 韩高荣 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期246-249,共4页
用羟基纤维素(HPC)作为添加剂,用溶胶-凝胶法制备了二氧化钛薄膜.用扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察不同HPC含量的二氧化钛薄膜的微观结构,研究HPC对膜的微观结构的影响机理.用X射线衍射谱(XRD)分析不同薄膜样品的晶格常数.用吸收光... 用羟基纤维素(HPC)作为添加剂,用溶胶-凝胶法制备了二氧化钛薄膜.用扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察不同HPC含量的二氧化钛薄膜的微观结构,研究HPC对膜的微观结构的影响机理.用X射线衍射谱(XRD)分析不同薄膜样品的晶格常数.用吸收光谱观察薄膜光吸收端随HPC含量的变化.发现HPC的加入阻碍二氧化钛晶粒生长和减小膜厚两方面导致了二氧化钛晶格畸变,进而引起薄膜光吸收端的蓝移. 展开更多
关键词 二氧化钛薄膜 微观结构 晶格常数 光吸收
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nc-Si/SiO_2多层薄膜的三阶非线性光学性质
2
作者 郭震宁 郭亨群 +4 位作者 何江流 王加贤 张文珍 成步文 李世忱 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 2000年第4期359-361,共3页
用简并四波混频技术研究了 nc- Si/Si O2 多层薄膜的三阶非线性光学性质 ,观察到了位相共轭信号 ,测得实验用样品在光波波长为 5 89nm处的三阶非线性极化率χ( 3) 为 4.1× 10 - 7esu,并对该材料的光学非线性产生机理作了探讨。
关键词 nc-Si/SiO2薄膜 简并四波混频 光学非线性
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日盲系统紫外诱导滤光片的研制 被引量:12
3
作者 付秀华 寇洋 +2 位作者 刘冬梅 唐赫岳 王帅 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期174-177,共4页
紫外波段薄膜的研究在军事和民用领域都具有重要意义。国内外对该波段薄膜的研制多采用高、低折射率材料交替镀制的介质膜层结构,其缺点为对可见光截止度不好,易产生背景噪声。针对此问题从膜系设计理论出发,在对紫外薄膜材料特性、膜... 紫外波段薄膜的研究在军事和民用领域都具有重要意义。国内外对该波段薄膜的研制多采用高、低折射率材料交替镀制的介质膜层结构,其缺点为对可见光截止度不好,易产生背景噪声。针对此问题从膜系设计理论出发,在对紫外薄膜材料特性、膜系优化设计技术、沉积技术、测试技术等方面进行研究的基础上采用紫外诱导透射滤光片的结构,并通过反复的理论计算与模拟实验,优化了材料的工艺参数,最终制备出在265nm处透过、300~1000nm波段截止的紫外滤光片。 展开更多
关键词 薄膜 紫外诱导滤光片 紫外日盲
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高质量CVD金刚石膜的氧化损伤 被引量:3
4
作者 刘敬明 唐伟忠 吕反修 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期167-170,共4页
高质量CVD金刚石膜的高温损伤的研究是其高温应用的基础。抛光的金刚石膜经 780℃保温 3min后 ,红外透过和可见光的透过率开始下降 ;780℃保温 15min后 ,其红外透过和可见光的透过率严重受损。扫描电镜、原子力学显微镜及台阶仪的结果表... 高质量CVD金刚石膜的高温损伤的研究是其高温应用的基础。抛光的金刚石膜经 780℃保温 3min后 ,红外透过和可见光的透过率开始下降 ;780℃保温 15min后 ,其红外透过和可见光的透过率严重受损。扫描电镜、原子力学显微镜及台阶仪的结果表明 :CVD金刚石膜氧化的开始阶段主要集中在晶界、表面孔洞等缺陷处 ,随后导致金刚石膜的晶面也开始刻蚀 ,表面粗糙度增大 ,最终使得金刚石膜丧失红外和可见光的透过。 展开更多
关键词 金刚石膜 氧化 红外透过率 显微组织 高温损伤 CVD
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汉能薄膜:暴跌后的产业谜局
5
作者 李新 《能源评论》 2015年第7期68-70,共3页
一旦各大产业基地无法正常生产,汉能薄膜在民用光伏应用市场的销售隋况可能不妙,而没有对应的销售收入,在产业基地上大手笔的投资就更难收回成本,而利润业绩的影响,还将迅速反应到股价上来。
关键词 产业基地 薄膜 销售收入
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水浴温度对化学浴沉积制备的Cd_xZn_(1-x)S薄膜光电性能的影响
6
作者 焦静 沈鸿烈 李金泽 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期2051-2056,共6页
