摘要
采用ＣＶＤ技术实现了Ａｌ２Ｏ３薄膜的数字化生长，实验结果表明这种生长方法具有生长温度低、层厚可控等特点，生长出的薄膜每周期生长厚度约为１．１９。
Abstract The digital growth of Al2O3 films is realized by CVD techniqe.The resultsshow that the method is with low temperature and contrullable thickness.The thickness ofeach growth cycle is about 1.19.
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第S1期167-169,共3页
Chinese Journal of Scientific Instrument