采用氯化镉,氯化锌,硫脲,柠檬酸钠和氨水构成的溶液体系通过化学浴沉积法合成CdxZn1-xS薄膜,采用SEM、EDS、XRD和紫外可见近红外分光光度计等表征手段研究了CdxZn1-xS薄膜的形貌、组分、相结构和光学性能,测试了薄膜的光电流响应曲线进... 采用氯化镉,氯化锌,硫脲,柠檬酸钠和氨水构成的溶液体系通过化学浴沉积法合成CdxZn1-xS薄膜,采用SEM、EDS、XRD和紫外可见近红外分光光度计等表征手段研究了CdxZn1-xS薄膜的形貌、组分、相结构和光学性能,测试了薄膜的光电流响应曲线进而对薄膜的光电性能进行了分析。结果表明,在65~85℃水浴温度下均可以制备CdxZn1-xS薄膜,随着水浴温度升高,薄膜中Zn的原子比例相对增加,光学带隙增大;制备的薄膜均显示了明显的光电导现象。75℃制备的薄膜的表面最为平整致密,结晶性最好,光学带隙为2.72 e V,光暗电导比为1.20;光源关闭后电流下降过程最快,关闭10 s后电流下降了约69.39%。 展开更多
关键词 化学浴沉积 CdxZn1-xS薄膜 光电流响应 光电导
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掺硼金刚石/硬质合金膜基结合和摩擦磨损性能的研究 被引量:3
7
作者 唐晓龙 徐锋 +3 位作者 徐俊华 叶鹏 吴海兵 左敦稳 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期181-185,共5页
金刚石刀具涂层在碳纤维复合材料等难加工材料高效加工方面有着广阔的应用前景。在热丝化学气相沉积系统通过气体掺硼,在硬质合金表面制备了掺硼金刚石涂层。通过SEM、Raman以及压痕测试对涂层的表面形貌、成分和膜基结合性能进行了测... 金刚石刀具涂层在碳纤维复合材料等难加工材料高效加工方面有着广阔的应用前景。在热丝化学气相沉积系统通过气体掺硼,在硬质合金表面制备了掺硼金刚石涂层。通过SEM、Raman以及压痕测试对涂层的表面形貌、成分和膜基结合性能进行了测试和分析;对涂层进行了摩擦磨损实验,研究了涂层不同环境温度下的摩擦系数及磨损率。结果表明,适量的硼掺杂可以细化金刚石晶粒,提高膜基结合力,降低摩擦系数并提高耐磨性,掺硼金刚石磨损率随温度的升高而增大,本文合适的掺硼浓度为3×10-3。 展开更多
关键词 掺硼金刚石 硬质合金 结合力 摩擦磨损
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Temperature coefficient of the refractive index for PbTe film
8
作者 徐嶺茂 周晖 +3 位作者 何延春 张凯锋 武生虎 熊玉卿 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第4期73-75,共3页
Specimens of PbTe single film are deposited on Ge substrates by vacuum thermal evaporation.During the temperature range of 80–300 K,the transmittance of a PbTe film within 2–15μm is measured every 20 K by the Perki... Specimens of PbTe single film are deposited on Ge substrates by vacuum thermal evaporation.During the temperature range of 80–300 K,the transmittance of a PbTe film within 2–15μm is measured every 20 K by the Perkin Elmer Fourier transform infrared spectroscopy cryogenic testing system.Then,the relationship between the refractive index and wavelength within 7–12μm at different temperatures is received by the full spectrum inversion method fitting.It can be seen that the relationship conforms to the Cauchy formula,which can be fitted.Then,the relationship between the refractive index of the PbTe film and the temperature/wavelength can be expressed as n(λ,T)=5.82840-0.00304T+4.61458×10-6T2+8.00280∕λ2+0.21544∕λ4,which is obtained by the fitting method based on the Cauchy formula.Finally,the designed value obtained by the formula and the measured spectrum are compared to verify the accuracy of the formula. 展开更多
关键词 PbTe refractive fitting evaporation transmittance fitted verify Elmer Cauchy inversion
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制膜技术与装置
9
《中国光学》 EI CAS 2002年第2期76-77,共2页
TB43 2002021346用于铁电存储器的 PZT 薄膜的制备与性能=Proper-ties of PZT thin films prepared by MOD methodfor ferroelectric memories[刊,中]/林殷茵,汤庭螯,黄维宁,宋浩然(复旦大学电子工程系微电子所.上海(200433))∥固体电... TB43 2002021346用于铁电存储器的 PZT 薄膜的制备与性能=Proper-ties of PZT thin films prepared by MOD methodfor ferroelectric memories[刊,中]/林殷茵,汤庭螯,黄维宁,宋浩然(复旦大学电子工程系微电子所.上海(200433))∥固体电子学研究与进展.—2001,21(2).—234-238。 展开更多
关键词 光学薄膜 铁电存储器 研究与进展 宽带膜厚监控 制备与性能 制备工艺 大口径 等离子辅助镀 等离子体辅助沉积 光催化活性
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THE EFFECT OF DIAMOND FILM NUCLEATION AND GROWTH IN DIFFERENT SUBSTRATE PRETREATMENT METHODS
10
作者 周健 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 1999年第3期48-52,共5页
The diamond film on single crystal silicon substrate in threekinds of substrate is deposited by pre- treatment method usingmicrowave plasma, the diamond film is analyzed using SEM and Raman,the reasons why substrate p... The diamond film on single crystal silicon substrate in threekinds of substrate is deposited by pre- treatment method usingmicrowave plasma, the diamond film is analyzed using SEM and Raman,the reasons why substrate pretreatment affects nucleation and growthare probed. The results show that substrate pretreatment di- rectlyaffects nucleation and growth of diamond film, ho- mogeneousnucleation and growth can be formed only in suitable pretreatmentmethod. 展开更多
关键词 microwave plasma diamond film substrate preteatment
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淀积气压对脉冲激光淀积La掺杂钛酸铅薄膜介电性能的影响
11
作者 胡大治 沈明荣 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期4405-4409,共5页
利用脉冲激光淀积法在Pt Ti SiO2 Si衬底上制备了 2 8mol%La掺杂钛酸铅薄膜 .采用不同的淀积氧气压 ,并分析了其对薄膜微观结构和介电性能的影响 .结果表明 ,在 2Pa左右的气压下淀积的薄膜具有好的结晶度和介电系数 .在频率为 10kHz时 ... 利用脉冲激光淀积法在Pt Ti SiO2 Si衬底上制备了 2 8mol%La掺杂钛酸铅薄膜 .采用不同的淀积氧气压 ,并分析了其对薄膜微观结构和介电性能的影响 .结果表明 ,在 2Pa左右的气压下淀积的薄膜具有好的结晶度和介电系数 .在频率为 10kHz时 2 8mol%La掺杂钛酸铅薄膜的介电系数达 85 2 ,并且保持了较低的损耗 .同时制备了其他La掺杂浓度的PbTiO3薄膜 ,发现它们也有类似的特点 . 展开更多
关键词 LA掺杂 薄膜 类似 PBTIO3 脉冲激光 钛酸铅 SIO2 介电性能 介电系数 损耗
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用六探针测量磁性薄膜的磁电阻率 被引量:4
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作者 陈建峰 龚小燕 阚敏 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1995年第4期434-437,共4页
本文介绍了用六探针测量无限大磁性薄膜的磁电阻率的方法,并讨论了探针因子Mr的值与探针相对位置的关系,找到测量所需的最佳参数.
关键词 探针 磁电阻效应 磁性薄膜 磁电阻率 测量
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氧离子辐照辅助沉积锆膜的组成特征
13
作者 黄宁康 汪德志 《核技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期212-215,共4页
采用双离子束技术制备Zr—O薄膜,由氩离子溅射沉积锆的同时进行氧离子辐照,对形成的Zr-O薄膜进行了RBS及XPS分析.结果表明,形成膜均由三部分组成:表面的碳沾污层,Zr-O体部分及膜与基体的界面过渡层.改变氧离子... 采用双离子束技术制备Zr—O薄膜,由氩离子溅射沉积锆的同时进行氧离子辐照,对形成的Zr-O薄膜进行了RBS及XPS分析.结果表明,形成膜均由三部分组成:表面的碳沾污层,Zr-O体部分及膜与基体的界面过渡层.改变氧离子束流密度,膜体部分的O/Zr原子比值由0升至2.3。碳沾污层及过渡层的厚度并不随氧离子束流的增加而变化。不同O/Zr比值膜的锆氧化物通过Zr的化学位移测量进行了鉴定。 展开更多
关键词 锆氧化膜 双离子束技术 组成特性
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大日本印刷开发出等离子电视屏防反射表面薄膜
14
《新材料产业》 2006年第2期81-82,共2页
大日本印刷日前开发成功了几乎没有外光反射的等离子电视屏表面薄膜。与原来通过AR(Anti-reflection)处理来防止反射的表面薄膜相比,能够以更低的成本供货。将从2006年3月开始,利用该公司冈山工厂的光学薄膜生产线量产。
关键词 表面薄膜 防反射 等离子 视屏 开发 印刷 日本 光学薄膜 光反射 生产线
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Nonlinear Shift of the Raman A1 Mode in Ga-Incorporated CuInSe2 Thin Films
15
作者 徐传明 孙云 +4 位作者 李凤岩 张力 薛玉明 何青 刘洪图 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第4期1002-1004,共3页
Composition dependence of quaternary CuIn1-x GaxSe2 films on Ga content has been systematically investigated by Raman scattering. The dominant A1 mode shifts from 174cm^-1 for CuInSe2 to 185cm^-1 for CuGaSe2 in an app... Composition dependence of quaternary CuIn1-x GaxSe2 films on Ga content has been systematically investigated by Raman scattering. The dominant A1 mode shifts from 174cm^-1 for CuInSe2 to 185cm^-1 for CuGaSe2 in an approximately polynomial curve other than a linear curve, indicating existence of asymmetric distribution of Ga and In on a microscopic scale in films. With Ga content x 〉 0.3, the significantly broadening and intensity decrease of A1 modes suggest the degradation of crystalline quality of chalcopyrite phase. Additionally, the quenching of additional Raman band at 183cm^-1 for the Ga-rich films reveals that CuAu-ordered phase can coexist in nominal chalcopyrite CuInSe2 films but not in CuGaSe2, due to Ga inhibition effect. 展开更多
关键词 CHALCOPYRITE SEMICONDUCTOR CUGAXIN1-XSE2 CUGASE2 SPECTRA
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SnO_2-Ag-SnO_2结构元件室温下对H_2S的敏感特性研究 被引量:1
16
作者 李莉 童茂松 翁爱华 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期950-952,共3页
以SnCl4和O2为源物质,采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)和浸渍法掺Ag技术制备了SnO2-Ag-SnO2结构薄膜,在20℃下该结构薄膜对H2S具有良好的气敏特性,即高灵敏度、良好的选择特性和开关式响应特性。
关键词 PECVD H2S气体传感器 气敏特性
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Dependence of Limited Growth Rate of High-Quality Gem Diamond on Growth Conditions 被引量:1
17
作者 田宇 马红安 +5 位作者 李尚升 肖宏宇 张亚飞 黄国峰 马利秋 贾晓鹏 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2007年第7期2115-2117,共3页
The growth rate of diamond has been investigated for a long time and researchers have been attempting to enhance the growth rate of high-quality gem diamond infinitely. However, it has been found according to previous... The growth rate of diamond has been investigated for a long time and researchers have been attempting to enhance the growth rate of high-quality gem diamond infinitely. However, it has been found according to previous research results that the quality of diamond is debased with the increase of growth rate. Thus, under specific conditions, the growth rate of high-quality diamond cannot exceed a limited value that is called the limited growth rate of diamond. We synthesize a series of type Ib gem diamonds by temperature gradient method under high pressure and high temperature (HPHT) using the as-grown {100} face. The dependence of limited growth rate on growth conditions is studied. The results show that the limited growth rate increases when synthetic temperature decreases, also when growth time is prolonged. 展开更多
关键词 SYNTHETIC DIAMOND CRYSTALS IMPURITIES
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化学溶液电沉积法制备Li2SiO3薄膜研究
18
作者 黄昕 余萍 +4 位作者 肖定全 田云飞 王辉 安红娜 谢瑞士 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A04期1675-1677,共3页
利用化学溶液电沉积方法,在阴极和阳极衬底材料上都成功制备出了单相的含氧酸盐硅酸锂(Li2SiO3)薄膜。探讨了该工艺下的实验反应机理。通过X射线衍射技术(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)分别表征研究了不同实验条件下薄膜的晶体结构... 利用化学溶液电沉积方法,在阴极和阳极衬底材料上都成功制备出了单相的含氧酸盐硅酸锂(Li2SiO3)薄膜。探讨了该工艺下的实验反应机理。通过X射线衍射技术(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)分别表征研究了不同实验条件下薄膜的晶体结构和表面形貌。研究结果表明,采用化学溶液电沉积法制备的Li2SiO3薄膜具有物相结构单一,表面形貌平整致密的特点。与制备Li2SiO3的传统方法相比,这一技术具有廉价、简单、低温等特点。 展开更多
关键词 硅酸锂 薄膜 化学溶液法
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La_(1-x)Ca_xMnO_3薄膜的Raman光谱
19
作者 Habe.,HU 张鹏翔 《光散射学报》 1997年第2期72-82,共11页
测量了13K到室温下外延生长的La1-xCaxMnO3薄膜的Raman光谱,发现当冷却样品穿过磁有序温度时,纯的和掺Ca2+的样品的一些Raman模式发生红移,而散射强度在转变点附近形成极大值。为了检查散射张量的对称... 测量了13K到室温下外延生长的La1-xCaxMnO3薄膜的Raman光谱,发现当冷却样品穿过磁有序温度时,纯的和掺Ca2+的样品的一些Raman模式发生红移,而散射强度在转变点附近形成极大值。为了检查散射张量的对称性,进行了左旋和右旋入射光偏振实验,发现当温度降低时,两种入射偏振下散射强度差明显增大,这表明散射过程中有磁激发涉入。 展开更多
关键词 LCMO 薄膜 拉曼光谱 红移 散射强度
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微晶硅薄膜高速沉积及电学性质的研究 被引量:1
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作者 申陈海 卢景霄 陈永生 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期7288-7293,共6页
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术在高功率密度和高压强条件下,通过改变硅烷浓度和气体总流量对薄膜沉积参数进行了两因素优化,最终在硅烷浓度为4.5%,气体总流量为100sccm条件下,获得沉积速率1.42nm/s,电导激活能0.4... 采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术在高功率密度和高压强条件下,通过改变硅烷浓度和气体总流量对薄膜沉积参数进行了两因素优化,最终在硅烷浓度为4.5%,气体总流量为100sccm条件下,获得沉积速率1.42nm/s,电导激活能0.47eV的优质硅薄膜;同时,通过单因素优化制备出沉积速率为2.1nm/s的微晶硅薄膜.利用晶粒间界势垒模型和费米能级统计偏移模型对薄膜的电学特性和传导行为分别进行了研究分析,同时初步分析了"后氧化"对薄膜电学性能的影响. 展开更多
关键词 μc-Si:H 甚高频等离子体增强化学气相沉积 高速沉积 电学特性
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